本文關(guān)鍵詞：SU-8光刻膠應(yīng)變分布光學(xué)全場檢測方法

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【摘要】：由于SU-8光刻膠的內(nèi)應(yīng)力將會影響高深寬比結(jié)構(gòu)的全金屬光柵的制作質(zhì)量,本文針對近年來SU-8光刻膠應(yīng)力測量困難的情況,提出了一種基于激光剪切散斑干涉技術(shù)的SU-8光刻膠應(yīng)變分布測量的新方法。該方法通過對被測膠體加載前后兩幅干涉圖像的處理,直接得到被測膠體結(jié)構(gòu)的全場應(yīng)變分布情況,由膠體的應(yīng)變變形數(shù)據(jù)即可反映出內(nèi)應(yīng)力的變化和分布趨勢。同時(shí)使用ANSYS有限元分析軟件對同一被測膠體進(jìn)行應(yīng)變仿真模擬研究,獲得膠體結(jié)構(gòu)的變形場仿真數(shù)據(jù)。組建了實(shí)驗(yàn)系統(tǒng),進(jìn)行了實(shí)驗(yàn)驗(yàn)證,結(jié)果表明:實(shí)際測量變形量約為1.189μm,仿真的最大變形量為1.088μm,測量誤差在允許范圍內(nèi),且測量的形變趨勢與仿真模擬結(jié)果相一致,表明激光剪切散斑干涉技術(shù)可應(yīng)用于SU-8光刻膠的應(yīng)變分布全場無損檢測。
【作者單位】： 合肥工業(yè)大學(xué)儀器科學(xué)與光電工程學(xué)院;
【關(guān)鍵詞】： 剪切散斑干涉 SU-光刻膠 應(yīng)力分布 應(yīng)變 仿真模擬
【基金】：國家自然科學(xué)基金資助項(xiàng)目(No.51375136) 中航產(chǎn)學(xué)研專項(xiàng)資助項(xiàng)目(No.CXY2013HFGD22)~~
【分類號】：TN305.7
【正文快照】： 1引言SU-8光刻膠是一種樹脂型的高聚合物,因?yàn)槠渚哂辛己玫臋C(jī)械、物理、力學(xué)、光學(xué)等性能,從而成為制作高深寬比結(jié)構(gòu)的全金屬光柵的首選膠[1]。但是,在光刻工藝中,SU-8膠會產(chǎn)生較大的內(nèi)應(yīng)力,從而導(dǎo)致SU-8膠膠層出現(xiàn)裂紋或從基片上脫落,破壞其圖形結(jié)構(gòu)的質(zhì)量和穩(wěn)定性。因此,SU-

【參考文獻(xiàn)】

中國期刊全文數(shù)據(jù)庫 前7條

1 王永紅;馮家亞;王鑫;劉佩;李駿睿;楊連祥;;基于狹縫光闌的剪切散斑干涉動態(tài)測量[J];光學(xué)精密工程;2015年03期

2 王永紅;李駿睿;孫建飛;劉佩;楊連祥;;散斑干涉相位條紋圖的頻域?yàn)V波處理[J];中國光學(xué);2014年03期

3 單云沖;阮久福;楊軍;鄧光晟;呂國強(qiáng);;太赫茲金屬雙光柵超厚膠光刻工藝[J];強(qiáng)激光與粒子束;2014年05期

4 王永紅;梁恒;王碩;張浩;楊連祥;;數(shù)字散斑相關(guān)方法及應(yīng)用進(jìn)展[J];中國光學(xué);2013年04期

5 楊連祥;祝連慶;謝辛;董明利;吳思進(jìn);;電子散斑干涉測量中相移技術(shù)的新發(fā)展[J];北京信息科技大學(xué)學(xué)報(bào)(自然科學(xué)版);2013年02期

