本文關鍵詞：反應離子束刻蝕石英同質掩模制作小階梯光柵

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【摘要】：離子束刻蝕作為真空技術的一種重要應用,已廣泛運用于現(xiàn)代微電子器件和微光學器件的制作工藝中。本文結合反應離子束刻蝕與全息光刻技術,針對線密度較低的小階梯光柵,傾斜刻蝕石英同質掩模,制作了三種在紫外光和可見光波段透射閃耀的小階梯光柵。第一種光柵線密度為360lp/mm,閃耀角16.8°,在325nm波長的透射衍射效率為74%;第二種和第三種光柵線密度均為400lp/mm,閃耀角為34.7°和43°,其在632.8nm波長的透射衍射效率分別為63%和57%。結果表明,使用CHF_3作為刻蝕氣體的反應離子束刻蝕石英同質掩模,所制作的小階梯光柵在其工作波段透射閃耀的衍射效率為理論值的75%以上,為全息離子束制作低線密度大閃耀角的光柵提供參考。
【作者單位】： 中國科學技術大學國家同步輻射實驗室;
【關鍵詞】： 小階梯光柵 反應離子束刻蝕 閃耀角 衍射效率
【分類號】：TN25
【正文快照】： 小階梯光柵光譜儀廣泛運用于大型光學天文望遠鏡,對于提高天文望遠鏡的分辨率起到關鍵性作用。其工作波段較寬,通常針對各個波段有對應不同參數(shù)的光柵提供相應的工作模式以便切換或同時覆蓋整個波長。根據(jù)光譜儀設計的不同,所需小階梯光柵線密度較低且閃耀角變化范圍比較大[1-

【相似文獻】

中國期刊全文數(shù)據(jù)庫 前10條

1 劉穎;徐德權;徐向東;周小為;洪義麟;付紹軍;;幾種常用光學材料的離子束刻蝕特性研究[J];中國科學技術大學學報;2007年Z1期

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本文編號：979008