鎂合金微弧氧化膜的形成過程及腐蝕行為研究
【學(xué)位單位】:中國科學(xué)院研究生院(海洋研究所)
【學(xué)位級別】:博士
【學(xué)位年份】:2005
【中圖分類】:P734
【部分圖文】:
圖 2.1 鎂合金微弧氧化裝置圖源 2.控制器 3.攪拌器 4.工作電極 5.輔助電極 6.氧化槽 7.冷卻槽 8.電解水浴Fig 2.1 Schematic diagram of micro-arc oxidation setup
還會影響膜層的表面形貌。如圖2.6 所示,溫度不同,氧化陶瓷層的表面形貌差別比較大。氧化液溫度越高,膜層的表面越粗糙,放電形成的孔洞也越大,致密性越差。同時,可以看出氧化液溫度越高,鎂合金表面氧化膜的生長越不均勻。這與氧化液溫度高,電擊穿過程中產(chǎn)生的高熱量不易散出,膜層內(nèi)部因高溫作用而熔融的物質(zhì)冷卻速率低,不易冷卻凝結(jié)有關(guān)。熔融物難于凝結(jié),局部長時間持續(xù)放電氧化,使得電極表面電流密度分布不均勻,導(dǎo)致膜層的生長速度不均勻。相比而言,氧化液溫度不超過 20℃,得到的氧化膜表面比較
圖 2.8 氧化液體積/電極面積比對膜層表面形貌的影響(a) 50ml (b) 100ml (c) 200ml (d) 300ml (e) 1000mlFig.2.8 Effects of the ratio of solution volume to anode area on the morphologies of ceramic c(a) 50ml (b) 100ml (c) 200ml (d) 300ml (e) 1000ml
【引證文獻】
相關(guān)博士學(xué)位論文 前4條
1 尚偉;AZ91D鎂合金微弧氧化—溶膠凝膠復(fù)合膜層制備及其耐蝕性[D];中南大學(xué);2011年
2 劉渝萍;基于半導(dǎo)體電化學(xué)理論的鎂合金陽極氧化成膜機制研究[D];重慶大學(xué);2011年
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1 易傳貴;鈦合金表面高溫高發(fā)射率膜層的制備及剪切性能研究[D];哈爾濱工業(yè)大學(xué);2010年
2 袁芳;鎂合金與鋁合金連接腐蝕行為的研究[D];西安理工大學(xué);2006年
3 陳昌華;鎂合金環(huán)保型等離子體電解氧化工藝及膜層性能研究[D];西華大學(xué);2008年
4 李玲玲;AZ91、AZ31和AM60鎂合金微弧氧化工藝及膜層性能的研究[D];湖南大學(xué);2008年
5 楊飛;鎂合金微弧電泳復(fù)合膜層的結(jié)合力與耐蝕性研究[D];西安理工大學(xué);2008年
6 陳娟;鎂鋅基合金表面復(fù)合涂層制備及生物特性研究[D];鄭州大學(xué);2009年
7 楊瀟薇;鎂鋰合金陽極氧化成膜及其耐蝕性能研究[D];哈爾濱工程大學(xué);2009年
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9 宮偉興;鎂合金與鎂基復(fù)合材料微弧氧化涂層的制備及其耐蝕性研究[D];哈爾濱工程大學(xué);2012年
10 趙瑞強;溶膠涂覆與微弧氧化制備鎂合金陶瓷膜的研究[D];沈陽理工大學(xué);2012年
本文編號:2807429
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