新型ENEPIG封裝基板化學(xué)鍍鈀工藝優(yōu)化
發(fā)布時間:2017-08-13 02:08
本文關(guān)鍵詞:新型ENEPIG封裝基板化學(xué)鍍鈀工藝優(yōu)化
更多相關(guān)文章: 印制電路板 化學(xué)鍍鈀 工藝 參數(shù)優(yōu)化
【摘要】:化學(xué)鍍鈀是制作新型ENEPIG印制電路板最關(guān)鍵的工藝,從化學(xué)鍍鈀反應(yīng)機(jī)理入手,分析了影響質(zhì)量的工藝參數(shù),運(yùn)用實驗設(shè)計中健壯設(shè)計的實驗方法,對工藝參數(shù)進(jìn)行了優(yōu)化,找到了新型ENEPIG印制電路板中化學(xué)鍍鈀的最優(yōu)工藝參數(shù):2.2 g/L氯化鈀,13.2 g/L次磷酸鈉,165 m L/L氫氧化銨,33 g/L氯化銨,鍍液θ為55℃,pH為9.6。驗證試驗表明,應(yīng)用改善后的鍍鈀工藝,鈀的沉積速率明顯加快,集中度也得到顯著提高。
【作者單位】: 濰坊學(xué)院;
【關(guān)鍵詞】: 印制電路板 化學(xué)鍍鈀 工藝 參數(shù)優(yōu)化
【基金】:國家星火計劃項目(2011GA740047) 山東省自然科學(xué)基金項目(ZR2012EML03) 山東省國際科技合作計劃項目(201013) 山東省高等學(xué)?萍加媱濏椖(J12LA57) 山東省星火計劃項目(2011XH06025)
【分類號】:TN41
【正文快照】: 引言在MEMS封裝領(lǐng)域,封裝基板是承載器件的基礎(chǔ),其最大的隱患“黑墊”問題困擾了業(yè)界很長時間,為徹底解決該問題,開發(fā)了新型的ENEPIG(Electroless Nickel,Electroless Palladium,and Immer-sion Gold,化學(xué)鍍鎳,化學(xué)鍍鈀與浸金)封裝基板,這種基板表面保護(hù)工藝最突出的改善是在
【二級參考文獻(xiàn)】
中國期刊全文數(shù)據(jù)庫 前3條
1 顧,
本文編號:664817
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