本文關(guān)鍵詞：電化學(xué)沉積設(shè)備在集成電路制造中的應(yīng)用及發(fā)展現(xiàn)狀，，由筆耕文化傳播整理發(fā)布。

【摘要】：根據(jù)集成電路發(fā)展的趨勢,分析了電化學(xué)沉積設(shè)備在集成電路行業(yè)的應(yīng)用。通過及國外各主流設(shè)備的特點(diǎn)及國內(nèi)設(shè)備的現(xiàn)狀闡述,指出了國內(nèi)在電化學(xué)沉積設(shè)備及技術(shù)方面,與國外水平存在巨大的差距。
【作者單位】： 中國電子科技集團(tuán)公司第四十五研究所;
【關(guān)鍵詞】： 電化學(xué)沉積 集成電路 應(yīng)用
【分類號】：TN405
【正文快照】： 集成電路向“高集成度、高可靠性、高速率、低功耗”發(fā)展,制造工藝不斷變革。(1)隨著半導(dǎo)體技術(shù)的發(fā)展,集成電路線條更加微細(xì)化,微結(jié)構(gòu)尺寸小,僅有0.1~1μm,而銅的電阻率比鋁小,抗電遷移能力比鋁好、擴(kuò)散迅速,130 nm及以下集成電路工藝均應(yīng)采用銅互聯(lián)工藝[1]。(2)集成電路封裝

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4 程松;李湘生;劉普襄;阮尚文;;選區(qū)電化學(xué)沉積快速成型控制系統(tǒng)研究[J];機(jī)械工程師;2010年12期

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6 陳剛,閻興斌,劉惠文,徐洮;電化學(xué)沉積DLC和CN_x薄膜的微觀形貌比較[J];電子顯微學(xué)報;2004年04期

7 周俊嬌;董曉哲;邱向楠;劉東;白銀強(qiáng);包曉玉;;ZnO薄膜的電化學(xué)沉積及其性能研究[J];南陽師范學(xué)院學(xué)報;2013年09期

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10 王維波,林瑞峰,林原,蕭緒瑞,陳旭光,楊勇;電化學(xué)沉積CdSe納晶薄膜的性能及沉積機(jī)理[J];感光科學(xué)與光化學(xué);1998年02期

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1 尹振;翟玉春;;室溫離子液體在電化學(xué)沉積中的研究進(jìn)展[A];第十一屆全國粉體工程學(xué)術(shù)會暨相關(guān)設(shè)備、產(chǎn)品交流會論文集[C];2005年

2 劉大為;李敬鋒;;用于制作微型熱電模塊的電化學(xué)填充工藝的擴(kuò)散理論模型[A];2011中國材料研討會論文摘要集[C];2011年

3 陳剛;閻興斌;劉惠文;徐洮;;電化學(xué)沉積CN_x薄膜的摩擦性能研究[A];第五屆中國功能材料及其應(yīng)用學(xué)術(shù)會議論文集Ⅲ[C];2004年

4 邱日;張盾;;電化學(xué)沉積納米FeCu樹枝狀合金的研究[A];中國化學(xué)會第27屆學(xué)術(shù)年會第04分會場摘要集[C];2010年

5 柴永存;陳曉;趙繼寬;張國棟;;溶致液晶模板電化學(xué)沉積束狀鉑納米材料[A];中國化學(xué)會第二十五屆學(xué)術(shù)年會論文摘要集（下冊）[C];2006年

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2 胡仁;結(jié)構(gòu)有序納米HA涂層的電化學(xué)構(gòu)筑及鈦/細(xì)胞界面原位EIS研究[D];廈門大學(xué);2005年

3 郭睿R

本文編號：464501