本文關(guān)鍵詞：光學(xué)元件改性處理對激光損傷閾值的影響

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【摘要】：針對355nm激光作用于熔石英光學(xué)元件后其損傷閾值容易變差的問題,提出使用1.7%純HF溶液和0.4%HF與1.2%NH4F混合的BOE溶液對樣品進(jìn)行處理來提高它們的激光誘導(dǎo)損傷閾值(LIDT)。在相同的條件下將熔石英光學(xué)元件浸沒到上述兩種不同的刻蝕溶液中進(jìn)行處理,通過測量刻蝕過程中元件重量變化來計算刻蝕速率,利用Zygo輪廓儀測試元件表面粗糙度,然后對355nm激光照射下熔石英元件的損傷閾值情況進(jìn)行研究。損傷測試表明,LIDT與元件的材料去除深度有關(guān)系,用兩種刻蝕液刻蝕去除一定深度后,LIDT均有增加,但是進(jìn)一步去除會顯著地降低元件的LIDT。在處理過程中,這兩種刻蝕液的去除速率都很穩(wěn)定,分別為85.9nm/min和58.6nm/min左右。另外,元件表面的粗糙度會隨著刻蝕時間的增加而變大。在刻蝕過程中還通過納米技術(shù)測量了熔石英元件表面的硬度及楊氏系數(shù),不過沒有證據(jù)表明其與激光誘導(dǎo)損傷有明確的關(guān)系。
【作者單位】： 成都精密光學(xué)工程研究中心;
【關(guān)鍵詞】： 熔石英 光學(xué)元件 激光損傷閾值 化學(xué)改性 刻蝕速率 表面粗糙度 機械特性
【基金】：國家自然科學(xué)基金資助項目(No.51505444) 中國物理工程研究院科學(xué)技術(shù)發(fā)展基金資助項目(No.2015B0203032);中國物理工程研究院超精密加工重點實驗室科研基金資助項目(No.K984-15-JCZ)
【分類號】：TN249
【正文快照】： 1引言熔石英光學(xué)元件的抗激光損傷能力在高功率激光系統(tǒng)是一項重要的光學(xué)性能。當(dāng)熔石英受到355nm激光照射,其損傷閾值很容易變差,限制了光學(xué)系統(tǒng)的使用壽命和性能。因此,提高熔石英激光誘導(dǎo)損傷閾值來增加高紫外能量下光學(xué)系統(tǒng)的使用壽命和性能是成為重要的研究課題[1,2]。緩

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本文編號：828919