基于潤(rùn)濕性能調(diào)控的粉煤灰復(fù)合填料制備研究
【圖文】:
在第一章中的相關(guān)研究進(jìn)展中已經(jīng)知道襯底對(duì)非均勻成核的發(fā)生與進(jìn)行具有重要的影響。Wenzel 模型理論能夠比較完整地解釋非均勻成核襯底的表面性質(zhì)。該理論引入界面粗糙度因子f來(lái)解釋晶體在實(shí)際的粗糙界面非均勻形核生長(zhǎng)的過(guò)程(如圖1-2所示),彌補(bǔ)了經(jīng)典形核理論中對(duì)基底界面的微觀結(jié)構(gòu)的忽略。圖 1-2 粗糙界面上的非均勻形核生長(zhǎng)[67]Wenzel 模型理論[68]在總結(jié)經(jīng)典形核理論的基礎(chǔ)之上給出了粗糙界面表觀潤(rùn)濕角θ*與本征潤(rùn)濕角θ的關(guān)系式(2-1)和非均勻形核功與界面潤(rùn)濕性的關(guān)系式(2-2)。(2-1)式中 f 為基底界面的粗糙度因子,為實(shí)際表面積與投影面積之比。(2-2)關(guān)系式 2-1 中解釋了晶體在基底界面上的潤(rùn)濕性能受基底界面的粗糙度影響,在關(guān)系式 2-2 中解釋了粗糙界面的潤(rùn)濕性與非均勻形核功的關(guān)系。Wenzel 模型重點(diǎn)強(qiáng)調(diào)了非均勻成核中作為異相成核的襯底的表面性質(zhì)對(duì)于非均勻形核生長(zhǎng)的影響。襯底表面的潤(rùn)濕性能將會(huì)影響非均勻形核發(fā)生的難易程度,而表面的粗糙性又將對(duì)襯底表面的潤(rùn)濕性能產(chǎn)生一定的影響。Wenzel 模型下將襯底表面分為可潤(rùn)濕和不可潤(rùn)濕兩個(gè)類型:對(duì)于可潤(rùn)濕界面,襯底的存在能夠降低非均勻形核的形成功,同時(shí)提高襯底表面的粗糙度,,將有利于非均勻形核形成與生長(zhǎng);對(duì)于不可潤(rùn)濕界面,則應(yīng)該降低表面的粗糙度進(jìn)而提高在其表面的非均勻形核發(fā)生生長(zhǎng)。因此,結(jié)合現(xiàn)有的碳酸鈣未能在粉煤灰表面完全包覆,粉煤灰表面部分裸
定相交界處界面和固體界面的夾角的角度測(cè)量法接觸角的三角函數(shù)獲得結(jié)果的長(zhǎng)度測(cè)量法;第三,根據(jù)力與角度的關(guān)系式得到結(jié)果的力測(cè)量法。法。在測(cè)量分析過(guò)程中,角度測(cè)量法,長(zhǎng)度測(cè)量觸角測(cè)量,而透過(guò)測(cè)量法主要用于固體粉末接觸定粉煤灰的接觸角。過(guò)測(cè)量法是基于粉體顆粒之間的空隙而形成的毛裝入特制的玻璃管(底部密封,只能透過(guò)液體而部接觸到液體時(shí),液體經(jīng)顆?障端纬傻拿(xì)高度,借助于公式 h=-2γcosθ/ρgr,式中 r 表示管半徑。但通常情況下該 r 值的大小無(wú)法直接測(cè)量液體進(jìn)行參照實(shí)驗(yàn)。
【學(xué)位授予單位】:華南理工大學(xué)
【學(xué)位級(jí)別】:碩士
【學(xué)位授予年份】:2019
【分類號(hào)】:X705;TS727.6
【參考文獻(xiàn)】
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本文編號(hào):2665389
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