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化學(xué)機械復(fù)合拋光硅片技術(shù)的基礎(chǔ)研究

發(fā)布時間:2016-10-30 20:12

  本文關(guān)鍵詞:超聲橢圓振動—化學(xué)機械復(fù)合拋光硅片技術(shù)的基礎(chǔ)研究,,由筆耕文化傳播整理發(fā)布。


《南京航空航天大學(xué)》 2008年

超聲橢圓振動—化學(xué)機械復(fù)合拋光硅片技術(shù)的基礎(chǔ)研究

楊衛(wèi)平  

【摘要】: 在深入分析國內(nèi)外化學(xué)機械拋光和超聲加工技術(shù)研究現(xiàn)狀的基礎(chǔ)上,針對硅片傳統(tǒng)化學(xué)機械拋光技術(shù)現(xiàn)狀及其存在問題,特別是隨著硅片直徑不斷增大,硅片拋光表面質(zhì)量和拋光效率成為一個亟待解決和提高的問題,提出了超聲橢圓振動—化學(xué)機械復(fù)合拋光硅片新技術(shù)的研究課題。該復(fù)合拋光技術(shù)是將超聲加工和化學(xué)機械拋光加工綜合為一體的新型加工技術(shù),它在傳統(tǒng)化學(xué)機械拋光基礎(chǔ)上,將超聲橢圓振動施加在拋光工具上,利用拋光工具產(chǎn)生的超聲橢圓振動,提高了化學(xué)機械拋光中所使用拋光液的效能,達到改善拋光效果的目的。本文通過試驗研究與理論分析相結(jié)合的方法,對復(fù)合拋光加工機理與工藝進行了深入研究,其主要研究內(nèi)容及創(chuàng)新點包括: 1.介紹了拋光工具超聲橢圓振動產(chǎn)生的工作原理,推導(dǎo)了拋光工具超聲橢圓運動的理論模型。研制了用于硅片表面及其邊緣拋光的拋光工具,并實際測試了拋光工具的頻率-阻抗特性和橢圓運動特性。 2.研制了能夠?qū)崿F(xiàn)傳統(tǒng)化學(xué)機械拋光,拋光工具做超聲縱向振動、超聲切向振動和超聲橢圓振動等不同振動方式的復(fù)合拋光方法的試驗系統(tǒng)。 3.基于化學(xué)機械拋光和超聲振動加工技術(shù),進行了復(fù)合拋光加工機理研究。應(yīng)用接觸力學(xué)理論,建立了硅片表面與拋光墊之間的接觸力學(xué)模型。在系統(tǒng)地研究化學(xué)機械拋光中各主要輸入?yún)?shù)對加工表面質(zhì)量影響的基礎(chǔ)上,建立了簡單實用的復(fù)合拋光材料去除率理論模型。對拋光工具做超聲縱向振動、超聲切向振動和超聲橢圓振動等三種復(fù)合拋光方法,進行了材料去除機理及加工表面質(zhì)量的理論研究,結(jié)果顯示拋光工具的超聲橢圓振動更有利于硅片綜合拋光效果的改善。 4.研究了一種在不破壞被加工件表面的情況下,對硅片等硬脆性材料微小去除量進行簡易、快速的測量方法。 5.進行了拋光工具的超聲性能、拋光壓力、拋光速度、拋光液供給量和拋光墊等,對硅片表面形貌、表面粗糙度和材料去除率等拋光試驗研究。 6.研究的超聲橢圓振動—化學(xué)機械復(fù)合拋光方法的工藝規(guī)律表明,在相同的拋光條件下,復(fù)合拋光技術(shù)與傳統(tǒng)化學(xué)機械拋光技術(shù)相比,拋光表面質(zhì)量明顯提高,材料去除率有較大增加,并且引入的描述拋光表面質(zhì)量的不平整率KR也得到明顯改善。 總之,復(fù)合拋光方法相對于傳統(tǒng)的化學(xué)機械拋光,無論在保證硅片拋光表面質(zhì)量還是材料去除率等方面都有了一定的提高,為豐富超精密加工理論、提高硬脆性材料的超精密加工技術(shù)等具有重要的理論意義和工程應(yīng)用價值。

【關(guān)鍵詞】:
【學(xué)位授予單位】:南京航空航天大學(xué)
【學(xué)位級別】:博士
【學(xué)位授予年份】:2008
【分類號】:TG662
【目錄】:

