本文關鍵詞：PLD法制備半球面均勻DLC膜的裝置、仿真與實驗

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【摘要】：由于激光燒蝕靶材形成的等離子體羽輝呈高斯分布,導致沉積的大面積薄膜尤其是球面襯底上的薄膜極不均勻,嚴重限制了脈沖激光沉積法的應用。設計構建了旋轉與變速擺動相結合的三維襯底機構,實現對半球面不同區(qū)域的連續(xù)沉積,保證了膜層的均勻性;建立膜厚分布的數學模型,模擬分析了運動參數對膜厚分布的影響;首次利用脈沖激光沉積技術制備出口徑200 mm大尺寸半球面襯底上的均勻類金剛石膜,頂角80°范圍內膜厚不均勻性≤±5%。脈沖激光沉積法在大口徑半球面襯底上制備均勻類金剛石膜在空間觀測等領域均具有巨大的應用前景。
【作者單位】： 武漢軍械士官學校光電技術研究所;
【關鍵詞】： 均勻膜層 脈沖激光沉積 類金剛石膜 大口徑半球面襯底
【分類號】：TN249
【正文快照】： 0引言作為新型的功能薄膜制備技術,脈沖激光沉積(Pulsed Laser Deposition,PLD)是一種先進材料的先進制造技術,與傳統(tǒng)方法相比,具有諸多優(yōu)勢[1]。但由于脈沖激光燒蝕靶材產生的等離子體羽輝具有很強的方向性,呈高斯分布,極不均勻,難以形成大面積均勻薄膜,球面襯底上鍍膜更加困

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本文編號：520627