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超聲噴霧熱分解法制備Sn摻雜ZnO薄膜及其性能研究

發(fā)布時(shí)間:2022-12-18 00:13
  氧化鋅(ZnO)是一種具有寬禁帶(約為3.37 eV)的優(yōu)秀半導(dǎo)體材料,由于它具備激子束縛能(60 meV)大、光透過率高、介電常數(shù)低、溫度穩(wěn)定性好和易于摻雜等優(yōu)點(diǎn),在太陽能電池、表面聲波器件、紫外探測(cè)器、低輻射玻璃、傳感器及發(fā)光器件等領(lǐng)域都具有極大的應(yīng)用前景。理論和實(shí)驗(yàn)研究結(jié)果都表明,摻雜可以有效地提高ZnO的光學(xué)性能、電性能和穩(wěn)定性。目前,Sn摻雜ZnO薄膜研究較少,尤其是采用超聲霧化熱分解法制備Sn摻雜ZnO薄膜。本文以SnCl2作為摻雜源,采用雙源超聲霧化熱分解方法和技術(shù),在不同生長條件下實(shí)現(xiàn)高質(zhì)量Sn摻雜ZnO薄膜的可控生長,制備了摻錫氧化鋅薄膜。其開展的研究工作主要有以下幾點(diǎn):1.研究了Sn摻雜的ZnO(ZSO)薄膜的沉積機(jī)理,利用超聲噴霧熱分解技術(shù),通過控制襯底溫度(425℃、450℃、475℃、500℃和525℃)、摻雜濃度(0at.%、1at.%、2at.%、3at.%、4at.%、5at.%、6at.%)和噴涂時(shí)間(8min、12min、16min、20min、24min、28min)3個(gè)生長條件,在玻璃基底上生長ZnO:Sn薄膜,并對(duì)生長完成... 

【文章頁數(shù)】:47 頁

【學(xué)位級(jí)別】:碩士

【文章目錄】:
摘要
Abstract
第1章 緒論
    1.1 引言
    1.2 國內(nèi)外透明導(dǎo)電薄膜進(jìn)展
        1.2.1 In_2O_3 系列透明導(dǎo)電薄膜
        1.2.2 SnO_2 系列透明導(dǎo)電薄膜
        1.2.3 ZnO系列透明導(dǎo)電薄膜
    1.3 ZnO的應(yīng)用
    1.4 ZnO常用薄膜制備方法
    1.5 選題的確定及本文研究的主要內(nèi)容
        1.5.1 選題基本理論依據(jù)
        1.5.2 理論研究方案
        1.5.3 實(shí)驗(yàn)制備手段方案
第2章 超聲噴霧熱分解法ZnO:Sn薄膜的制備
    2.1 實(shí)驗(yàn)原料
    2.2 樣品制備方法
    2.3 樣品表征設(shè)備及原理簡介
第3章 ZnO:Sn薄膜結(jié)構(gòu)特性
    3.1 不同襯底溫度對(duì)ZnO:Sn薄膜晶體結(jié)構(gòu)的影響
    3.2 ZnO:Sn薄膜表面形貌及化學(xué)計(jì)量分析
    3.3 不同摻雜濃度對(duì)ZnO:Sn薄膜晶體結(jié)構(gòu)的影響
    3.4 不同噴涂時(shí)間對(duì)ZnO:Sn薄膜晶體結(jié)構(gòu)的影響
    3.5 本章小結(jié)
第4章 ZnO:Sn薄膜的光學(xué)性質(zhì)
    4.1 不同襯底溫度對(duì)ZnO:Sn光學(xué)性質(zhì)的影響
    4.2 不同摻雜濃度對(duì)ZnO:Sn薄膜光學(xué)性質(zhì)的影響
    4.3 不同噴涂時(shí)間對(duì)ZnO:Sn薄膜光學(xué)性質(zhì)的影響
    4.4 本章小結(jié)
第5章 ZnO:Sn薄膜的疏水性
    5.1 不同襯底溫度下ZnO:Sn薄膜的疏水性質(zhì)
    5.2 不同摻雜濃度下ZnO:Sn薄膜的疏水性質(zhì)
    5.3 不同噴涂時(shí)間對(duì)ZnO:Sn薄膜的疏水性質(zhì)
    5.4 本章小結(jié)
第6章 總結(jié)及展望
    6.1 本文總結(jié)
    6.2 后續(xù)工作及展望
參考文獻(xiàn)
致謝
在學(xué)期間的科研情況



本文編號(hào):3720935

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