基于CMOS工藝的太赫茲成像芯片研究
本文關(guān)鍵詞:基于CMOS工藝的太赫茲成像芯片研究,由筆耕文化傳播整理發(fā)布。
【摘要】:太赫茲成像技術(shù)在醫(yī)學(xué)成像和安全檢測(cè)等領(lǐng)域具有廣闊的應(yīng)用前景。近年來(lái),硅基CMOS工藝的持續(xù)進(jìn)步使得利用集成電路技術(shù)實(shí)現(xiàn)低成本和便攜式的太赫茲成像系統(tǒng)有了可能;诠杌鵆MOS工藝的太赫茲成像的原理、方法和芯片已成為當(dāng)前的研究熱點(diǎn)。本論文采用0.18pm CMOS工藝,研究了硅基太赫茲成像單元和陣列,研究?jī)?nèi)容包括以下幾個(gè)方面:1)分別利用流體力學(xué)方程和非準(zhǔn)靜態(tài)模型分析MOSFET的太赫茲?rùn)z波原理。研究了兩種理論分析方法的聯(lián)系與區(qū)別,總結(jié)了兩種分析方法各自的優(yōu)缺點(diǎn)。2)設(shè)計(jì)了太赫茲片上微帶饋電矩形貼片天線。天線用底層金屬作為地平面,實(shí)現(xiàn)電磁波能量屏蔽層。用頂層金屬作為輻射貼片,提高天線增益和效率。同時(shí)設(shè)計(jì)了天線到檢波管的匹配電路,提高功率傳輸效率。3)研究了用于成像輸出的運(yùn)算放大器。針對(duì)不同的應(yīng)用場(chǎng)景和性能要求,設(shè)計(jì)了三種類型的運(yùn)算放大器:開環(huán)使用的基本兩級(jí)運(yùn)算放大器、反饋型兩級(jí)運(yùn)算放大器和反饋型低噪聲運(yùn)算放大器。測(cè)試結(jié)果表明,三種類型的運(yùn)算放大器均工作正常,測(cè)試結(jié)果與仿真結(jié)果吻合良好。4)研究了太赫茲成像單元和陣列。對(duì)檢波管和運(yùn)算放大器的連接方式進(jìn)行了研究,方面為了提高自混頻的效率,在檢波管和運(yùn)算放大器之間插入一個(gè)5kΩ的電阻,滿足高頻時(shí)負(fù)載輸出阻抗的要求。另一方面,在運(yùn)算放大器輸入偏置的加入方式上,用偽電阻單元作為大電阻,解決了工藝庫(kù)沒(méi)有提供超大電阻的問(wèn)題。基于對(duì)成像單元的研究,設(shè)計(jì)了一個(gè)可尋址的2×2的成像陣列。測(cè)試結(jié)果表明,成像單元能實(shí)現(xiàn)較大的檢波輸出,成像陣列能正常工作。
【關(guān)鍵詞】:CMOS 太赫茲成像 在片天線 運(yùn)算放大器
【學(xué)位授予單位】:東南大學(xué)
【學(xué)位級(jí)別】:碩士
【學(xué)位授予年份】:2016
【分類號(hào)】:TN722.77;TN432
【目錄】:
- 摘要5-6
- Abstract6-9
- 第一章 緒論9-13
- 1.1 研究背景和意義9-10
- 1.1.1 太赫茲電磁波的特點(diǎn)9
- 1.1.2 太赫茲電磁波的產(chǎn)生和探測(cè)9-10
- 1.1.3 太赫茲成像技術(shù)的應(yīng)用前景10
- 1.2 基于CMOS工藝的太赫茲成像技術(shù)的研究現(xiàn)狀10-12
- 1.3 論文主要工作和組織結(jié)構(gòu)12-13
- 第二章 基于CMOS工藝的太赫茲?rùn)z波器原理13-21
- 2.1 基于流體力學(xué)的MOSFET太赫茲?rùn)z波原理13-16
- 2.2 基于非準(zhǔn)靜態(tài)模型的MOSFET太赫茲?rùn)z波原理16-19
- 2.2.1 阻性自混頻的準(zhǔn)靜態(tài)分析17-18
- 2.2.2 分布式阻性自混頻的非準(zhǔn)靜態(tài)分析18-19
- 2.3 本章小結(jié)19-21
- 第三章 CMOS片上太赫茲成像單元天線的研究21-31
- 3.1 實(shí)現(xiàn)片上天線的優(yōu)點(diǎn)和難點(diǎn)21-22
- 3.1.1 實(shí)現(xiàn)片上天線的優(yōu)點(diǎn)21
- 3.1.2 實(shí)現(xiàn)片上天線的難點(diǎn)21-22
