隨著米量級光柵在高功率激光裝置、大型光刻機設(shè)備等各大系統(tǒng)中的廣泛引用,對米量級光柵的制作技術(shù)也提出了更高的要求。針對米量級光柵的制作,中國科學(xué)技術(shù)大學(xué)與蘇州大學(xué)等單位已經(jīng)發(fā)展出一套較為成熟的全息-離子束刻蝕工藝。但是,全息光刻制備的米量級光刻膠光柵槽底仍極易殘留有多余的光刻膠,這將直接影響離子束刻蝕后光柵的槽深及均勻性,進(jìn)而影響到光柵質(zhì)量。本文針對米量級光刻膠光柵制備過程中的殘余光刻膠問題,使用輸出口徑Φ40 mm的等離子體源,設(shè)計并制作了一個梯形擴(kuò)散結(jié)構(gòu),取得了以下的研究成果:1、針對等離子體源,設(shè)計并制作了一種新的梯形擴(kuò)散結(jié)構(gòu)。該結(jié)構(gòu)包含有兩個部分:a.梯形中空擴(kuò)散結(jié)構(gòu),主要起到擴(kuò)散作用;b.可以調(diào)整間距的石墨柵欄結(jié)構(gòu),目的是將擴(kuò)散后的等離子體進(jìn)行二次調(diào)制,使其均勻分布。2、利用Fluent軟件對梯形擴(kuò)散結(jié)構(gòu)進(jìn)行仿真模擬,理論上驗證了梯形擴(kuò)散結(jié)構(gòu)的可行性。仿真模擬結(jié)果表明,等離子體經(jīng)過梯形擴(kuò)散結(jié)構(gòu)調(diào)制后能夠擴(kuò)散至600 mmX 40 mm的區(qū)域,且在500 mmX 40 mm分布均勻。3、設(shè)計了一系列等離子體刻蝕實驗,利用小尺寸光柵陣列模擬米量級光柵,對梯形擴(kuò)散結(jié)構(gòu)的實際擴(kuò)散勻化等... 

【文章來源】：中國科學(xué)技術(shù)大學(xué)安徽省 211工程院校 985工程院校

【文章頁數(shù)】：69 頁

【學(xué)位級別】：碩士

【部分圖文】：

圖１－１激光脈沖啁嗽脈沖放大系統(tǒng)原理示意圖??

量化、高效化的優(yōu)點，十分符合大口徑空間望遠(yuǎn)鏡系統(tǒng)的設(shè)計要求，因此目前對??于衍射光學(xué)元件應(yīng)用于超大口徑空間望遠(yuǎn)鏡系統(tǒng)在國際上己經(jīng)有了十分廣泛的??研宄［４２］。其中衍射光學(xué)元件以類光柵結(jié)構(gòu)的菲涅爾波帶片為主。圖１＿４為美國國??４??

世界上第一臺光柵刻劃機由美國著名物理學(xué)家Ｈ．?Ａ．?Ｒｏｗｌａｎｄ成功研制，并??利用它制作出了當(dāng)時最高性能的刻劃光柵，因此Ｈ．?Ａ．?Ｒｏｗｌａｎｄ也被譽為光柵刻??劃之父［４４］�？虅澒鈻诺闹谱鬟^程如圖１－５所示，主要是利用刻刀在鍍有金屬薄??膜的基底上刻劃出一道道細(xì)直線條，由刻劃出的一定數(shù)量的線條組成光柵結(jié)構(gòu)。??值得注意的是在光柵刻劃的過程中不會產(chǎn)生任何切屑，因為刻刀是對基底上的金??屬薄膜進(jìn)行擠壓成型而非傳統(tǒng)切削［４５］。??５??

【參考文獻(xiàn)】：
期刊論文
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博士論文
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[2]大型彎月面涂膠技術(shù)和應(yīng)用研究[D]. 林繼平.中國科學(xué)技術(shù)大學(xué) 2015
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本文編號：3365518