臭氧氧化深度處理某工業(yè)園的印染廢水尾水
本文選題:臭氧 切入點(diǎn):GC/MS 出處:《環(huán)境工程學(xué)報》2016年11期
【摘要】:采用O_3氧化法深度處理印染廢水尾水。單因素實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明,提高O_3濃度有利于TOC與UV254的去除,提高至4 mg·L~(-1)后TOC與UV254去除率不再升高;TOC與UV254去除率隨反應(yīng)進(jìn)程逐漸升高,前10 min為快速反應(yīng)階段,此后為慢速分解階段;弱堿性環(huán)境有利于O_3的氧化作用。采用響應(yīng)面法獲得了O_3氧化在最佳條件(pH 8.76,O3濃度4.88mg·L~(-1),反應(yīng)60 min)下印染廢水尾水TOC和UV254去除率分別為22.85%和76.48%。TOC去除率遠(yuǎn)大于UV254去除率。該顯著差異表明,O_3能有效破壞含C=C和C=O雙鍵的簡單芳香族化合物結(jié)構(gòu),但對有機(jī)物礦化能力較差。GC-MS分析結(jié)果表明,印染廢水尾水中除含大量長鏈烷烴、鹵代烷烴、環(huán)狀烷烴外,還含有以甲苯,二甲苯為主以及少量難降解的萘、菲等苯系物;經(jīng)O_3氧化后,水中僅存少量殘留二甲苯,其余苯系物均未檢出。
[Abstract]:O-3 oxidation process was used to treat printing and dyeing wastewater tailings.The results of univariate experiments showed that the removal of TOC and UV254 was beneficial to the removal of TOC and UV254 by increasing the concentration of ostane 3, and the removal rate of TOC and UV254 was no longer increased after the increase to 4 mg / L ~ (-1). The removal rate of TOC and UV254 increased gradually with the reaction process, and the first 10 min was a rapid reaction stage.After that, the decomposition stage is slow and the weak alkaline environment is favorable to the oxidation of O _ 3.The removal rates of TOC and UV254 in printing and dyeing wastewater were 22.85% and 22.85%, respectively, and the removal rate of 76.48%.TOC was much higher than that of UV254 under the optimum conditions of pH 8.76 O _ 3 concentration 4.88mg L ~ (-1) ~ (-1), reaction time 60 min, respectively, by using response surface method.The significant difference indicated that the structure of simple aromatic compounds containing Con C and Con O double bonds could be destroyed effectively, but the mineralizing ability of organic matter was poor. GC-MS analysis showed that the tailings of printing and dyeing wastewater contained a large number of long chain alkanes, halogenated alkanes and cyclic alkanes, and the results of GC-MS analysis showed that, in addition to long chain alkanes, halogenated alkanes and cyclic alkanes in the tailings of printing and dyeing wastewater,It also contains toluene, xylene and a small amount of refractory naphthalene, phenanthrene, etc. After oxidation by O _ 3, only a small amount of residual xylene is left in the water, while none of the other benzene series is detected.
【作者單位】: 華南理工大學(xué)環(huán)境與能源學(xué)院工業(yè)聚集區(qū)污染控制與生態(tài)修復(fù)教育部重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室;
【基金】:國家自然科學(xué)基金資助項(xiàng)目(21277050)
【分類號】:X791
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,本文編號:1707609
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