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新型納米器件及其應(yīng)用電路建模分析

發(fā)布時(shí)間:2017-08-24 06:38

  本文關(guān)鍵詞:新型納米器件及其應(yīng)用電路建模分析


  更多相關(guān)文章: 石墨烯 碳納米管 HALO LDD 異質(zhì)柵電介質(zhì) 查找表


【摘要】:本文采用非平衡格林函數(shù)和泊松方程自洽求解的量子模型,探討不同結(jié)構(gòu)的碳基場效應(yīng)管的輸運(yùn)特性。在器件電學(xué)特性的研究基礎(chǔ)上,利用Verilog-A建立查找表模型,在SPICE中構(gòu)建電路,研究不同結(jié)構(gòu)碳基場效應(yīng)晶體管構(gòu)成的電路性能。此外,本文研究了硅基自旋場效應(yīng)管的輸運(yùn)特性及其構(gòu)成邏輯電路的性能。本文的主要內(nèi)容涉及以下幾個(gè)部分:首先,本文提出一種綜合非對稱峰值摻雜與輕摻雜結(jié)構(gòu)的n-i-n型GNRFETs(HALOLDD-GNRFETs),并與傳統(tǒng)的GNRFETs(C-GNRFETs)、輕摻雜結(jié)構(gòu)GNRFETs(LDDGNRFETs)進(jìn)行比較,結(jié)果表明HALO摻雜與LDD摻雜結(jié)構(gòu)顯著地提高了器件的開關(guān)電流比與電壓增益、減小了亞閾擺幅、抑制了短溝道效應(yīng)。此外,還分別探討了基于HALO-LDD-GNRFETs、LDD-GNRFETs、C-GNRFETs的異或門與全加器電路的性能,結(jié)果表明基于HALO-LDD-GNRFETs的異或門與全加器具有更小的功耗和功耗延遲積(PDP),且基于HALO-LDD-GNRFETs實(shí)現(xiàn)了D觸發(fā)器與多路復(fù)用電路。其次,本文提出了一種異質(zhì)輕摻雜結(jié)構(gòu)的p-i-n型CNTFETs(LD-HTFETs),并與普通高K結(jié)構(gòu)隧穿場效應(yīng)管(HK-TFETs)、異質(zhì)隧穿場效應(yīng)管(HTFETs)進(jìn)行比較,結(jié)果表明異質(zhì)結(jié)構(gòu)與輕摻雜結(jié)構(gòu)能夠有效地提高開關(guān)電流比與截止頻率、減小亞閾擺幅與柵電容,使得LD-HTFETs具有較好的靜態(tài)特性與高頻特性。在研究這三種器件構(gòu)成的邏輯電路中,發(fā)現(xiàn)基于LD-HTFETs的電路具有低延遲、低功耗、低PDP以及良好穩(wěn)定性的特點(diǎn),且用LD-HTFETs實(shí)現(xiàn)了三值反相器電路。最后,基于非平衡格林函數(shù)探討了硅基自旋場效應(yīng)管(spinFET)的輸運(yùn)特性,主要研究了鐵磁平行與鐵磁非平行這兩種情況,隨后用spinFET實(shí)現(xiàn)了邏輯電路功能,并與傳統(tǒng)的硅基場效應(yīng)管構(gòu)成的電路相比較,基于spinFET的電路具有更低的功耗和更低的PDP。
【關(guān)鍵詞】:石墨烯 碳納米管 HALO LDD 異質(zhì)柵電介質(zhì) 查找表
【學(xué)位授予單位】:南京郵電大學(xué)
【學(xué)位級別】:碩士
【學(xué)位授予年份】:2016
【分類號】:TN386
【目錄】:
  • 摘要4-5
  • Abstract5-8
  • 專用術(shù)語注釋表8-10
  • 第一章 緒論10-20
  • 1.1 引言10
  • 1.2 新型材料10-16
  • 1.2.1 石墨烯11-13
  • 1.2.2 碳納米管13-16
  • 1.3 基于新型材料場效應(yīng)管的研究現(xiàn)狀16-18
  • 1.4 本文的主要研究內(nèi)容和創(chuàng)新點(diǎn)18-19
  • 1.5 本論文章節(jié)安排19-20
  • 第二章 量子輸運(yùn)理論20-25
