本文關(guān)鍵詞：納米壓印技術(shù)脫模過程機(jī)理分析，由筆耕文化傳播整理發(fā)布。

【摘要】：為了減少脫模導(dǎo)致的產(chǎn)品缺陷,對納米壓印技術(shù)中的脫模機(jī)理進(jìn)行研究�；诮缑媪W(xué)的接觸理論提出了模板和聚合物之間作用力的理論模型,利用ANSYS軟件模擬模板和聚合物的接觸分離過程。采用斷裂力學(xué)能量平衡理論,通過脫模力和脫模位移之間的關(guān)系分析脫模規(guī)律和機(jī)理。研究結(jié)果表明,脫模過程中不同位置接觸面上的作用力存在較大差異;高寬比為2和1.5時(shí),脫模力曲線有兩個(gè)峰值,高寬比為1和0.5時(shí),脫模力曲線有一個(gè)峰值;殘余層厚度增加,與同一脫模力相對應(yīng)的脫模位移會(huì)相應(yīng)增大,但不影響最大脫模力的數(shù)值。
【作者單位】： 山東科技大學(xué)土木工程與建筑學(xué)院;
【關(guān)鍵詞】： 脫模過程 機(jī)理 接觸 黏結(jié)力 脫模力 脫模位移
【基金】：山東省“泰山學(xué)者”建設(shè)工程專項(xiàng)資金項(xiàng)目(TSHW 20130956)
【分類號(hào)】：TN305.7
【正文快照】： 納米壓印技術(shù)[1](nano-imprint lithography,NIL)是目前國際上普遍關(guān)注的一種全新的微納米結(jié)構(gòu)制造技術(shù),因其有低成本、高效率等優(yōu)點(diǎn)而被看作是最具有工業(yè)化應(yīng)用前景的微納米結(jié)構(gòu)制造方法之一。由于該技術(shù)采用宏觀技術(shù)手法對物體微觀領(lǐng)域進(jìn)行改造,很難避免產(chǎn)品制造過程中出現(xiàn)

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本文編號(hào)：415076