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硅片方塊電阻計(jì)量標(biāo)準(zhǔn)裝置研制

發(fā)布時(shí)間:2017-09-22 15:31

  本文關(guān)鍵詞:硅片方塊電阻計(jì)量標(biāo)準(zhǔn)裝置研制


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【摘要】:對(duì)測(cè)量方塊電阻的雙配置四探針法進(jìn)行了研究,從理論上分析了該方法的優(yōu)點(diǎn):測(cè)量結(jié)果與探針間距無(wú)關(guān),可使用不等間距探針頭,具有自動(dòng)修正邊界影響的功能,不必尋找修正因子,論述了RS大小樣片及邊界附近的測(cè)試原理,給出了RS的計(jì)算公式。研制了基于雙配置四探針法的硅片方塊電阻計(jì)量標(biāo)準(zhǔn)裝置,論述了該裝置的軟硬件設(shè)計(jì),為校準(zhǔn)硅片方塊電阻標(biāo)準(zhǔn)樣片提供了技術(shù)手段。解決了硅片方塊電阻參數(shù)的量值傳遞問(wèn)題。
【作者單位】: 中國(guó)電子技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)化研究院;
【關(guān)鍵詞】方塊電阻 雙配置四探針法 計(jì)量標(biāo)準(zhǔn)裝置
【分類號(hào)】:TN405
【正文快照】: 1引言隨著科技的進(jìn)步,微電子技術(shù)的發(fā)展可以說(shuō)日新月異,電路的集成化程度也越來(lái)越高,電路的功能也越來(lái)越強(qiáng)大,對(duì)制作集成電路的各種半導(dǎo)體芯片的質(zhì)量的要求也越來(lái)越高。方塊電阻參數(shù)是與芯片制作工藝過(guò)程相關(guān)的重要參數(shù),方塊電阻參數(shù)不僅影響材料特性而且影響器件特性,方塊電

【相似文獻(xiàn)】

中國(guó)期刊全文數(shù)據(jù)庫(kù) 前10條

1 吳文雪;邢楊;范志新;;薄層方塊電阻寬電極測(cè)試方法[J];現(xiàn)代顯示;2009年06期

2 羅江財(cái);;硅中擴(kuò)散參數(shù)的分析和測(cè)定[J];半導(dǎo)體光電;1990年02期

3 謝鴻波;半導(dǎo)體硅材料薄層方塊電阻測(cè)定的標(biāo)準(zhǔn)方法在導(dǎo)電薄膜測(cè)試中的應(yīng)用[J];真空;1999年03期

4 潘志宣;多晶硅上高歐姆電阻的制作技術(shù)[J];微電子技術(shù);1996年03期

5 楊義祥 ,寧振球 ,畢巨邦 ,王學(xué)思;關(guān)于P型硅中注入(PF_2)~+的研究[J];微電子學(xué);1982年01期

6 X.Y.Qian ,孫洪濤;等離子體浸沒離子注入技術(shù)用于溝槽摻雜的保角注入[J];微細(xì)加工技術(shù);1991年04期

7 Lawrence,A·Larson,張義強(qiáng),龍華;離子注入的方塊電阻規(guī)范[J];微電子技術(shù);1994年03期

8 白亞旭;朱拓;;pH對(duì)化學(xué)鍍鎳-磷法制作的埋嵌電阻方塊電阻影響的研究[J];印制電路信息;2014年04期

9 黑河治重;崔恩錄;;PSG低壓CVD裝置[J];半導(dǎo)體情報(bào);1980年06期

10 江澤福;低壓化學(xué)汽相沉積多晶硅工藝[J];微電子學(xué);1982年06期



本文編號(hào):901616

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