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原子層沉積方法制備低溫多層Al 2 O 3 /TiO 2 復(fù)合封裝薄膜的研究

發(fā)布時(shí)間:2021-08-07 22:36
  原子層沉積(ALD)方法可以制備出高質(zhì)量薄膜,被認(rèn)為是可應(yīng)用于柔性有機(jī)電致發(fā)光器件(OLED)最有發(fā)展前景的薄膜封裝技術(shù)之一。本文采用原子層沉積(ALD)技術(shù),在低溫(80℃)下,研究了Al2O3及TiO2薄膜的生長(zhǎng)規(guī)律,通過鈣膜水汽透過率(WVTR)、薄膜接觸角測(cè)試等手段,研究了不同堆疊結(jié)構(gòu)的多層Al2O3/TiO2復(fù)合封裝薄膜的水汽阻隔特性,其中5nm/5nm×8dyads(重復(fù)堆疊次數(shù))的Al2O3/TiO2疊層結(jié)構(gòu)薄膜的WVTR達(dá)到2.1×10-5 g/m2/day。采用優(yōu)化后的Al2O3/TiO2疊層結(jié)構(gòu)薄膜對(duì)OLED器件進(jìn)行封裝,實(shí)驗(yàn)發(fā)現(xiàn)封裝后的OLED器件在高溫高濕條件下展現(xiàn)了較好的壽命特性。 

【文章來源】:液晶與顯示. 2016,31(06)北大核心CSCD

【文章頁(yè)數(shù)】:8 頁(yè)

【文章目錄】:
1 引言
2 實(shí)驗(yàn)原理及方案
3 實(shí)驗(yàn)結(jié)果與分析
    3.1 薄膜生長(zhǎng)規(guī)律
    3.2 薄膜水汽阻隔性能測(cè)試
    3.3 薄膜接觸角特性分析
    3.4 OLED器件性能驗(yàn)證
4 結(jié)論


【參考文獻(xiàn)】:
期刊論文
[1]基于Al2O3封裝薄膜的OLED水汽透過率測(cè)試方法及系統(tǒng)研究[J]. 段瑋,李晟,張浩,張志林,張建華.  發(fā)光學(xué)報(bào). 2016(01)
[2]低溫原子層沉積氧化鋁作為有機(jī)電致發(fā)光器件的封裝薄膜[J]. 楊永強(qiáng),段羽,陳平,趙毅.  發(fā)光學(xué)報(bào). 2014(09)
[3]有機(jī)電致發(fā)光器件薄膜封裝研究進(jìn)展[J]. 高淑雅,孔祥朝,張方輝,呂磊.  液晶與顯示. 2012(02)
[4]有機(jī)發(fā)光器件(OLED)封裝技術(shù)的研究現(xiàn)狀分析[J]. 王振國(guó),高健,趙偉明,譚國(guó)良.  現(xiàn)代顯示. 2011(Z1)



本文編號(hào):3328670

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