發(fā)布時間：2017-07-28 18:07

  本文關(guān)鍵詞：光學(xué)光刻設(shè)備發(fā)展和展望

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【摘要】：在半導(dǎo)體技術(shù)和制造的發(fā)展中,半導(dǎo)體加工技術(shù)中最為關(guān)鍵的光刻技術(shù)和光刻工藝設(shè)備,必將發(fā)生顯著的變化,本文將對光刻技術(shù)和光刻設(shè)備的發(fā)展歷史進(jìn)行簡述,并展望未來光刻技術(shù)的趨勢。
【作者單位】： 杭州士蘭集成電路有限公司;
【關(guān)鍵詞】： 光學(xué)光刻 設(shè)備 發(fā)展
【分類號】：TN305.7
【正文快照】： 1光刻機(jī)的發(fā)展概況多年以來,集成電路技術(shù)的發(fā)展始終是隨著光學(xué)光刻技術(shù)的不斷創(chuàng)新所推進(jìn)的。在摩爾定律的驅(qū)動下,光學(xué)光刻技術(shù)經(jīng)歷了接觸/接近(Mask Aligner)、掃描等倍投影、步進(jìn)投影、縮小步進(jìn)投影(Stepper)、步進(jìn)掃描投影(Scanner)曝光方式的變革,曝光波長由436nm的h線向3

【相似文獻(xiàn)】

中國期刊全文數(shù)據(jù)庫 前10條

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4 記者 譚華健　通訊員 黃奮敏;兩家創(chuàng)新科研團(tuán)隊(duì)有望晉升省級[N];中山日報(bào);2012年

5 記者 鄺光榮;中山首現(xiàn)省級創(chuàng)新科研團(tuán)隊(duì)[N];中山日報(bào);2012年

6 記者 鄺光榮;兩創(chuàng)新科研團(tuán)隊(duì)進(jìn)入省公示[N];中山日報(bào);2012年

7 蔡綺芝 DigiTimes;ASML光刻設(shè)備 工藝成本降三成[N];電子資訊時報(bào);2007年

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本文編號：585319