本文關(guān)鍵詞：基于DMD的數(shù)字光刻技術(shù)研究

  更多相關(guān)文章： DMD 數(shù)字光刻技術(shù) 衍射 誤差校正

【摘要】：光刻技術(shù)作為半導(dǎo)體加工領(lǐng)域的核心技術(shù)之一,它經(jīng)歷了接近/接觸光刻、投影光刻、步進(jìn)光刻到掃描光刻的發(fā)展歷程,然而如何降低光學(xué)掩模在制作和加工方面的成本,一直困擾著研究人員。近年來,無掩模光刻技術(shù)得到迅猛的發(fā)展,基于數(shù)字微鏡器件(DMD)的光刻技術(shù)受到微納加工及相關(guān)領(lǐng)域的普遍關(guān)注。DMD具有靈活、并行和高速等優(yōu)點,它替代傳統(tǒng)的光學(xué)掩膜,降低了傳統(tǒng)掩膜在制作和加工方面的困難和成本,簡化了傳統(tǒng)光刻技術(shù)的繁瑣工藝流程,提高了光刻系統(tǒng)的加工效率,在小型化、高精度的光刻設(shè)備中發(fā)揮著重要作用,基于DMD的數(shù)字光刻設(shè)備將成為下一代微細(xì)加工領(lǐng)域的重要工具之一。本文圍繞基于DMD的光刻系統(tǒng),開展了光刻技術(shù)的研究,主要研究了DMD的衍射特性的建模及其應(yīng)用,系統(tǒng)誤差的分析與校正技術(shù),這些技術(shù)的研究對于后續(xù)的實驗工作具有指導(dǎo)意義。主要研究內(nèi)容包括:(1)基于傅里葉分析,建立了DMD衍射的數(shù)學(xué)模型;并將該模型用于分析系統(tǒng)的誤差,主要分析了DMD制造工藝的誤差和光刻系統(tǒng)的誤差對衍射效率的影響;(2)在光學(xué)軟件中建立了DMD的衍射模型,將其用于曝光結(jié)果的分析;并重點分析了離焦時的曝光情況,分析的結(jié)果提供了一種標(biāo)定離焦方向的方法;(3)分析了照明不均勻性對曝光線寬的影響,并在掃描曝光模式下提出了一種校正技術(shù);分析了系統(tǒng)誤差,包括畸變、傾角誤差和不匹配誤差,對曝光光斑位置的影響;并根據(jù)誤差之間的耦合關(guān)系,提出了綜合的校正方法。
【關(guān)鍵詞】：DMD 數(shù)字光刻技術(shù) 衍射 誤差校正
【學(xué)位授予單位】：中國科學(xué)院研究生院(長春光學(xué)精密機(jī)械與物理研究所)
【學(xué)位級別】：碩士
【學(xué)位授予年份】：2016
【分類號】：TN305.7
【目錄】：

• 摘要5-6
• ABSTRACT6-10
• 第1章 緒論10-21
• 1.1 研究背景10
• 1.2 無掩模光刻技術(shù)的研究現(xiàn)狀10-14
• 1.3 基于DMD的數(shù)字光刻的研究現(xiàn)狀14-20
• 1.4 論文的主要內(nèi)容20-21
• 第2章 基于DMD的數(shù)字光刻系統(tǒng)21-39
• 2.1 系統(tǒng)的總體架構(gòu)21-22
• 2.2 前端照明系統(tǒng)22-29
• 2.3 數(shù)字微鏡器件(DMD)29-31
• 2.4 投影光刻物鏡31-33
• 2.5 光刻系統(tǒng)的曝光模式33-37
• 2.6 本章小結(jié)37-39
• 第3章 DMD的衍射特性39-52
• 3.1 DMD的衍射模型39-42
• 3.2 衍射特性的測量與仿真42-44
• 3.3 DMD衍射特性在光刻系統(tǒng)中的應(yīng)用44-50
• 3.4 本章小結(jié)50-52
• 第4章 系統(tǒng)誤差的分析與校正52-68
• 4.1 照明不均勻性的分析與校正52-56
• 4.2 光刻物鏡的畸變56-60
• 4.3 機(jī)械系統(tǒng)的誤差60-64
• 4.4 系統(tǒng)誤差的校正64-66
• 4.5 本章小結(jié)66-68
• 第5章 總結(jié)與展望68-69
• 5.1 總結(jié)68
• 5.2 展望68-69
• 參考文獻(xiàn)69-74
• 在學(xué)期間學(xué)術(shù)成果情況74-75
• 指導(dǎo)教師及作者簡介75-76
• 致謝76

【相似文獻(xiàn)】

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