本文關(guān)鍵詞：基于DMD光刻制作微柱透鏡陣列分模曝光的研究，，由筆耕文化傳播整理發(fā)布。

【摘要】：針對(duì)無掩模光刻技術(shù)制作微柱透鏡陣列的面形精度問題,對(duì)曝光方式和掩模設(shè)計(jì)進(jìn)行研究,采用一種分模曝光方法,包括圖形分層,掩模設(shè)計(jì),分層掩�；叶日{(diào)制,分層曝光四個(gè)步驟。在曝光前,需要對(duì)二維掩模版圖按設(shè)計(jì)結(jié)構(gòu)高度進(jìn)行分層,以實(shí)現(xiàn)單層掩模在抗蝕劑上的投影成像高度不超過物鏡的焦深范圍�；跀�(shù)字微鏡陣列對(duì)灰度掩模的空間調(diào)制原理,設(shè)計(jì)出匹配的分層掩模版圖,給出了圖形分層原則和方法以及模板設(shè)計(jì)的原理。實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明:采用該方法制作微柱透鏡陣列,面形平均誤差為0.54μm,相比以往單模曝光平均誤差值0.79μm,平均誤差減小了0.25μm,該方法彌補(bǔ)了由物鏡焦深限制所造成的技術(shù)問題,提高了曝光質(zhì)量。
【作者單位】： 長春理工大學(xué)光電工程學(xué)院;
【關(guān)鍵詞】： 無掩模光刻 數(shù)字微鏡 灰度掩模 微柱透鏡陣列 分模曝光
【分類號(hào)】：TN305.7
【正文快照】： *聯(lián)系人:E-mail:custdong@126.com微柱透鏡陣列是指連續(xù)面形的微結(jié)構(gòu),由幾微米到幾百微米的微小柱透鏡按照一定排列組成。由于其體積小、質(zhì)量輕,便于集成化和陣列化等特點(diǎn),微柱透鏡陣列被廣泛應(yīng)用于光束整形、三維成像與探測[1-3]。目前,制作柱透鏡陣列的方法主要有光刻膠熱熔

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本文編號(hào)：445405