本文研制、表征了兩種功能化磁性氧化石墨烯材料——As（Ⅲ）離子印跡聚合物修飾磁性氧化石墨烯和離子液體修飾磁性氧化石墨烯,用于水中As（Ⅲ）、As（V）的吸附去除,效果良好。主要內(nèi)容如下:1、As（Ⅲ）離子印跡聚合物修飾磁性氧化石墨烯的制備及對As（Ⅲ）的吸附性能以磁性氧化石墨烯作為載體,砷離子（As（Ⅲ））作為模板離子,3-巰基丙基三甲氧基硅烷（MPTS）作為功能單體,正硅酸乙酯（TEOS）作為交聯(lián)劑合成了As（Ⅲ）離子印跡磁性氧化石墨烯納米材料（MGO-IIP）。用同樣的方法合成相對應(yīng)的非印跡材料（MGO-NIP）做對比。使用掃描電子顯微鏡（SEM）、紅外光譜法（FTIR）、X-射線衍射法（XRD）和振動樣品磁強(qiáng)計（Vsm）對合成的材料進(jìn)行了表征。考察了MGO-IIP對As（Ⅲ）的吸附特性,探討了環(huán)境pH、吸附時間、溫度、初始溶液濃度、共存陰離子及材料的重復(fù)使用效果。結(jié)果表明:MGO-IIP對As（Ⅲ）的最大吸附量為148.1 mg·g^-1,僅20 min即可到達(dá)吸附平衡,印跡因子為2.35;吸附過程服從Langmuir模型和準(zhǔn)二級動力學(xué)模型,是自發(fā)的吸熱過程;... 

【文章來源】：廣東工業(yè)大學(xué)廣東省

【文章頁數(shù)】：74 頁

【學(xué)位級別】：碩士

【部分圖文】：

急性砷中毒癥狀Fig.1-1Symptomsofacutearsenicpoison

-2 中國己知和潛在砷污染地區(qū)。高砷污染區(qū)的特征一般是全新紀(jì)沉積物色），其中盆地受影響更嚴(yán)重。-2 Location of known and potential arsenic-affected basis in China. Arelevels of arsenic are characterized by Holocene sediments (green), wherbasins may be affected.的去除方法為砷化合物有很大的毒性并且在工業(yè)和農(nóng)業(yè)生產(chǎn)中廣泛被使用，砷染尤其是對水體的污染已經(jīng)引起世界范圍的關(guān)注。此外，由于天然當(dāng)前我國某些地方地下水的砷背景含量過高，已經(jīng)超過飲用水的最居民造成了慢性危害。據(jù)報道，在世界范圍內(nèi)通過各種路徑進(jìn)入到化合物每年約有 11 萬噸。因此，研究砷物質(zhì)去除技術(shù)對飲用水的凈的處理有實際意義。當(dāng)前的含砷水處理技術(shù)主要包括沉淀法[1]、

吸附容量為 38.03 mg·g-1。氧化石墨烯（GO）是石墨的關(guān)鍵衍生物，如圖1-3 所示，GO 結(jié)構(gòu)與分層石墨幾乎相同，但它引入了羥基、環(huán)氧基、羧基和羰基等官能團(tuán)。GO 與磁鐵礦納米粒子的結(jié)合可以增強(qiáng)磁場的分離效果[24]。磁性氧化石墨烯（MGO）和磁性還原氧化石墨烯（MRGO）已經(jīng)用于許多領(lǐng)域，包括對砷的吸附，它們具有較大的比表面積，良好的分散性和超順磁性[25-27]，圖 1-3 可以清晰的看到 GO 與 MGO 的空間結(jié)構(gòu)。朱[28]等人采用磁性氧化石墨烯復(fù)合材料去除 As(III)，吸附容量為 11.34 mg·g-1，吸附平衡時間為 120 min。Chandra[29]等人使用 MRGO 吸附 As(III)和 As(V)，在 pH=7 時 As(III)的吸附量約為 9 mg·g-1


本文編號：2902456