抗生素、農(nóng)藥和內(nèi)分泌干擾物等微量有機(jī)污染物已在飲用水源中被廣泛檢出。這些污染物可在人體內(nèi)富集,對人體產(chǎn)生急性毒性、內(nèi)分泌干擾效應(yīng)、耐藥性、致突變性或遺傳毒性等嚴(yán)重危害。臭氧/紫外（O₃/UV）工藝具有氧化能力強(qiáng),無需添加化學(xué)藥劑等優(yōu)點(diǎn),因而在去除微量有機(jī)污染物方面逐漸得到關(guān)注。然而,在現(xiàn)有的研究中,UV和O₃工藝都是在單工藝反應(yīng)裝置上（例如準(zhǔn)平行光束裝置和O₃發(fā)生器）進(jìn)行的,僅能研究單工藝（如UV輻照或O₃氧化）的降解動力學(xué)、各種因素的影響及反應(yīng)機(jī)理,無法評估UV和O₃之間的相互影響,即O₃/UV工藝。因此,開發(fā)創(chuàng)新的O₃/UV反應(yīng)裝置,了解O₃/UV對污染物的降解特性,將會為O₃/UV工藝降解有機(jī)污染物提供有效的理論指導(dǎo)。此外,真空紫外/紫外（VUV/UV）可光解水或O₃產(chǎn)生大量羥基自由基（HO^?）,已被認(rèn)為是一種新興的高效高級氧化技術(shù)UV光源。目...

【文章頁數(shù)】：57 頁

【學(xué)位級別】：碩士

【文章目錄】：
摘要
abstract
第一章 緒論
    1.1 有機(jī)物污染現(xiàn)狀
    1.2 有機(jī)污染物去除技術(shù)
        1.2.1 生物處理技術(shù)
        1.2.2 物理處理技術(shù)
        1.2.3 化學(xué)處理技術(shù)
    1.3 O₃/UV在水處理中的研究與應(yīng)用
    1.4 本課題的研究背景及內(nèi)容
        1.4.1 研究意義
        1.4.2 研究內(nèi)容
        1.4.3 技術(shù)路線圖
第二章 實(shí)驗(yàn)材料與方法
    2.1 化學(xué)藥劑
    2.2 實(shí)驗(yàn)儀器及設(shè)備
    2.3 分析檢測方法
        2.3.1 分光光度計(jì)法
        2.3.2 UPLC-MS/MS分析方法
        2.3.3 HPLC
第三章 O₃/UV細(xì)管流反應(yīng)裝置的開發(fā)
    3.1 引言
    3.2 O₃/UV細(xì)管流實(shí)驗(yàn)裝置
        3.2.1 O₃ 接觸裝置
        3.2.2 O₃/UV反應(yīng)裝置
    3.3 實(shí)驗(yàn)方法
    3.4 本章小結(jié)
第四章 基于流動式模塊化實(shí)驗(yàn)裝置探討臭氧/紫外工藝對污染物的降解
    4.1 引言
    4.2 目標(biāo)污染物
    4.3 結(jié)果與討論
        4.3.1 UV對目標(biāo)污染物的直接光解
        4.3.2 目標(biāo)污染物在O₃/UV工藝下的降解動力學(xué)
        4.3.3 O₃ 濃度對O₃/UV工藝降解污染物的影響
        4.3.4 剩余O₃濃度的變化
        4.3.5 pH對 O₃/UV工藝降解污染物的影響
        4.3.6 目標(biāo)污染物初始濃度對O₃/UV工藝的影響
    4.4 本章小結(jié)
第五章 VUV/UV光源對O₃/UV工藝降解污染物的強(qiáng)化效應(yīng)研究
    5.1 引言
    5.2 結(jié)果與討論
        5.2.1 VUV/UV對目標(biāo)污染物的光解
        5.2.2 VUV/UV光源對O₃/UV工藝的強(qiáng)化作用
        5.2.3 O₃ 濃度對O₃/VUV/UV工藝降解污染物的影響
        5.2.4 剩余O₃濃度的變化
        5.2.5 pH對 O₃/VUV/UV工藝降解目標(biāo)污染物的影響
        5.2.6 目標(biāo)污染物初始濃度對O₃/VUV/UV工藝的影響
        5.2.7 無機(jī)離子對O₃/VUV/UV工藝降解目標(biāo)污染物的影響
    5.3 本章小結(jié)
第六章 結(jié)論與展望
    6.1 結(jié)論
    6.2 創(chuàng)新點(diǎn)
    6.3 不足與展望
參考文獻(xiàn)
攻讀學(xué)位期間的研究成果
致謝



本文編號：4017715