- 3.2 微帶饋電矩形貼片天線基本原理22-24
- 3.3 微帶饋電矩形貼片天線設(shè)計(jì)24-29
- 3.4 天線與檢波單元的阻抗匹配29-30
- 3.5 本章小結(jié)30-31
- 第四章 CMOS運(yùn)算放大器的研究31-47
- 4.1 研究背景31-33
- 4.1.1 運(yùn)算放大器的基本原理31-32
- 4.1.2 運(yùn)算放大器的性能指標(biāo)32-33
- 4.1.3 本文運(yùn)算放大器設(shè)計(jì)的基本思路33
- 4.2 兩級(jí)運(yùn)算放大器的設(shè)計(jì)33-35
- 4.2.1 30dB兩級(jí)運(yùn)算放大器設(shè)計(jì)33-34
- 4.2.2 42dB兩級(jí)運(yùn)算放大器設(shè)計(jì)34-35
- 4.3 反饋型兩級(jí)運(yùn)算放大器設(shè)計(jì)35-37
- 4.3.1 30dB電阻反饋型兩級(jí)運(yùn)算放大器設(shè)計(jì)35-36
- 4.3.2 31dB電容反饋型兩級(jí)運(yùn)算放大器設(shè)計(jì)36-37
- 4.4 低噪聲運(yùn)算放大器設(shè)計(jì)37-39
- 4.5 CMOS運(yùn)算放大器的測(cè)試39-45
- 4.5.1 30dB兩級(jí)運(yùn)算放大器的測(cè)試41
- 4.5.2 42dB兩級(jí)運(yùn)算放大器的測(cè)試41-42
- 4.5.3 30dB電阻反饋型兩級(jí)運(yùn)算放大器的測(cè)試42-43
- 4.5.4 31dB電容反饋型兩級(jí)運(yùn)算放大器的測(cè)試43
- 4.5.5 32dB低噪聲運(yùn)算放大器的測(cè)試43-44
- 4.5.6 CMOS運(yùn)算放大器的測(cè)試結(jié)果與仿真結(jié)果的比較44-45
- 4.6 本章小結(jié)45-47
- 第五章 CMOS太赫茲成像單元與陣列研究47-69
- 5.1 不帶天線的太赫茲成像單元的設(shè)計(jì)47-50
- 5.1.1 帶兩級(jí)運(yùn)算放大器的成像單元設(shè)計(jì)47-48
- 5.1.2 帶反饋型運(yùn)算放大器的成像單元設(shè)計(jì)48-49
- 5.1.3 帶低噪聲運(yùn)算放大器的成像單元設(shè)計(jì)49-50
- 5.2 帶天線的太赫茲成像單元的設(shè)計(jì)50-51
- 5.3 CMOS太赫茲成像陣列的設(shè)計(jì)51-55
- 5.3.1 2×2太赫茲成像陣列系統(tǒng)架構(gòu)51
- 5.3.2 行列控制信號(hào)產(chǎn)生電路設(shè)計(jì)51-53
- 5.3.3 2×2太赫茲成像陣列電路設(shè)計(jì)53-55
- 5.4 不帶天線的太赫茲成像單元的測(cè)試55-65
- 5.4.1 帶30dB兩級(jí)運(yùn)算放大器的成像單元的測(cè)試56-60
- 5.4.2 帶42dB兩級(jí)運(yùn)算放大器的成像單元的測(cè)試60-63
- 5.4.3 帶31dB電容反饋型運(yùn)算放大器的成像單元的測(cè)試63-65
- 5.5 2×2太赫茲成像陣列的測(cè)試65-67
- 5.5.1 行列控制信號(hào)產(chǎn)生電路的測(cè)試65-66
- 5.5.2 陣列邏輯功能的測(cè)試66-67
- 5.6 本章小結(jié)67-69
- 第六章 總結(jié)與展望69-71
- 致謝71-73
- 參考文獻(xiàn)73-77
- 作者簡(jiǎn)介77
【相似文獻(xiàn)】
中國(guó)期刊全文數(shù)據(jù)庫(kù) 前10條
1 ;最小的核磁共振設(shè)備 采用CMOS工藝使體積縮小為1/40,重量減輕為1/60[J];電子設(shè)計(jì)應(yīng)用;2008年05期
2 李波;呂堅(jiān);蔣亞?wèn)|;;一種基于0.5μmCMOS工藝的補(bǔ)償型電流控制振蕩器設(shè)計(jì)[J];電子器件;2009年01期
