基于PLIF技術(shù)的天然氣噴射流場(chǎng)摩爾濃度特性
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【部分圖文】:
圖1試驗(yàn)系統(tǒng)總成示意
篤?沽Γ??射氣體為CH4(天然氣組分變動(dòng)很大,但CH4含量在80%以上、二者有著極為接近的理化特性),噴氣壓力為0.5~0.8MPa,并對(duì)同一工況的同一時(shí)刻進(jìn)行10次拍攝之后進(jìn)行圖像平均處理,以消除噴射的隨機(jī)誤差.為了簡(jiǎn)化參數(shù)設(shè)置,直接將氣源表壓作為自變量,雖然噴管出口處氣壓會(huì)....
圖2射流摩爾濃度特性參數(shù)
源、溫度為27℃左右時(shí),壓力與溫度對(duì)丙酮熒光特性的影響可以忽略不計(jì)[19].圖1試驗(yàn)系統(tǒng)總成示意Fig.1Diagramofexperimentalsystemcomposition表1試驗(yàn)主要參數(shù)Tab.1Experimentalmainparameters參數(shù)數(shù)值噴管長(zhǎng)度/m....
圖2射流摩爾濃度特性參數(shù)
源、溫度為27℃左右時(shí),壓力與溫度對(duì)丙酮熒光特性的影響可以忽略不計(jì)[19].圖1試驗(yàn)系統(tǒng)總成示意Fig.1Diagramofexperimentalsystemcomposition表1試驗(yàn)主要參數(shù)Tab.1Experimentalmainparameters參數(shù)數(shù)值噴管長(zhǎng)度/m....
圖6噴射后0.1ms和0.4ms時(shí)的軸心摩爾濃度分布
0.1ms、此時(shí)射流已完成初始流場(chǎng)的建立.噴口下游1mm處的摩爾濃度逐漸上升是由噴口處流體密度過高而造成的的多重散射現(xiàn)象引起的,屬于PLIF技術(shù)本身的性質(zhì),并非試驗(yàn)誤差[25].此時(shí)的摩爾濃度波動(dòng)是氣閥開啟時(shí)氣流不穩(wěn)定造成的,并非是激波現(xiàn)象;噴射后0.4ms,此時(shí)的射流已經(jīng)穩(wěn)定在....
本文編號(hào):3928806
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