本文關鍵詞：光刻技術在微電子設備中的應用及發(fā)展，由筆耕文化傳播整理發(fā)布。

【摘要】：近些年來,伴隨著我國芯片集成水平的高度提升,其對光刻技術的要求也不斷提高,在二十世紀末,科學界一致堅信光刻技術的的最低分辨率是0.5,但是伴隨著掃描技術、分辨率增強技術水平的提升與抗蝕劑等技術的應用,當下光刻技術分辨率已經(jīng)降低至0.1,甚至能夠低于0.1,雖然還是存在較多人對光刻技術的發(fā)展前景并不看好,但是其依舊憑借著不斷鉆研的精神,屢屢打破確定的分辨率極限,因此,本文主要針對當下光刻技術在微電子設備的實際應用與相關的發(fā)展前景進行深入的分析,希望能為我國光刻技術水平的提升具有一定的幫助。
【作者單位】： 揚州大學物理科學與技術學院;
【關鍵詞】： 光刻技術 微電子設備 發(fā)展
【分類號】：TN305.7
【正文快照】： 自世界上的首個晶體管被研發(fā)以來,半導體已經(jīng)歷經(jīng)了半個多世紀的發(fā)展歷史,目前,其依舊具有十分美好的發(fā)展前景。光刻技術主要是通過復制的方式將模板印到相關材料上從而形成電路,一開始,光刻技術的使用是微電子行業(yè)發(fā)展的重點,但是現(xiàn)在,光刻技術在眾多行業(yè)都得到了十分廣泛的

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