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AlN-MOCVD生長中氣相寄生反應(yīng)路徑

發(fā)布時(shí)間:2023-05-26 22:58
  利用量子化學(xué)的密度泛函理論,研究用于制備紫外光電器件的AlN薄膜在MOCVD生長中的氣相寄生反應(yīng),計(jì)算與氣相納米粒子相關(guān)的3種主要多聚物[DMAlNH2]2,[MMAlNH]2,[MMAlNH]3與NH3的反應(yīng)路徑.通過對比不同溫度下反應(yīng)前后的吉布斯自由能差ΔG以及過渡態(tài)的活化自由能ΔG*,判斷反應(yīng)發(fā)生的方向和概率.結(jié)果表明:[DMAlNH2]2存在2條競爭路徑,當(dāng)T<749 K時(shí),反應(yīng)走[DMAlNH2]2與NH3的雙分子反應(yīng)路徑,產(chǎn)物為[Al(NH2)3]2;當(dāng)T>749 K時(shí),反應(yīng)趨向于活化自由能更低的、脫去CH4生成[MMAlNH]2的分子內(nèi)反應(yīng)路徑.[MMAlNH]2,[MMAlNH]3...

【文章頁數(shù)】:6 頁

【文章目錄】:
1 計(jì)算模型和驗(yàn)證
2 結(jié)果與討論
    2.1 [DMAlNH2]2與NH3的反應(yīng)
    2.2 [MMAlNH]2與NH3的反應(yīng)
    2.3 [MMAlNH]3與NH3的反應(yīng)
3 結(jié) 論



本文編號:3823425

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