  • 摘要4-6
  • ABSTRACT6-15
  • 第一章 緒論15-36
  • 1.1 課題的來源及意義15-18
  • 1.1.1 課題的來源15
  • 1.1.2 課題的研究背景及意義15-18
  • 1.2 硅片拋光技術(shù)綜述18-34
  • 1.2.1 硅片及其制造技術(shù)18-22
  • 1.2.2 超聲加工技術(shù)22-26
  • 1.2.3 國內(nèi)外超聲復(fù)合加工研究現(xiàn)狀26-30
  • 1.2.4 國內(nèi)外化學(xué)機械拋光(CMP)技術(shù)研究現(xiàn)狀30-34
  • 1.3 本文的主要內(nèi)容34-36
  • 第二章 化學(xué)機械拋光及超聲振動加工機理36-56
  • 2.1 影響化學(xué)機械拋光表面質(zhì)量及材料去除率的因素36-39
  • 2.2 化學(xué)機械拋光的材料去除機理39-42
  • 2.2.1 化學(xué)作用機理40-41
  • 2.2.2 機械作用機理41-42
  • 2.3 化學(xué)機械拋光的材料去除機理模型研究42-53
  • 2.3.1 唯象學(xué)模型42-43
  • 2.3.2 接觸力學(xué)模型43-46
  • 2.3.3 流體動力學(xué)模型46-49
  • 2.3.4 接觸力學(xué)和流體力學(xué)原理的混合模型49-50
  • 2.3.5 分子量級微觀模型50-53
  • 2.4 超聲加工機理研究53-55
  • 2.5 本章小結(jié)55-56
  • 第三章超聲橢圓振動-化學(xué)機械復(fù)合拋光基本工藝規(guī)律試驗裝置56-70
  • 3.1 試驗裝置56-57
  • 3.2 拋光工具設(shè)計57-65
  • 3.2.1 拋光工具工作原理57-58
  • 3.2.2 拋光工具的振動模式58-61
  • 3.2.3 拋光工具橢圓運動的激振方法61-63
  • 3.2.4 拋光工具的結(jié)構(gòu)設(shè)計63-65
  • 3.3 拋光工具的性能65-68
  • 3.3.1 拋光工具頻率-阻抗特性曲線65
  • 3.3.2 拋光工具運動特性65-67
  • 3.3.3 拋光工具的作用力特性67-68
  • 3.4 本章小結(jié)68-70
  • 第四章超聲橢圓振動-化學(xué)機械復(fù)合拋光基本工藝規(guī)律試驗研究70-84
  • 4.1 試驗條件及試驗步驟70-71
  • 4.2 試驗研究71-82
  • 4.2.1 拋光表面形貌的試驗研究71-76
  • 4.2.2 拋光表面粗糙度的試驗研究76-79
  • 4.2.3 材料去除率的試驗研究79-82
  • 4.3 本章小結(jié)82-84
  • 第五章超聲橢圓振動-化學(xué)機械復(fù)合拋光的機理研究84-95
  • 5.1 硬脆性材料去除機理84-85
  • 5.2 超聲橢圓振動-化學(xué)機械復(fù)合拋光法接觸模型85-87
  • 5.3 超聲橢圓振動-化學(xué)機械復(fù)合拋光的材料去除理論模型87-92
  • 5.3.1 模型的假設(shè)87
  • 5.3.2 模型建立思路87-89
  • 5.3.3 模型建立89-92
  • 5.4 材料去除率理論模型的試驗驗證92-93
  • 5.5 本章小結(jié)93-95
  • 第六章超聲橢圓振動-化學(xué)機械復(fù)合拋光硅片邊緣的試驗裝置95-105
  • 6.1 硅片邊緣拋光試驗裝置95-96
  • 6.2 拋光工具設(shè)計96-102
  • 6.2.1 拋光工具工作面設(shè)計96-98
  • 6.2.2 拋光工具結(jié)構(gòu)尺寸設(shè)計98-100
  • 6.2.3 加工精度分析100-102
  • 6.3 拋光工具性能102-104
  • 6.3.1 拋光工具頻率-阻抗特性曲線102
  • 6.3.2 拋光工具運動特性102-104
  • 6.4 本章小結(jié)104-105
  • 第七章超聲橢圓振動-化學(xué)機械復(fù)合拋光硅片邊緣的試驗研究105-119
  • 7.1 試驗條件及試驗步驟105-106
  • 7.2 試驗數(shù)據(jù)處理方法106-107
  • 7.3 試驗結(jié)果及分析107-117
  • 7.3.1 拋光工具做不同超聲振動方式的試驗研究107-111
  • 7.3.2 拋光表面質(zhì)量的試驗研究111-115
  • 7.3.3 材料去除率的試驗研究115-117
  • 7.4 本章小結(jié)117-119
  • 第八章總結(jié)與展望119-121
  • 8.1 全文總結(jié)119-120
  • 8.2 研究展望120-121
  • 參考文獻121-132
  • 致謝132-133
  • 攻讀博士學(xué)位期間發(fā)表的論文133
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    本文編號:159417

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