倍增層厚度對(duì)In 0.53 Ga 0.47 As/InP雪崩二極管器件特性的影響
發(fā)布時(shí)間:2023-02-12 08:55
利用Zn擴(kuò)散方法制備了倍增層厚度為1.5,1.0,0.8μm的In0.53Ga0.47As/InP雪崩光電二極管(APDs),研究了該器件特性。隨著倍增層厚度的增加,器件的貫穿電壓和擊穿電壓均呈現(xiàn)增大趨勢(shì);赟ilvaco模擬計(jì)算了APD器件的倍增層厚度對(duì)電場(chǎng)強(qiáng)度、電流特性、擊穿電壓與貫穿電壓的影響規(guī)律,結(jié)果表明,隨著倍增層厚度的增加,倍增層內(nèi)電場(chǎng)強(qiáng)度減小,貫穿電壓和擊穿電壓同時(shí)增大,與實(shí)驗(yàn)結(jié)果吻合。進(jìn)一步研究發(fā)現(xiàn),當(dāng)倍增層的厚度小于0.8μm時(shí),擊穿電壓隨著倍增層厚度的增加會(huì)先減小后增大,貫穿電壓則會(huì)單調(diào)增大。
【文章頁(yè)數(shù)】:5 頁(yè)
【文章目錄】:
1 引 言
2 APD器件的制備和性能分析
3 器件性能的仿真分析
4 結(jié) 論
本文編號(hào):3740783
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1 引 言
2 APD器件的制備和性能分析
3 器件性能的仿真分析
4 結(jié) 論
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