新型納米器件及其應(yīng)用電路建模分析
本文關(guān)鍵詞:新型納米器件及其應(yīng)用電路建模分析
更多相關(guān)文章: 石墨烯 碳納米管 HALO LDD 異質(zhì)柵電介質(zhì) 查找表
【摘要】:本文采用非平衡格林函數(shù)和泊松方程自洽求解的量子模型,探討不同結(jié)構(gòu)的碳基場效應(yīng)管的輸運(yùn)特性。在器件電學(xué)特性的研究基礎(chǔ)上,利用Verilog-A建立查找表模型,在SPICE中構(gòu)建電路,研究不同結(jié)構(gòu)碳基場效應(yīng)晶體管構(gòu)成的電路性能。此外,本文研究了硅基自旋場效應(yīng)管的輸運(yùn)特性及其構(gòu)成邏輯電路的性能。本文的主要內(nèi)容涉及以下幾個(gè)部分:首先,本文提出一種綜合非對稱峰值摻雜與輕摻雜結(jié)構(gòu)的n-i-n型GNRFETs(HALOLDD-GNRFETs),并與傳統(tǒng)的GNRFETs(C-GNRFETs)、輕摻雜結(jié)構(gòu)GNRFETs(LDDGNRFETs)進(jìn)行比較,結(jié)果表明HALO摻雜與LDD摻雜結(jié)構(gòu)顯著地提高了器件的開關(guān)電流比與電壓增益、減小了亞閾擺幅、抑制了短溝道效應(yīng)。此外,還分別探討了基于HALO-LDD-GNRFETs、LDD-GNRFETs、C-GNRFETs的異或門與全加器電路的性能,結(jié)果表明基于HALO-LDD-GNRFETs的異或門與全加器具有更小的功耗和功耗延遲積(PDP),且基于HALO-LDD-GNRFETs實(shí)現(xiàn)了D觸發(fā)器與多路復(fù)用電路。其次,本文提出了一種異質(zhì)輕摻雜結(jié)構(gòu)的p-i-n型CNTFETs(LD-HTFETs),并與普通高K結(jié)構(gòu)隧穿場效應(yīng)管(HK-TFETs)、異質(zhì)隧穿場效應(yīng)管(HTFETs)進(jìn)行比較,結(jié)果表明異質(zhì)結(jié)構(gòu)與輕摻雜結(jié)構(gòu)能夠有效地提高開關(guān)電流比與截止頻率、減小亞閾擺幅與柵電容,使得LD-HTFETs具有較好的靜態(tài)特性與高頻特性。在研究這三種器件構(gòu)成的邏輯電路中,發(fā)現(xiàn)基于LD-HTFETs的電路具有低延遲、低功耗、低PDP以及良好穩(wěn)定性的特點(diǎn),且用LD-HTFETs實(shí)現(xiàn)了三值反相器電路。最后,基于非平衡格林函數(shù)探討了硅基自旋場效應(yīng)管(spinFET)的輸運(yùn)特性,主要研究了鐵磁平行與鐵磁非平行這兩種情況,隨后用spinFET實(shí)現(xiàn)了邏輯電路功能,并與傳統(tǒng)的硅基場效應(yīng)管構(gòu)成的電路相比較,基于spinFET的電路具有更低的功耗和更低的PDP。
【關(guān)鍵詞】:石墨烯 碳納米管 HALO LDD 異質(zhì)柵電介質(zhì) 查找表
【學(xué)位授予單位】:南京郵電大學(xué)
【學(xué)位級別】:碩士
【學(xué)位授予年份】:2016
【分類號】:TN386
【目錄】:
- 摘要4-5
- Abstract5-8
- 專用術(shù)語注釋表8-10
- 第一章 緒論10-20
- 1.1 引言10
- 1.2 新型材料10-16
- 1.2.1 石墨烯11-13
- 1.2.2 碳納米管13-16
- 1.3 基于新型材料場效應(yīng)管的研究現(xiàn)狀16-18
- 1.4 本文的主要研究內(nèi)容和創(chuàng)新點(diǎn)18-19
- 1.5 本論文章節(jié)安排19-20
- 第二章 量子輸運(yùn)理論20-25
