電感耦合等離子體發(fā)射光譜法測定鈹鹽中痕量硼
【部分圖文】:
為進(jìn)一步考察B182.641和B 208.959 nm兩條譜線是否適用于實(shí)際樣品的分析,對Be(OH)2,(NH4)2BeF4,Li2BeF43種鈹鹽進(jìn)行分析,使用標(biāo)準(zhǔn)加入法對硼進(jìn)行定量,具體配制方法見1.2.2節(jié),結(jié)果見表3。結(jié)果表明,B含量在0~120μg/L范圍,校正曲線的相關(guān)系數(shù)均在0.99以上,且B 208.959 nm的相關(guān)系數(shù)明顯優(yōu)于B 182.641 nm的。對比3種鈹鹽中硼的分析結(jié)果,發(fā)現(xiàn),(NH4)2BeF4和Li2BeF4熔鹽,兩條譜線分析結(jié)果基本一致,而對于Be(OH)2,有明顯差別。經(jīng)其它雜質(zhì)分析,發(fā)現(xiàn),Be(OH)2樣品中硫含量高達(dá)3.6%,而S 182.625 nm譜線與B 182.641 nm比較接近,大量硫的拖尾干擾了硼的準(zhǔn)確測定。2.4 外標(biāo)法分析的可行性
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本文編號(hào):2850420
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