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電感耦合等離子體發(fā)射光譜法測定鈹鹽中痕量硼

發(fā)布時(shí)間:2020-10-21 17:51
   建立了ICP-OES法測定鈹鹽中痕量硼的分析方法。鈹鹽樣品采用HNO_3超聲溶解后,直接測定。經(jīng)硼全譜分析,B 249.773 nm和B 249.677 nm受鈹干擾嚴(yán)重,無法使用。B 182.641 nm和B 208.959 nm可用于高純鈹鹽中B含量的分析,但B 182.641 nm不能用于硫含量高的鈹鹽樣品。B 182.641 nm和B 208.959 nm的檢出限分別為0.12 mg/kg和0.17 mg/kg,相對標(biāo)準(zhǔn)偏差小于2.8%,滿足核純級鈹鹽中痕量硼的分析需求。采用鈹鹽實(shí)際樣品對比了標(biāo)準(zhǔn)加入法和外標(biāo)法的測量差異,結(jié)果顯示,使用HNO_3(1+19)基體的外標(biāo)校正溶液,測量結(jié)果明顯低于標(biāo)準(zhǔn)加入法,相對偏差在-7.5%~-40%之間,不建議使用。
【部分圖文】:

譜線,基體,譜線,相關(guān)系數(shù)


為進(jìn)一步考察B182.641和B 208.959 nm兩條譜線是否適用于實(shí)際樣品的分析,對Be(OH)2,(NH4)2BeF4,Li2BeF43種鈹鹽進(jìn)行分析,使用標(biāo)準(zhǔn)加入法對硼進(jìn)行定量,具體配制方法見1.2.2節(jié),結(jié)果見表3。結(jié)果表明,B含量在0~120μg/L范圍,校正曲線的相關(guān)系數(shù)均在0.99以上,且B 208.959 nm的相關(guān)系數(shù)明顯優(yōu)于B 182.641 nm的。對比3種鈹鹽中硼的分析結(jié)果,發(fā)現(xiàn),(NH4)2BeF4和Li2BeF4熔鹽,兩條譜線分析結(jié)果基本一致,而對于Be(OH)2,有明顯差別。經(jīng)其它雜質(zhì)分析,發(fā)現(xiàn),Be(OH)2樣品中硫含量高達(dá)3.6%,而S 182.625 nm譜線與B 182.641 nm比較接近,大量硫的拖尾干擾了硼的準(zhǔn)確測定。2.4 外標(biāo)法分析的可行性
【相似文獻(xiàn)】

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本文編號(hào):2850420

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