- 2.1 非平衡格林函數(shù)20-22
- 2.2 Dyson方程22-23
- 2.3 Landauer-Büttiker方程23-25
- 第三章 新型碳基場效應(yīng)管的電學(xué)特性研究25-44
- 3.1 基于摻雜結(jié)構(gòu)n-i-n型石墨烯場效應(yīng)管的電學(xué)特性25-30
- 3.1.1 傳統(tǒng)GNRFETs的電學(xué)特性25-26
- 3.1.2 非對稱峰值摻雜以及輕摻雜對GNRFETs電學(xué)特性的影響26-29
- 3.1.3 HALO摻雜濃度對HALO-LDD-GNRFETs電學(xué)特性的影響29-30
- 3.2 基于異質(zhì)輕摻雜結(jié)構(gòu)p-i-n型碳納米管場效應(yīng)管的電學(xué)特性30-42
- 3.2.1 TFETs工作原理31-33
- 3.2.2 異質(zhì)柵電介質(zhì)結(jié)構(gòu)TFETs電學(xué)特性33-34
- 3.2.3 輕摻雜對HTFETs電學(xué)特性的影響34-38
- 3.2.4 柵介電常數(shù)對LD-HTFETs電學(xué)特性的影響38-40
- 3.2.5 柵功函數(shù)以及手性對LD-HTFETs電學(xué)特性的影響40-42
- 3.3 本章小結(jié)42-44
- 第四章 基于新型碳基場效應(yīng)管的基本電路特性分析44-61
- 4.1 碳基場效應(yīng)管的SPICE查找表模型44-46
- 4.1.1 CNTFETs的SPICE查找表模型44-46
- 4.1.2 GNRFETs的SPICE查找表模型46
- 4.2 基于摻雜結(jié)構(gòu)n-i-n型石墨烯場效應(yīng)管構(gòu)建電路的性能46-53
- 4.2.1 HALO-LDD-GNRFETs實(shí)現(xiàn)D觸發(fā)器電路46-48
- 4.2.2 HALO-LDD-GNRFETs實(shí)現(xiàn)多路復(fù)用電路48-50
- 4.2.3 GNRFETs構(gòu)建異或門電路的性能分析50-51
- 4.2.4 GNRFETs構(gòu)建加法器電路的性能分析51-53
- 4.3 基于異質(zhì)輕摻雜結(jié)構(gòu)p-i-n型碳納米管場效應(yīng)管構(gòu)建二值和多值邏輯電路的性能53-60
- 4.3.1 TFETs構(gòu)建二值反相器電路的性能分析53-56
- 4.3.2 LD-HTFETs構(gòu)建三值反相器電路的性能分析56-58
- 4.3.3 TFETs構(gòu)建邏輯電路的性能分析58-60
- 4.4 本章小結(jié)60-61
- 第五章 硅基自旋場效應(yīng)管的電學(xué)特性以及在電路中的應(yīng)用61-71
- 5.1 引言61-63
- 5.1.1 自旋電子學(xué)61-62
- 5.1.2 自旋場效應(yīng)管的簡介62-63
- 5.2 硅基自旋場效應(yīng)管的輸運(yùn)特性63-68
- 5.3 基于硅基自旋場效應(yīng)管構(gòu)建電路的性能68-70
- 5.3.1 SPINFET構(gòu)建二級反相器電路的性能分析68-69
- 5.3.2 SPINFET構(gòu)建邏輯電路的性能分析69-70
- 5.4 本章小結(jié)70-71
- 第六章 總結(jié)與展望71-73
- 參考文獻(xiàn)73-77
- 附錄1 攻讀碩士學(xué)位期間撰寫的論文77-78
- 附錄2 攻讀碩士學(xué)位期間參加的科研項(xiàng)目78-79
- 致謝79
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