本文關(guān)鍵詞：光刻技術(shù)在微電子設(shè)備中的應(yīng)用及發(fā)展，由筆耕文化傳播整理發(fā)布。

【摘要】：近些年來,伴隨著我國芯片集成水平的高度提升,其對光刻技術(shù)的要求也不斷提高,在二十世紀(jì)末,科學(xué)界一致堅信光刻技術(shù)的的最低分辨率是0.5,但是伴隨著掃描技術(shù)、分辨率增強技術(shù)水平的提升與抗蝕劑等技術(shù)的應(yīng)用,當(dāng)下光刻技術(shù)分辨率已經(jīng)降低至0.1,甚至能夠低于0.1,雖然還是存在較多人對光刻技術(shù)的發(fā)展前景并不看好,但是其依舊憑借著不斷鉆研的精神,屢屢打破確定的分辨率極限,因此,本文主要針對當(dāng)下光刻技術(shù)在微電子設(shè)備的實際應(yīng)用與相關(guān)的發(fā)展前景進行深入的分析,希望能為我國光刻技術(shù)水平的提升具有一定的幫助。
【作者單位】： 揚州大學(xué)物理科學(xué)與技術(shù)學(xué)院;
【關(guān)鍵詞】： 光刻技術(shù) 微電子設(shè)備 發(fā)展
【分類號】：TN305.7
【正文快照】： 自世界上的首個晶體管被研發(fā)以來,半導(dǎo)體已經(jīng)歷經(jīng)了半個多世紀(jì)的發(fā)展歷史,目前,其依舊具有十分美好的發(fā)展前景。光刻技術(shù)主要是通過復(fù)制的方式將模板印到相關(guān)材料上從而形成電路,一開始,光刻技術(shù)的使用是微電子行業(yè)發(fā)展的重點,但是現(xiàn)在,光刻技術(shù)在眾多行業(yè)都得到了十分廣泛的

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