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利用復(fù)合磨粒拋光液的硅片化學(xué)機械拋光

發(fā)布時間:2016-08-30 19:06

  本文關(guān)鍵詞:利用復(fù)合磨粒拋光液的硅片化學(xué)機械拋光,由筆耕文化傳播整理發(fā)布。


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文章編號。保埃埃椽玻梗玻矗兀ǎ玻埃埃梗埃藩玻保担福藩玻埃

第17卷 第7期

 光學(xué)精密工程

    

Vol.17 No.7 

Jul.2009

利用復(fù)合磨粒拋光液的硅片化學(xué)機械拋光

許雪峰,馬冰迅,黃亦申,彭 偉

(浙江工業(yè)大學(xué)機械制造及自動化教育部重點實驗室,浙江杭州310032)

摘要:為了提高硅片的拋光速率,,利用復(fù)合磨粒拋光液對硅片進行化學(xué)機械拋光。分析了SiO2磨粒與聚苯乙烯粒子在觀察到S溶液中的ζ電位及粒子間的相互作用機制,iO2磨粒吸附在聚苯乙烯及某種氨基樹脂粒子表面的現(xiàn)象。通過向單一磨粒拋光液中加入聚合物粒子的方法獲得了復(fù)合磨粒拋光液。對硅片傳統(tǒng)化學(xué)機械拋光與利用復(fù)合磨粒拋光液的化學(xué)機械拋光進行了拋光性能研究,提出了利用復(fù)合磨粒拋光液的化學(xué)機械拋光技術(shù)的材料去除機理,并分析了拋光工藝參數(shù)對拋光速率的影響。實驗結(jié)果顯示,利用單一S/;利用iO80nmmin2磨料拋光液對硅片進行拋光的拋光速率為1/SiO73nmmin和3242磨料與聚苯乙烯粒子或某氨基樹脂粒子形成的復(fù)合磨粒拋光液對硅片進行拋光的拋光速率分別為2/。結(jié)果表明,利用復(fù)合磨粒拋光液對硅片進行拋光提高了拋光速率,并可獲得犚nmmin.2nm的光滑表面。a為0關(guān) 鍵 詞:化學(xué)機械拋光;硅片;復(fù)合磨粒;聚合物粒子中圖分類號:TN305.2  文獻標(biāo)識碼:A

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修訂日期:20080805;20080927.  收稿日期:

浙江省自然科學(xué)基金資助項目()No.Y105551;No.Z1080625  基金項目:


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本文編號:105702

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