6 杜立群;朱神渺;;微機(jī)電系統(tǒng)中SU-8厚光刻膠的內(nèi)應(yīng)力研究[J];光學(xué)精密工程;2007年09期

7 張立國,陳迪,楊帆,李以貴;SU-8膠光刻工藝研究[J];光學(xué)精密工程;2002年03期

【共引文獻(xiàn)】

中國期刊全文數(shù)據(jù)庫 前10條

1 王鑫;王永紅;呂有斌;盧怡如;涂思琪;;SU-8光刻膠應(yīng)變分布光學(xué)全場檢測方法[J];中國光學(xué);2016年03期

2 王希軍;;納米磁流體動態(tài)散斑干涉場的奇異場分布[J];中國光學(xué);2015年06期

3 王延?xùn)|;楊春雷;董文輝;;SINS初始對準(zhǔn)中光纖陀螺EMD濾波[J];中國光學(xué);2015年06期

4 陳冬雪;劉桂雄;彭艷華;鐘浩;曾啟林;;輪胎激光散斑干涉相位圖多方向頻域?yàn)V波方法[J];中國測試;2015年11期

5 盧怡如;張稱;阮久福;楊軍;鄧光晟;呂國強(qiáng);;太赫茲全金屬光柵工藝中光刻膠內(nèi)應(yīng)力[J];強(qiáng)激光與粒子束;2015年11期

6 趙龍;張斌珍;段俊萍;崔建利;;基于紫外厚膠的微懸臂結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)與加工[J];科學(xué)技術(shù)與工程;2015年30期

7 馬雅麗;劉文開;路學(xué)成;劉沖;;UV-LIGA工藝制作微注塑模具型腔[J];大連理工大學(xué)學(xué)報(bào);2015年05期

8 鄒廣平;汪艷偉;唱忠良;周^j^j;;基于數(shù)字散斑相關(guān)法的緊湊拉伸試樣斷裂韌性實(shí)驗(yàn)研究[J];實(shí)驗(yàn)力學(xué);2015年03期

9 李娜;曹一平;張瑋瑩;劉繼延;尤慶亮;于潔;申超;郭文勇;;紫外光固化在微流控芯片技術(shù)中的應(yīng)用研究進(jìn)展[J];江漢大學(xué)學(xué)報(bào)(自然科學(xué)版);2015年02期

10 孔維鵬;王度;郭超;陳晨;李賾宇;羅振飛;周遜;;光泵THz激光器復(fù)合型輸出耦合鏡的設(shè)計(jì)和研究[J];強(qiáng)激光與粒子束;2015年04期

【二級參考文獻(xiàn)】

中國期刊全文數(shù)據(jù)庫 前10條

1 王永紅;李駿睿;孫建飛;劉佩;楊連祥;;散斑干涉相位條紋圖的頻域?yàn)V波處理[J];中國光學(xué);2014年03期

2 朱猛;李翔宇;龍寧波;黃戰(zhàn)華;;大視場雙縫載頻散斑干涉成像檢測系統(tǒng)[J];光學(xué)精密工程;2014年01期

3 王永紅;梁恒;王碩;張浩;楊連祥;;數(shù)字散斑相關(guān)方法及應(yīng)用進(jìn)展[J];中國光學(xué);2013年04期

4 朱猛;李翔宇;黃戰(zhàn)華;李宏躍;;雙孔載頻剪切散斑干涉法測量表面動態(tài)形變[J];光學(xué)精密工程;2013年07期

5 高珊;馬艷會;;基于邊緣保持的SAR圖像濾波算法研究[J];液晶與顯示;2013年02期

6 楊連祥;祝連慶;謝辛;董明利;吳思進(jìn);;電子散斑干涉測量中相移技術(shù)的新發(fā)展[J];北京信息科技大學(xué)學(xué)報(bào)(自然科學(xué)版);2013年02期

7 蔡懷宇;李宏躍;朱猛;黃戰(zhàn)華;;用空間載頻法測量玻璃平板的厚度均勻性[J];光學(xué)精密工程;2013年02期

8 劉仁臣;吳永剛;夏子奐;王振華;唐平林;梁釗銘;;濕法和溶脫法的亞微米ZnO:Al光柵制備[J];強(qiáng)激光與粒子束;2012年11期

9 羅躍川;張繼成;;硅基支撐系統(tǒng)的光刻工藝[J];強(qiáng)激光與粒子束;2012年11期

10 劉曉輝;汪敏;李們;戚曉利;;噪聲對數(shù)字圖像相關(guān)法計(jì)算結(jié)果的影響研究[J];光學(xué)與光電技術(shù);2012年04期