  • 2.1 非平衡格林函數(shù)20-22
  • 2.2 Dyson方程22-23
  • 2.3 Landauer-Büttiker方程23-25
  • 第三章 新型碳基場效應(yīng)管的電學(xué)特性研究25-44
  • 3.1 基于摻雜結(jié)構(gòu)n-i-n型石墨烯場效應(yīng)管的電學(xué)特性25-30
  • 3.1.1 傳統(tǒng)GNRFETs的電學(xué)特性25-26
  • 3.1.2 非對稱峰值摻雜以及輕摻雜對GNRFETs電學(xué)特性的影響26-29
  • 3.1.3 HALO摻雜濃度對HALO-LDD-GNRFETs電學(xué)特性的影響29-30
  • 3.2 基于異質(zhì)輕摻雜結(jié)構(gòu)p-i-n型碳納米管場效應(yīng)管的電學(xué)特性30-42
  • 3.2.1 TFETs工作原理31-33
  • 3.2.2 異質(zhì)柵電介質(zhì)結(jié)構(gòu)TFETs電學(xué)特性33-34
  • 3.2.3 輕摻雜對HTFETs電學(xué)特性的影響34-38
  • 3.2.4 柵介電常數(shù)對LD-HTFETs電學(xué)特性的影響38-40
  • 3.2.5 柵功函數(shù)以及手性對LD-HTFETs電學(xué)特性的影響40-42
  • 3.3 本章小結(jié)42-44
  • 第四章 基于新型碳基場效應(yīng)管的基本電路特性分析44-61
  • 4.1 碳基場效應(yīng)管的SPICE查找表模型44-46
  • 4.1.1 CNTFETs的SPICE查找表模型44-46
  • 4.1.2 GNRFETs的SPICE查找表模型46
  • 4.2 基于摻雜結(jié)構(gòu)n-i-n型石墨烯場效應(yīng)管構(gòu)建電路的性能46-53
  • 4.2.1 HALO-LDD-GNRFETs實(shí)現(xiàn)D觸發(fā)器電路46-48
  • 4.2.2 HALO-LDD-GNRFETs實(shí)現(xiàn)多路復(fù)用電路48-50
  • 4.2.3 GNRFETs構(gòu)建異或門電路的性能分析50-51
  • 4.2.4 GNRFETs構(gòu)建加法器電路的性能分析51-53
  • 4.3 基于異質(zhì)輕摻雜結(jié)構(gòu)p-i-n型碳納米管場效應(yīng)管構(gòu)建二值和多值邏輯電路的性能53-60
  • 4.3.1 TFETs構(gòu)建二值反相器電路的性能分析53-56
  • 4.3.2 LD-HTFETs構(gòu)建三值反相器電路的性能分析56-58
  • 4.3.3 TFETs構(gòu)建邏輯電路的性能分析58-60
  • 4.4 本章小結(jié)60-61
  • 第五章 硅基自旋場效應(yīng)管的電學(xué)特性以及在電路中的應(yīng)用61-71
  • 5.1 引言61-63
  • 5.1.1 自旋電子學(xué)61-62
  • 5.1.2 自旋場效應(yīng)管的簡介62-63
  • 5.2 硅基自旋場效應(yīng)管的輸運(yùn)特性63-68
  • 5.3 基于硅基自旋場效應(yīng)管構(gòu)建電路的性能68-70
  • 5.3.1 SPINFET構(gòu)建二級反相器電路的性能分析68-69
  • 5.3.2 SPINFET構(gòu)建邏輯電路的性能分析69-70
  • 5.4 本章小結(jié)70-71
  • 第六章 總結(jié)與展望71-73
  • 參考文獻(xiàn)73-77
  • 附錄1 攻讀碩士學(xué)位期間撰寫的論文77-78
  • 附錄2 攻讀碩士學(xué)位期間參加的科研項(xiàng)目78-79
  • 致謝79

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本文編號:729787

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