本文關(guān)鍵詞：PLD法制備半球面均勻DLC膜的裝置、仿真與實(shí)驗(yàn)

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【摘要】：由于激光燒蝕靶材形成的等離子體羽輝呈高斯分布,導(dǎo)致沉積的大面積薄膜尤其是球面襯底上的薄膜極不均勻,嚴(yán)重限制了脈沖激光沉積法的應(yīng)用。設(shè)計(jì)構(gòu)建了旋轉(zhuǎn)與變速擺動(dòng)相結(jié)合的三維襯底機(jī)構(gòu),實(shí)現(xiàn)對(duì)半球面不同區(qū)域的連續(xù)沉積,保證了膜層的均勻性;建立膜厚分布的數(shù)學(xué)模型,模擬分析了運(yùn)動(dòng)參數(shù)對(duì)膜厚分布的影響;首次利用脈沖激光沉積技術(shù)制備出口徑200 mm大尺寸半球面襯底上的均勻類金剛石膜,頂角80°范圍內(nèi)膜厚不均勻性≤±5%。脈沖激光沉積法在大口徑半球面襯底上制備均勻類金剛石膜在空間觀測(cè)等領(lǐng)域均具有巨大的應(yīng)用前景。
【作者單位】： 武漢軍械士官學(xué)校光電技術(shù)研究所;
【關(guān)鍵詞】： 均勻膜層 脈沖激光沉積 類金剛石膜 大口徑半球面襯底
【分類號(hào)】：TN249
【正文快照】： 0引言作為新型的功能薄膜制備技術(shù),脈沖激光沉積(Pulsed Laser Deposition,PLD)是一種先進(jìn)材料的先進(jìn)制造技術(shù),與傳統(tǒng)方法相比,具有諸多優(yōu)勢(shì)[1]。但由于脈沖激光燒蝕靶材產(chǎn)生的等離子體羽輝具有很強(qiáng)的方向性,呈高斯分布,極不均勻,難以形成大面積均勻薄膜,球面襯底上鍍膜更加困

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