【相似文獻(xiàn)】

中國期刊全文數(shù)據(jù)庫 前10條

1 ;180nm及更深技術(shù)中去除過度注入光刻膠的干剝離工藝(英文)[J];半導(dǎo)體技術(shù);2003年05期

2 穆啟道;曹立新;;光刻技術(shù)的發(fā)展與光刻膠的應(yīng)用[J];集成電路應(yīng)用;2003年06期

3 潘家立;陶玉柱;;光刻膠之關(guān)鍵技術(shù)[J];集成電路應(yīng)用;2003年06期

4 鄭金紅;;光刻膠的發(fā)展及應(yīng)用[J];精細(xì)與專用化學(xué)品;2006年16期

5 Laird MacDowell;;光刻膠使用量預(yù)測與庫存[J];集成電路應(yīng)用;2007年08期

6 沈熙磊;;2010年全球光刻膠銷售11.5億美元未來3年將保持4.7%的年增長率[J];半導(dǎo)體信息;2011年04期

7 許箭;陳力;田凱軍;胡睿;李沙瑜;王雙青;楊國強(qiáng);;先進(jìn)光刻膠材料的研究進(jìn)展[J];影像科學(xué)與光化學(xué);2011年06期

8 張世權(quán);朱斌;顧霞;;不同襯底材料對光刻膠剖面的影響[J];電子與封裝;2013年08期

9 山峰孝,中村洋一,黃子倫;光學(xué)曝光用光刻膠的種類及其特性[J];微電子學(xué);1980年02期

10 錢石南;光刻膠照相鍍鉻法[J];光學(xué)技術(shù);1980年04期

中國重要會議論文全文數(shù)據(jù)庫 前10條

1 韓婷婷;李波;李玉香;王卿璞;;超臨界CO_2微乳液對高濃度離子注入光刻膠的清洗[A];第七屆中國功能材料及其應(yīng)用學(xué)術(shù)會議論文集（第6分冊）[C];2010年

2 王力元;;193nm光刻膠用光產(chǎn)酸劑研制[A];集成電路配套材料研討會及參展資料匯編[C];2004年

3 許箭;王雙青;楊國強(qiáng);;新型雙酚A系列光刻膠的極紫外光刻研究[A];第十三屆全國光化學(xué)學(xué)術(shù)討論會論文集[C];2013年

4 王力元;王文君;張改蓮;;193nm光刻膠適用硫摀鹽光產(chǎn)酸劑的合成及性質(zhì)[A];全面建設(shè)小康社會：中國科技工作者的歷史責(zé)任——中國科協(xié)2003年學(xué)術(shù)年會論文集（上）[C];2003年

5 穆啟道;;我國超凈高純試劑和光刻膠的現(xiàn)狀與發(fā)展[A];電子專用化學(xué)品高新技術(shù)與市場研討會論文集[C];2004年

6 楊景華;賈少霞;李超波;夏洋;王守國;;常壓射頻介質(zhì)阻擋等離子體去除光刻膠前后的FTIR分析[A];第十六屆全國等離子體科學(xué)技術(shù)會議暨第一屆全國等離子體醫(yī)學(xué)研討會會議摘要集[C];2013年

7 鄒應(yīng)全;;在MEMS加工中光刻膠的應(yīng)用[A];2014第十五屆中國輻射固化年會論文集[C];2014年

8 柯旭;巫文強(qiáng);王躍川;;用于玻璃刻蝕的新型光刻膠[A];2006年全國高分子材料科學(xué)與工程研討會論文集[C];2006年

9 許箭;陳力;王雙青;楊國強(qiáng);;含雙酚A骨架結(jié)構(gòu)分子玻璃化合物的制備及其在極紫外光刻中的應(yīng)用[A];中國化學(xué)會第28屆學(xué)術(shù)年會第11分會場摘要集[C];2012年