3 陳裕權(quán);;采用CMOS工藝的24GHz全集成功放[J];半導(dǎo)體信息;2006年01期
4 徐靜萍;;基于CMOS工藝的高精度過(guò)溫保護(hù)電路的設(shè)計(jì)[J];西安郵電學(xué)院學(xué)報(bào);2006年05期
5 劉奎偉,韓鄭生,錢鶴,陳則瑞,于洋,饒競(jìng)時(shí),仙文嶺;兼容標(biāo)準(zhǔn)CMOS工藝的高壓器件設(shè)計(jì)與模擬[J];半導(dǎo)體學(xué)報(bào);2003年07期
6 陳弘達(dá),孫增輝,毛陸虹,崔增文,高鵬,陳永權(quán),申榮鉉;與CMOS工藝兼容的硅基光發(fā)射器件研究進(jìn)展[J];光電子·激光;2003年03期
7 張鵬南;;基于CMOS工藝時(shí)鐘產(chǎn)生電路的設(shè)計(jì)[J];煤炭技術(shù);2010年03期
8 張俊安;陳良;楊毓軍;張瑞濤;王友華;余金山;;一種基于0.18μm CMOS工藝的上電復(fù)位電路[J];微電子學(xué);2012年02期
9 P.S.Winokur ,郭樹田;抗輻照硅柵CMOS工藝的最佳條件及控制[J];微電子學(xué);1986年05期
10 王清華;LSI展示下一代0.25微米CMOS工藝[J];世界電子元器件;1997年06期
中國(guó)重要會(huì)議論文全文數(shù)據(jù)庫(kù) 前1條
1 代文亮;李征帆;;基于CMOS工藝芯片互連線的全電荷格林函數(shù)法分析與測(cè)試[A];2003'全國(guó)微波毫米波會(huì)議論文集[C];2003年
中國(guó)重要報(bào)紙全文數(shù)據(jù)庫(kù) 前1條
1 ;光通信芯片將趨向于采用CMOS工藝[N];中國(guó)電子報(bào);2009年
中國(guó)博士學(xué)位論文全文數(shù)據(jù)庫(kù) 前3條
1 余振興;CMOS工藝毫米波低噪放和混頻器的研究與設(shè)計(jì)[D];東南大學(xué);2015年
2 陳波;基于CMOS工藝的毫米波發(fā)射機(jī)芯片設(shè)計(jì)[D];華東師范大學(xué);2016年
3 姜玉稀;深亞微米CMOS工藝下全芯片ESD設(shè)計(jì)與仿真的研究[D];上海大學(xué);2011年
中國(guó)碩士學(xué)位論文全文數(shù)據(jù)庫(kù) 前10條
1 黃鵬;基于CMOS工藝的變壓器耦合毫米波功率放大器芯片設(shè)計(jì)[D];電子科技大學(xué);2014年
2 孫建偉;基于CMOS工藝的低壓差線性穩(wěn)壓器的研究與設(shè)計(jì)[D];北京理工大學(xué);2016年
3 柳衛(wèi)天;基于CMOS工藝的太赫茲成像芯片研究[D];東南大學(xué);2016年
4 龍暉;基于CMOS工藝的鎖相環(huán)頻率合成器設(shè)計(jì)[D];湖南大學(xué);2007年
5 李偉光;基于CMOS工藝的低壓差線性穩(wěn)壓器研究[D];西安科技大學(xué);2009年
6 顧今龍;標(biāo)準(zhǔn)數(shù)字CMOS工藝下視頻模擬前端IP核的設(shè)計(jì)[D];復(fù)旦大學(xué);2009年
7 萬(wàn)求真;基于0.18μm CMOS工藝的高性能上混頻器設(shè)計(jì)[D];湖南大學(xué);2010年
8 吳學(xué)祥;基于CMOS工藝的低功耗脈沖型觸發(fā)器設(shè)計(jì)[D];浙江大學(xué);2012年
9 胡俊偉;基于CMOS工藝的毫米波混頻器研究與設(shè)計(jì)[D];電子科技大學(xué);2013年
10 王樂(lè)平;光電二極管在0.35μm CMOS工藝上的集成與優(yōu)化[D];復(fù)旦大學(xué);2009年
本文關(guān)鍵詞:基于CMOS工藝的太赫茲成像芯片研究,由筆耕文化傳播整理發(fā)布。
,本文編號(hào):482613
本文鏈接:http://sikaile.net/kejilunwen/dianzigongchenglunwen/482613.html