本文關(guān)鍵詞：常壓化學(xué)氣相沉積法制備二氧化鈦薄膜的沉積工藝及薄膜均勻性，由筆耕文化傳播整理發(fā)布。

《中國真空學(xué)會2008年學(xué)術(shù)年會論文摘要集》2008年

薄膜均勻性的研究分析

劉興悅  干蜀毅  陳長琦  朱武  

【摘要】：薄膜技術(shù)在現(xiàn)代科學(xué)技術(shù)中的重要性與日俱增。薄膜均勻性是衡量薄膜質(zhì)量和鍍膜裝置性能的一項重要指標(biāo),它在光學(xué)、光電等器件的加工工藝中發(fā)揮著重要作用。本文介紹了在真空蒸發(fā)鍍膜中改善薄膜均勻性的方法。在對各種蒸發(fā)源所能沉積的膜厚公式進行理論推導(dǎo)的基礎(chǔ)上,著重分析了影響薄膜均勻性的各種因素以及改進措施;針對旋轉(zhuǎn)基片的鍍膜室,設(shè)計了精確的修正擋板形狀,從而改善了膜厚的均勻性。

【作者單位】：
【分類號】：TB383.2
【正文快照】：

薄膜均勻性的研究分析@劉興悅$合肥工業(yè)大學(xué)真空技術(shù)與裝備系!合肥,230009 @干蜀毅$合肥工業(yè)大學(xué)真空技術(shù)與裝備系!合肥,230009 @陳長琦$合肥工業(yè)大學(xué)真空技術(shù)與裝備系!合肥,230009 @朱武$合肥工業(yè)大學(xué)真空技術(shù)與裝備系!合肥,230009薄膜技術(shù)在現(xiàn)代科學(xué)技術(shù)中的重

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