過硫酸鹽的電合成及其在微蝕刻液循環(huán)再生中的應用研究
【學位單位】:哈爾濱工業(yè)大學
【學位級別】:碩士
【學位年份】:2019
【中圖分類】:X703
【部分圖文】:
彼此之間蝕刻速率沒有明顯差別。通過蝕刻速率的比較,從側面證實過硫酸鈉/硫酸微蝕刻劑基本實現(xiàn)完全再生,該循環(huán)再生系統(tǒng)將大大降低蝕刻成本,在 PCBs 制造領域有巨大的應用前景。5.1.4.2 蝕刻效果蝕刻效果是評價蝕刻性能的另一個重要指標,本實驗利用 SEM 觀察蝕刻前后銅表面的粗糙度,如圖 5-7 所示。a)原銅片 b)新鮮微蝕刻劑蝕刻的銅片
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本文編號:2875359
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