10 張曄;陳迪;張金婭;朱軍;劉景全;;UV-LIGA中光源波長和曝光量對SU-8光刻膠微結(jié)構(gòu)的影響[A];中國微米、納米技術(shù)第七屆學(xué)術(shù)會年會論文集（一）[C];2005年

中國重要報(bào)紙全文數(shù)據(jù)庫 前10條

1 本報(bào)記者 趙艷秋;光刻膠行業(yè)：“刻”不容緩[N];中國電子報(bào);2002年

2 記者 李大慶;我第一條百噸級高檔光刻膠生產(chǎn)線投產(chǎn)[N];科技日報(bào);2009年

3 北京科華微電子材料有限公司董事長兼總經(jīng)理 陳昕;多方努力尋求高檔光刻膠突破[N];中國電子報(bào);2009年

4 盈如;永光建立世界級光刻膠供貨商地位[N];電子資訊時(shí)報(bào);2005年

5 本報(bào)記者 王莉;技術(shù)創(chuàng)新領(lǐng)跑微電子材料[N];蘇州日報(bào);2005年

6 吳堅(jiān);緊跟電子信息業(yè)發(fā)展步伐[N];中國化工報(bào);2003年

7 蘇州瑞紅電子化學(xué)品有限公司技術(shù)部部長 顧奇;TFT用感光材料國內(nèi)外技術(shù)懸殊國內(nèi)化學(xué)品企業(yè)努力追趕[N];中國電子報(bào);2009年

8 本文由永光化學(xué)電處技術(shù)發(fā)展部提供;光刻膠在LED工藝上的使用技術(shù)[N];電子資訊時(shí)報(bào);2004年

9 ;永光化學(xué)：生產(chǎn)基地漸入佳境 LED光刻膠獨(dú)樹一幟[N];中國電子報(bào);2008年

10 北京科華微電子材料有限公司董事長兼總經(jīng)理 陳昕;TFT高性能光刻膠國產(chǎn)化勢在必行[N];中國電子報(bào);2009年

中國博士學(xué)位論文全文數(shù)據(jù)庫 前5條

1 劉建國;耐高溫紫外正型光刻膠和248nm深紫外光刻膠的研制[D];華中科技大學(xué);2007年

2 唐雄貴;厚膠光學(xué)光刻技術(shù)研究[D];四川大學(xué);2006年

3 魏杰;激光光盤信息記錄光刻膠的合成與感光[D];北京化工大學(xué);1998年

4 李木軍;接近式光刻仿真研究[D];中國科學(xué)技術(shù)大學(xué);2007年

5 張曉蕾;超聲提高SU-8光刻膠/金屬基底界面結(jié)合強(qiáng)度研究[D];大連理工大學(xué);2015年

中國碩士學(xué)位論文全文數(shù)據(jù)庫 前10條

1 雷國韜;曲表面光刻膠涂覆技術(shù)研究[D];長春理工大學(xué);2012年

2 張放;基于紫外光刻方法構(gòu)建超疏水微納結(jié)構(gòu)及導(dǎo)電圖案[D];北京化工大學(xué);2015年

3 武磊;ZnS光學(xué)元件離子束拋光技術(shù)研究[D];西安工業(yè)大學(xué);2014年

4 林慶浩;MEMS微型氣體富集器的工藝制備研究[D];電子科技大學(xué);2014年

5 陶燾;碘化銫熒光量子點(diǎn)增強(qiáng)光刻膠光刻效果的研究[D];上海交通大學(xué);2013年

6 王瑛;紫外厚膠深光刻技術(shù)研究[D];長春理工大學(xué);2010年

7 朱冬華;三苯胺多枝化合物為引發(fā)劑的光刻膠過程作用的研究與含三苯胺的化合物合成[D];蘇州大學(xué);2010年

8 馮偉;含氟氣體的去光刻膠工藝灰化率提高的研究[D];上海交通大學(xué);2007年

9 張春暉;光刻工藝中的曲面膠厚檢測[D];浙江大學(xué);2010年

10 韓婷婷;超臨界CO_2微乳液去除光刻膠的研究[D];山東大學(xué);2011年

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