植物根表銅離子流檢測體系的建立與應(yīng)用
【學(xué)位單位】:揚(yáng)州大學(xué)
【學(xué)位級(jí)別】:碩士
【學(xué)位年份】:2019
【中圖分類】:X835;Q945
【部分圖文】:
鏡下將微電極的尖端對準(zhǔn)并接觸LIX液面,從尖端吸入CuLIX,長度約為40?50|im,須??確保Cu?LIX與灌充液之間無氣泡。在微電極的灌充液中插入Ag/AgCl絲,貝ij?Cu2+選擇性??玻璃微電極制作完成(圖2-1)。??Cu?LIX??灌沖液??圖2-1?Cu2'選擇性玻璃微電極??2.1.3?Cu2+選擇性微電極的校準(zhǔn)??于非損傷微測系統(tǒng)(北京旭月)上進(jìn)行離子選擇性微電極的校準(zhǔn)。將上述制作好的微??電極固定到電極夾持器上,并與NMT測試系統(tǒng)的前置信號(hào)放大器相連。將參比電極置于??固定架上,使尖端浸入校正溶液,調(diào)節(jié)微操縱儀將微電極尖端也浸入液面(圖2-2)。此??時(shí)可通過顯微成像和視頻采集系統(tǒng),確認(rèn)微電極尖端無破損,且CuLIX?zé)o泄漏。打幵測??定軟件iFlux,開始測定電勢,待讀數(shù)穩(wěn)定后記錄此時(shí)的電勢值。進(jìn)行Cu2+選擇性微電極??校準(zhǔn)時(shí),按照校正液濃度從高到低的順序依次測定。本試驗(yàn)中校正液為Cu(N03)2溶液,設(shè)??
鏡下將微電極的尖端對準(zhǔn)并接觸LIX液面,從尖端吸入CuLIX,長度約為40?50|im,須??確保Cu?LIX與灌充液之間無氣泡。在微電極的灌充液中插入Ag/AgCl絲,貝ij?Cu2+選擇性??玻璃微電極制作完成(圖2-1)。??Cu?LIX??灌沖液??圖2-1?Cu2'選擇性玻璃微電極??2.1.3?Cu2+選擇性微電極的校準(zhǔn)??于非損傷微測系統(tǒng)(北京旭月)上進(jìn)行離子選擇性微電極的校準(zhǔn)。將上述制作好的微??電極固定到電極夾持器上,并與NMT測試系統(tǒng)的前置信號(hào)放大器相連。將參比電極置于??固定架上,使尖端浸入校正溶液,調(diào)節(jié)微操縱儀將微電極尖端也浸入液面(圖2-2)。此??時(shí)可通過顯微成像和視頻采集系統(tǒng),確認(rèn)微電極尖端無破損,且CuLIX?zé)o泄漏。打幵測??定軟件iFlux,開始測定電勢,待讀數(shù)穩(wěn)定后記錄此時(shí)的電勢值。進(jìn)行Cu2+選擇性微電極??校準(zhǔn)時(shí),按照校正液濃度從高到低的順序依次測定。本試驗(yàn)中校正液為Cu(N03)2溶液,設(shè)??
?2.?2.?2?Cu2+選擇性微電極的校準(zhǔn)曲線??Cu2+選擇性微電極對Cu2+濃度的響應(yīng)情況如圖2-3所示^?LIX-A和LIX-B的Cu2+選擇??性微電極均對Cu2+濃度在較寬的范圍內(nèi)有響應(yīng),測得的電勢值隨著Cu2+濃度的增加而增??力口。LIX-A和LIX-B的電勢值隨Cu2+濃度的變化規(guī)律較為一致,不同之處在于前者的電勢??值較后者更高一些。??350?-1????300?-?11?'?"??,。-f?一^??*??I200'?I??150?-??!??100?-?—LIX-A??一?一?LIX-B??I?I?I?I?I?I?I ̄??0?2000?4000?6000?8000?10000?12000??C?(Cu)?(|41)??圖2-3?0^選擇性微電極對Cu2^濃度的響應(yīng)??不同Cu2+濃度下測得的電勢值與Cu2+濃度的對數(shù)間的關(guān)系可見圖2-4?梢钥闯,在??Cu2+濃度為0.5?10000?pM的范圍內(nèi),兩種Cu2+選擇性微電極測得的電勢值均與Cu2+濃度??的對數(shù)呈線性關(guān)系。LIX-A微電極的校準(zhǔn)曲線的相關(guān)性系數(shù)為〇_9902±0.0016,斜率為29.22??±0.76mV/decade,檢測限為0.85?pM;?LIX-B微電極的相關(guān)性系數(shù)為0_9745±0.0058,斜??率為29.15±0.63?111\7(^3(^
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本文編號(hào):2886267
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