GaN HEMT器件結(jié)溫在線測(cè)量方法的研究與應(yīng)用
發(fā)布時(shí)間:2021-11-01 22:56
伴隨著人工智能和現(xiàn)代工業(yè)的飛速崛起,半導(dǎo)體行業(yè)得以長(zhǎng)足發(fā)展。根據(jù)摩爾定律及行業(yè)趨勢(shì),功率半導(dǎo)體分立器件及集成模塊向著小尺寸、高集成和強(qiáng)耐壓的方向不斷發(fā)展,單位面積內(nèi)器件承受更大功耗和溫升,以GaN、SiC材料為代表的第三代半導(dǎo)體材料受到了越來越廣泛地關(guān)注。相比于第一、二代半導(dǎo)體材料,GaN材料具有更寬的禁帶寬度,相應(yīng)的本征激發(fā)溫度更高,在抵抗高溫和高壓方面擁有天然的優(yōu)勢(shì),GaN基HEMT器件在射頻、抗高溫及耐高壓等方面的出色特性保證了其廣闊的發(fā)展前景。然而,在高頻開關(guān)過程中引入的動(dòng)態(tài)功率損耗和大電流、強(qiáng)電壓條件下的大功率工況引發(fā)HEMT器件內(nèi)部結(jié)溫上升,導(dǎo)致電學(xué)性能退化和熱失效率增加等問題,制約了器件的長(zhǎng)期使用可靠性。溫度是衡量器件使用可靠性的重要指標(biāo),實(shí)時(shí)監(jiān)控器件結(jié)溫變化情況能夠?yàn)楣こ碳夹g(shù)人員提供客觀判據(jù),并可以預(yù)防由于結(jié)溫過高導(dǎo)致的燒毀問題,對(duì)保護(hù)器件和電路的長(zhǎng)期可靠工作具有重要的幫助。對(duì)此,本文從以下幾個(gè)方面進(jìn)行了相關(guān)研究工作:一、以電學(xué)測(cè)溫方法為基礎(chǔ),根據(jù)HEMT器件柵極反偏漏電流的溫度特性,提出一種以柵極反偏漏電流為溫敏參數(shù)的結(jié)溫測(cè)試方法。文章對(duì)反偏電流的組分進(jìn)行了理論分析,...
【文章來源】:北京工業(yè)大學(xué)北京市 211工程院校
【文章頁數(shù)】:68 頁
【學(xué)位級(jí)別】:碩士
【部分圖文】:
HEMT器件及其匹配電路
北京工業(yè)大學(xué)工程碩士專業(yè)學(xué)位論文溫敏特性的研究對(duì) HEMT 器件肖特基柵極結(jié)構(gòu)的電流組成現(xiàn)柵源反偏電流的不同組份都與溫度存在單以成為溫敏參數(shù)的基礎(chǔ)。利用 Agilent 半導(dǎo)H40010 的 HEMT 器件進(jìn)行柵源電流信號(hào)測(cè)為 0V,在不同溫度環(huán)境條件下進(jìn)行反復(fù)測(cè)如下圖所示:
恒溫測(cè)試環(huán)境——溫箱Fig3-2Constanttemperaturetestenvironment--thermostat
【參考文獻(xiàn)】:
期刊論文
[1]距離對(duì)紅外熱像儀測(cè)溫精度的影響及誤差修正[J]. 張勇,王新賽,賀明. 紅外. 2011(02)
[2]紅外熱像儀測(cè)溫技術(shù)發(fā)展綜述[J]. 孫曉剛,李云紅. 激光與紅外. 2008(02)
[3]調(diào)制摻雜對(duì)AlGaN/GaN HEMT材料電學(xué)性能的影響[J]. 許敏,袁鳳坡,陳國(guó)鷹,李冬梅,尹甲運(yùn),馮志宏. 半導(dǎo)體技術(shù). 2007(03)
本文編號(hào):3470842
【文章來源】:北京工業(yè)大學(xué)北京市 211工程院校
【文章頁數(shù)】:68 頁
【學(xué)位級(jí)別】:碩士
【部分圖文】:
HEMT器件及其匹配電路
北京工業(yè)大學(xué)工程碩士專業(yè)學(xué)位論文溫敏特性的研究對(duì) HEMT 器件肖特基柵極結(jié)構(gòu)的電流組成現(xiàn)柵源反偏電流的不同組份都與溫度存在單以成為溫敏參數(shù)的基礎(chǔ)。利用 Agilent 半導(dǎo)H40010 的 HEMT 器件進(jìn)行柵源電流信號(hào)測(cè)為 0V,在不同溫度環(huán)境條件下進(jìn)行反復(fù)測(cè)如下圖所示:
恒溫測(cè)試環(huán)境——溫箱Fig3-2Constanttemperaturetestenvironment--thermostat
【參考文獻(xiàn)】:
期刊論文
[1]距離對(duì)紅外熱像儀測(cè)溫精度的影響及誤差修正[J]. 張勇,王新賽,賀明. 紅外. 2011(02)
[2]紅外熱像儀測(cè)溫技術(shù)發(fā)展綜述[J]. 孫曉剛,李云紅. 激光與紅外. 2008(02)
[3]調(diào)制摻雜對(duì)AlGaN/GaN HEMT材料電學(xué)性能的影響[J]. 許敏,袁鳳坡,陳國(guó)鷹,李冬梅,尹甲運(yùn),馮志宏. 半導(dǎo)體技術(shù). 2007(03)
本文編號(hào):3470842
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