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應用于AMOLED顯示的金屬氧化物TFT行集成驅(qū)動電路研究與設計

發(fā)布時間:2021-12-31 19:25
  薄膜晶體管(TFT)是平板顯示領域核心的有源尋址器件。近年來金屬氧化物TFT由于其優(yōu)良的器件特性和低成本的生產(chǎn)工藝而受到極大關注,有望代替?zhèn)鹘y(tǒng)的非晶硅TFT和低溫多晶硅TFT,成為新一代背板技術。而有源矩陣有機發(fā)光二極管(AMOLED)顯示由于其具有眾多的優(yōu)點如可自主發(fā)光,高響應速度和可柔性彎曲等,是被譽為下一代可取代液晶顯示(LCD)的大尺寸、高分辨的顯示技術。金屬氧化物TFT應用于AMOLED顯示更是成為產(chǎn)業(yè)界的熱點。金屬氧化物TFT因其優(yōu)良的器件特性,不僅可以作為像素的驅(qū)動單元,還可以用來集成外圍驅(qū)動電路,特別用來集成行驅(qū)動電路。用金屬氧化物TFT集成行驅(qū)動電路不僅可滿足AMOLED日趨復雜的像素補償電路的驅(qū)動要求,而且還有眾多優(yōu)點如簡化模組工藝,降低芯片成本及實現(xiàn)顯示器的窄邊框等。本文主要對應用于AMOLED顯示的金屬氧化物TFT的行集成驅(qū)動電路進行研究與設計。首先對實際測出的金屬氧化物TFT特性曲線進行模型擬合,為后續(xù)對金屬氧化物TFT的行集成驅(qū)動電路的原理驗證提供精確的仿真模型。然后設計了一種應用于AMOLED顯示的高穩(wěn)定性的金屬氧化物TFT行集成驅(qū)動電路,先對該電路進行原... 

【文章來源】:華南理工大學廣東省 211工程院校 985工程院校 教育部直屬院校

【文章頁數(shù)】:65 頁

【學位級別】:碩士

【部分圖文】:

應用于AMOLED顯示的金屬氧化物TFT行集成驅(qū)動電路研究與設計


TFT器件結構

輸出特性曲線,轉移特性,輸出特性


a) b)圖 1-2 N 型 TFT a)轉移特性 b)輸出特性Fig 1-2 N type TFT a) The transfer characteristic b) The output characteristic圖 1-2 a)為 TFT 的轉移特性曲線,可以看出 TFT 柵極可以控制流過管子電流的大,因此利用柵極電壓的大小可以很好地控制 TFT 的開與關。圖 1-2 b)為輸出特性曲線,要包括三個工作區(qū):(1)截止區(qū)。TFT 的柵源電壓使管子關斷,使流過管子的電流非小,管子處于截止狀態(tài);(2)線性區(qū)。當 VDS﹤﹤VGS,流過管子的漏電流隨源漏電壓線增加,TFT 的溝道電阻不變,其溝道電阻與管子的柵源電壓無關;(3)飽和區(qū)。當 VDS﹥VGS,溝道中流過的電流保持恒流狀態(tài),其漏電流只與 TFT 的柵源電壓有關[6]。根據(jù)形成 TFT 溝道有源層材料的不同,主要分為氫化非晶硅(Hydrogenatedmorphous silicon,H: a-Si)TFT,低溫多晶硅(Low Temperature Poly-Silicon, LTPS)TFT金屬氧化物(Metal Oxide)TFT[1-6]。另外,還有一種以有機物(Organic)半導體材為有源層的 TFT 近年來也引起了一定的關注,有機 TFT 的材料來源多,可采用溶液

電路原理圖,電路原理圖,驅(qū)動管


圖 1-3 2T1C 電路原理圖Fig 1-3 Schematic of 2T1C circuit,T1 為開關管而 T2 為驅(qū)動管,工作過程包括 Vdata 會將像素所需要的灰階電壓信號通過 T1,T2 的柵極電壓被存儲電容 Cs 存儲,在整一個因此 OLED 亮度不變,其中流過 OLED 的電流2n222()()21OLEDoxGSthVVLWI μ C (1-1) μn,W/L,Cox和 Vth2分別是驅(qū)動管 T2 的載流電容,柵源電容和閾值電壓。從公式 1-1 可以值電壓 Vth2的影響。在非晶硅中,TFT 的閾值移,而在低溫多晶硅中,TFT 的閾值電壓會在化物中,TFT 隨著工作時間的增長(特別是在

【參考文獻】:
期刊論文
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[2]新型金屬氧化物薄膜晶體管的性能研究及工藝開發(fā)[D]. 羅東向.華南理工大學 2014
[3]金屬氧化物薄膜晶體管器件的穩(wěn)定性研究[D]. 李民.華南理工大學 2014
[4]薄膜晶體管及其在有源矩陣有機發(fā)光二極管中的應用[D]. 蘭林鋒.華南理工大學 2010

碩士論文
[1]OLED像素驅(qū)動電路設計[D]. 周雷.華南理工大學 2013
[2]面向AMOLED應用的氧化鋅基TFT集成電路研究[D]. 張立榮.華南理工大學 2012



本文編號:3560830

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