本文關(guān)鍵詞：聚焦離子束微納加工的濺射刻蝕工藝模型研究

  更多相關(guān)文章： 聚焦離子束刻蝕 連續(xù)元胞自動(dòng)機(jī) 再沉積效應(yīng) 工藝模型

【摘要】：提出基于連續(xù)元胞自動(dòng)機(jī)的聚焦離子束濺射刻蝕工藝模型,該模型可以有效引入實(shí)際工藝參數(shù)和掃描策略,建立濺射與再沉積方程,準(zhǔn)確地表達(dá)離子束加工導(dǎo)致的濺射和再沉積效應(yīng),精確地描述這些效應(yīng)導(dǎo)致的表面結(jié)構(gòu)演化過(guò)程。在多種工藝因素和掃描策略的條件下,工藝模型的計(jì)算結(jié)果中,濺射刻蝕與再沉積效應(yīng)能夠與試驗(yàn)現(xiàn)象一致。加工截面輪廓的模擬結(jié)果,刻蝕深度隨時(shí)間變化相對(duì)誤差小于8%,精度高于現(xiàn)有的模型,驗(yàn)證了模型的有效性。連續(xù)元胞自動(dòng)機(jī)模型不僅具備計(jì)算精度高的特點(diǎn),而且有更好的可視化輸出效果,為聚焦離子束加工微納結(jié)構(gòu)提供工藝參數(shù)優(yōu)化方法。
【作者單位】： 東南大學(xué)機(jī)械工程學(xué)院;
【關(guān)鍵詞】： 聚焦離子束刻蝕 連續(xù)元胞自動(dòng)機(jī) 再沉積效應(yīng) 工藝模型
【基金】：國(guó)家自然科學(xué)基金資助項(xiàng)目(51375093)
【分類號(hào)】：TN305.7
【正文快照】： 0前言*聚焦離子束技術(shù)(Focused ion beam,FIB)是通過(guò)透鏡系統(tǒng)將液態(tài)離子源(Liquid metal ion source,LMIS)發(fā)射的離子聚焦并轟擊于材料表面,實(shí)現(xiàn)材料在亞微米和納米尺度進(jìn)行加工的工藝。作為FIB最重要的功能之一,離子濺射刻蝕加工可以簡(jiǎn)單直觀高分辨率地加工出曲面與空腔等各

【相似文獻(xiàn)】

中國(guó)期刊全文數(shù)據(jù)庫(kù) 前4條

1 胡作啟,李佐宜,熊銳,楊曉非;磁控靶濺射刻蝕的模擬研究[J];華中理工大學(xué)學(xué)報(bào);1997年11期

2 畢建華，俞學(xué)東，陸家和;亞微米聚焦離子束濺射刻蝕的實(shí)驗(yàn)研究[J];微細(xì)加工技術(shù);1996年02期

3 胡學(xué)駿,趙永龍,張江陵;利用高頻濺射刻蝕光刻伺服盤(pán)工藝參數(shù)的確定[J];微細(xì)加工技術(shù);1993年03期

4 ;[J];;年期

中國(guó)重要會(huì)議論文全文數(shù)據(jù)庫(kù) 前1條

1 劉鵬;黃慶;徐雪峰;顏莎;王雪林;;FIB系統(tǒng)濺射刻蝕KTP及LiNbO3晶體微結(jié)構(gòu)的性能研究[A];2010全國(guó)荷電粒子源、粒子束學(xué)術(shù)會(huì)議論文集[C];2010年

中國(guó)碩士學(xué)位論文全文數(shù)據(jù)庫(kù) 前1條

1 饒杰;二維硅納米模具的制作工藝研究[D];大連理工大學(xué);2010年

，

本文編號(hào)：966030