淺談地籍測(cè)繪技術(shù)在不同環(huán)境下的施測(cè)精度問(wèn)題
本文選題:地籍測(cè)繪技術(shù) + 施測(cè)精度 ; 參考:《黑龍江科技信息》2016年34期
【摘要】:地籍測(cè)繪技術(shù)是保證施測(cè)精度的重要依據(jù),為全面提高地籍測(cè)繪的質(zhì)量和效率,對(duì)地籍測(cè)繪基本精度要求入手,分別探討各項(xiàng)地籍測(cè)繪技術(shù)的實(shí)際應(yīng)用情況,進(jìn)一步分析在不同的環(huán)境下各項(xiàng)地籍測(cè)繪技術(shù)的施測(cè)精度,以不斷創(chuàng)新技術(shù)形式,確保地籍測(cè)繪技術(shù)的實(shí)際應(yīng)用價(jià)值得到最大程度的發(fā)揮,推進(jìn)地籍測(cè)繪工作的順利高效進(jìn)行。
[Abstract]:Cadastral surveying and mapping technology is an important basis for ensuring surveying precision. In order to improve the quality and efficiency of cadastral surveying and mapping, the practical application of cadastral surveying and mapping technology is discussed respectively, starting with the basic precision requirements of cadastral surveying and mapping. This paper further analyzes the surveying accuracy of cadastral surveying and mapping technology in different environments, in order to make sure that the practical application value of cadastral surveying and mapping technology is brought into full play in order to promote the cadastral surveying and mapping work smoothly and efficiently.
【作者單位】: 福建省測(cè)繪院測(cè)繪工程分院;
【分類號(hào)】:P271
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,本文編號(hào):1797089
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