加載功率與殼溫對AlGaN/GaN高速電子遷移率晶體管器件熱阻的影響
發(fā)布時(shí)間:2021-09-05 20:54
結(jié)溫是制約器件性能和可靠性的關(guān)鍵因素,通常利用熱阻計(jì)算器件的工作結(jié)溫.然而,器件的熱阻并不是固定值,它隨器件的施加功率、溫度環(huán)境等工作條件的改變而變化.針對該問題,本文以CREE公司生產(chǎn)的高速電子遷移率晶體管(HEMT)器件為研究對象,利用紅外熱像測溫法與Sentaurus TCAD模擬法相結(jié)合,測量研究了AlGaN/GaN HEMT器件在不同加載功率以及管殼溫度下熱阻的變化規(guī)律.研究發(fā)現(xiàn):當(dāng)器件殼溫由80°C升高至130°C時(shí),其熱阻由5.9°C/W變化為6.8°C/W,增大15%,其熱阻與結(jié)溫呈正反饋效應(yīng);當(dāng)器件的加載功率從2.8 W增加至14 W時(shí),其熱阻從5.3°C/W變化為6.5°C/W,增大22%.對其熱阻變化機(jī)理的研究發(fā)現(xiàn):在不同的管殼溫度以及不同的加載功率條件下,由于材料導(dǎo)熱系數(shù)的變化導(dǎo)致其熱阻隨溫度與加載功率的變化而變化.
【文章來源】:物理學(xué)報(bào). 2016,65(07)北大核心EISCICSCD
【文章頁數(shù)】:6 頁
【參考文獻(xiàn)】:
期刊論文
[1]耗散功率與環(huán)境溫度對功率VDMOS熱阻的影響分析[J]. 董晨曦,王立新. 電子器件. 2013(06)
[2]新型雙異質(zhì)結(jié)高電子遷移率晶體管的電流崩塌效應(yīng)研究[J]. 余晨輝,羅向東,周文政,羅慶洲,劉培生. 物理學(xué)報(bào). 2012(20)
[3]AlGaN/GaN高速電子遷移率晶體管器件電流坍塌效應(yīng)與界面熱阻和溫度的研究[J]. 顧江,王強(qiáng),魯宏. 物理學(xué)報(bào). 2011(07)
本文編號:3386070
【文章來源】:物理學(xué)報(bào). 2016,65(07)北大核心EISCICSCD
【文章頁數(shù)】:6 頁
【參考文獻(xiàn)】:
期刊論文
[1]耗散功率與環(huán)境溫度對功率VDMOS熱阻的影響分析[J]. 董晨曦,王立新. 電子器件. 2013(06)
[2]新型雙異質(zhì)結(jié)高電子遷移率晶體管的電流崩塌效應(yīng)研究[J]. 余晨輝,羅向東,周文政,羅慶洲,劉培生. 物理學(xué)報(bào). 2012(20)
[3]AlGaN/GaN高速電子遷移率晶體管器件電流坍塌效應(yīng)與界面熱阻和溫度的研究[J]. 顧江,王強(qiáng),魯宏. 物理學(xué)報(bào). 2011(07)
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