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殼聚糖/CdS納米復(fù)合膜光催化降解甲基橙的研究

發(fā)布時(shí)間:2024-04-22 01:49
  在光催化技術(shù)應(yīng)用中,納米CdS是一種重要的Ⅱ~Ⅵ族無機(jī)半導(dǎo)體材料,在室溫下CdS禁帶寬度為2.42eV,具有獨(dú)特的光學(xué)、電學(xué)、磁學(xué)、力學(xué)以及催化等性能、制備生產(chǎn)成本較低,在眾多領(lǐng)域都有著巨大的應(yīng)用前景。但同時(shí)納米CdS也存在著化學(xué)性質(zhì)活潑,難以長(zhǎng)期保存,回收困難等問題,利用有機(jī)介質(zhì)作為其載體,對(duì)納米CdS進(jìn)行改性,可有效增強(qiáng)納米CdS的穩(wěn)定性。 本論文以天然高分子材料殼聚糖(CS)為模板,采用原位合成法成功地制備了殼聚糖/CdS納米復(fù)合膜,同時(shí),為了提高光催化利用率,分別制備了過渡金屬Cu2+、Mn2+和稀土元素La3+摻雜的殼聚糖/CdS納米復(fù)合膜,采用X-射線衍射(XRD)、TEM、FTIR、紫外-可見吸收光譜(UV-Vis)等測(cè)試手段對(duì)復(fù)合膜進(jìn)行結(jié)構(gòu)和物性表征。以紫外光、太陽(yáng)光為光源,甲基橙(MO)為目標(biāo)降解物,研究殼聚糖/CdS納米復(fù)合膜對(duì)于有機(jī)染料的光催化降解性能。討論了光照條件、反應(yīng)時(shí)間、催化劑投加量、染料初始濃度、反應(yīng)pH值等因素對(duì)光催化氧化降解反應(yīng)的影響,通過催化劑的回收再利用實(shí)驗(yàn),驗(yàn)證了光催化劑活性的可持續(xù)性。分析推測(cè)了殼聚糖/CdS納米復(fù)合膜摻雜改性前后的光催化降解...

【文章頁(yè)數(shù)】:53 頁(yè)

【學(xué)位級(jí)別】:碩士

【部分圖文】:

圖3.2殼聚糖/CdS納米復(fù)合膜的TEM圖

圖3.2殼聚糖/CdS納米復(fù)合膜的TEM圖

3.3.2TEM圖3.2殼聚糖/CdS納米復(fù)合膜的TEM圖圖3.2為殼聚糖/CdS納米復(fù)合膜的TEM照片。由圖可以觀察到清晰的CdS球形顆粒,粒徑尺寸為5nm左右,分布均勻,分散性較好。這表明殼聚糖膜有效阻止了納米顆粒的聚集,控制了納米CdS顆粒的生長(zhǎng)范圍,保持了納米....



本文編號(hào):3961749

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