散射過程是物理學(xué)中重要的研究領(lǐng)域,散射過程的研究在了解微觀粒子結(jié)構(gòu)和運動規(guī)律性上起著重要的作用,在理論研究上主要通過三重微分散射截面了解散射過程中的信息。電子碰撞原子的過程稱為（e,2e）反應(yīng),氫原子的（e,2e）反應(yīng)是散射過程中最簡單的一種,隨著激光技術(shù)的迅速發(fā)展,加入激光場后的（e,2e）反應(yīng)得到了廣泛的研究,這對于等離子物理、化學(xué)反應(yīng)、核聚變物理等方面的研究有著重要的意義,激光場下（e,2e）反應(yīng)的研究有利于人們對于微觀世界的探索。本文主要研究的是圓偏振激光場中電子離化激發(fā)態(tài)氫原子的三重微分散射截面,激光場選用弱場。計算過程以薛定諤方程為基礎(chǔ),利用一級玻恩近似條件,使用合流超幾何函數(shù)、貝塞爾函數(shù)輔助,選取適當?shù)牟ê瘮?shù)描述入射電子、靶原子、散射電子和碰出電子。通過計算得出三重微分散射截面具體表達形式。利用控制變量的方法,分別改變散射角度、有效電荷數(shù)、碰出電子能量,利用Mathematica繪制出三重微分散射截面的圖像,分析激光場下各物理量對三重微分散射截面的影響。通過繪制出的二維圖像發(fā)現(xiàn),靶原子為氫原子?₂₀₀態(tài)時,binary峰隨散射角度、碰出電子能量、有效... 

【文章來源】：遼寧大學(xué)遼寧省 211工程院校

【文章頁數(shù)】：64 頁

【學(xué)位級別】：碩士

【部分圖文】：

散射示意圖

第 1 章 散射基本理論知識abe Hs H e e (1)0（1式子中0e ：入射電子，H：靶原子（本文主要研究激發(fā)態(tài)氫原子），（質(zhì)子），ae 和be 分別代表散射電子和碰出電子。（e,2e）反應(yīng)是能量和動量均守恒的過程。假設(shè)我們用（ ）iiEk ,表示入射和動量，（ ）11E,k 表示散射電子的能量和動量，（ ）22E,k 表示碰出電子的量。（e,2e）反應(yīng)過程中 E 和k 之間的關(guān)系如圖 1-2 所示。

圖 4-1210 態(tài)有無激光場的 TDCS 圖像圓偏振激光場強度為 auxy 0.01（采用原子單像，實線表示在場自由情況下的三重微分散射截面發(fā)態(tài)氫原子210 態(tài)時，在有無激光場狀態(tài)下“binar場后，左側(cè)峰的峰值得到了提升，右側(cè)峰高度無明。光場下氫原子210 態(tài)的 TDCS 圖像分析光場下氫原子210 態(tài)的 TDCS 圖像隨 的變化光場中，電子碰撞激發(fā)態(tài)氫原子210 態(tài)靶原子時，入激光場強度為 auxy 0.001，激光場頻率為


本文編號：3456721