瞬態(tài)反射光譜研究半導(dǎo)體表界面載流子動(dòng)力學(xué)的3種常見分析方法
發(fā)布時(shí)間:2021-06-18 17:44
基于飛秒脈沖激光器的時(shí)間分辨超快光譜技術(shù)已經(jīng)廣泛應(yīng)用于研究光與物質(zhì)相互作用、激發(fā)態(tài)性質(zhì)、超快動(dòng)力學(xué)等光物理現(xiàn)象,其中瞬態(tài)反射光譜是研究固體表界面電荷動(dòng)力學(xué)的有力工具之一.本文總結(jié)了瞬態(tài)反射光譜分析3類常見的半導(dǎo)體表界面(直接帶隙半導(dǎo)體表界面、間接帶隙半導(dǎo)體表界面和存在內(nèi)建電場(chǎng)的半導(dǎo)體表界面)載流子動(dòng)力學(xué)的方法;分析了前兩類半導(dǎo)體表界面瞬態(tài)反射光譜特征信號(hào)歸屬,討論了利用特征光譜信號(hào)表征擴(kuò)散、表面復(fù)合、界面電荷轉(zhuǎn)移等動(dòng)力學(xué)過程的原理;討論了高摻雜半導(dǎo)體表界面如果存在內(nèi)建電場(chǎng)的情況下表面反射光譜特征信號(hào)的歸屬,以及如何利用光誘導(dǎo)瞬態(tài)電場(chǎng)對(duì)反射光譜調(diào)制來追蹤界面電荷分離和復(fù)合的動(dòng)力學(xué).
【文章來源】:廈門大學(xué)學(xué)報(bào)(自然科學(xué)版). 2020,59(05)北大核心CSCD
【文章頁數(shù)】:13 頁
【部分圖文】:
圖1瞬態(tài)反射光譜裝置示意圖Fig.1Schematicillustrationofatransient
能級(jí)的帶間吸收,第二項(xiàng)為基態(tài)到不同能級(jí)的激子態(tài)的吸收.如圖4(b)所示,Elliott’s公式可以較好地?cái)M合帶隙附近的吸收光譜,因?yàn)樵摴轿窗吣芗?jí)之間的躍遷,無法用于擬合高能量光子的吸收.光譜擬合可以給出帶隙能量(2.35eV)和激子結(jié)合能(41.6meV).由于激子結(jié)合能較大,激子態(tài)的能量低于帶隙能量,材料受到泵浦光激發(fā),產(chǎn)生的載流子快速馳豫,常溫下大量占據(jù)激子態(tài)的能級(jí),由于泡利不相容原理,基態(tài)到被占據(jù)圖4MAPbBr3鈣鈦礦單晶光學(xué)性質(zhì)[24]Fig.4OpticalpropertiesofperovskitesinglecrystalMAPbBr3[24]·288·
廈門大學(xué)學(xué)報(bào)(自然科學(xué)版)2020年http:∥jxmu.xmu.edu.cn(a)為不同泵浦光子能量對(duì)應(yīng)的硅-鉑界面自由載流子瞬態(tài)反射信號(hào)動(dòng)力學(xué);(b)為硅-鉑界面二氧化硅絕緣層厚度對(duì)于界面電荷轉(zhuǎn)移的影響.圖11硅-鉑界面電荷動(dòng)力學(xué)[28]Fig.11Chargedynamicsatsilicon-platinuminterface[28]容易形成較強(qiáng)的內(nèi)建電場(chǎng).當(dāng)內(nèi)建電場(chǎng)達(dá)到一定強(qiáng)度時(shí),會(huì)改變耗盡區(qū)部分半導(dǎo)體的光學(xué)性質(zhì).如果將界面附近內(nèi)建電場(chǎng)近似為恒定電場(chǎng),則區(qū)域內(nèi)載流子的波函數(shù)滿足薛定諤方程[30]:-h22μ#2-e()Fz?(r)=??(r),(31)其中,μ為電子有效質(zhì)量,F為z方向內(nèi)建電場(chǎng)強(qiáng)度,r?yàn)殡娮涌昭ㄏ鄬?duì)距離,z為r在平行于電場(chǎng)方向的分量,e為基本電荷,?為能量,?為波函數(shù).因此等式左側(cè)哈密頓算符第一項(xiàng)為電子動(dòng)能,第二項(xiàng)為電子勢(shì)能.因?yàn)椋较虿皇茈妶?chǎng)影響,分離變量后,?(x,y)為平面自由電子波函數(shù),?(z)滿足下面薛定諤方程[30]:-h22μd2dz2-e()Fz?(z)=?z?(z).(32)該薛定諤方程與三角勢(shì)場(chǎng)中的薛定諤方程相同,其解為艾里(Airy)函數(shù):?(z)=icA2μh2e2E()213(eFz-?z[]).(33)根據(jù)布洛赫定理,固體中的電子波函數(shù)可以寫成由包絡(luò)函數(shù)和周期函數(shù)的乘積?
本文編號(hào):3237109
【文章來源】:廈門大學(xué)學(xué)報(bào)(自然科學(xué)版). 2020,59(05)北大核心CSCD
【文章頁數(shù)】:13 頁
【部分圖文】:
圖1瞬態(tài)反射光譜裝置示意圖Fig.1Schematicillustrationofatransient
能級(jí)的帶間吸收,第二項(xiàng)為基態(tài)到不同能級(jí)的激子態(tài)的吸收.如圖4(b)所示,Elliott’s公式可以較好地?cái)M合帶隙附近的吸收光譜,因?yàn)樵摴轿窗吣芗?jí)之間的躍遷,無法用于擬合高能量光子的吸收.光譜擬合可以給出帶隙能量(2.35eV)和激子結(jié)合能(41.6meV).由于激子結(jié)合能較大,激子態(tài)的能量低于帶隙能量,材料受到泵浦光激發(fā),產(chǎn)生的載流子快速馳豫,常溫下大量占據(jù)激子態(tài)的能級(jí),由于泡利不相容原理,基態(tài)到被占據(jù)圖4MAPbBr3鈣鈦礦單晶光學(xué)性質(zhì)[24]Fig.4OpticalpropertiesofperovskitesinglecrystalMAPbBr3[24]·288·
廈門大學(xué)學(xué)報(bào)(自然科學(xué)版)2020年http:∥jxmu.xmu.edu.cn(a)為不同泵浦光子能量對(duì)應(yīng)的硅-鉑界面自由載流子瞬態(tài)反射信號(hào)動(dòng)力學(xué);(b)為硅-鉑界面二氧化硅絕緣層厚度對(duì)于界面電荷轉(zhuǎn)移的影響.圖11硅-鉑界面電荷動(dòng)力學(xué)[28]Fig.11Chargedynamicsatsilicon-platinuminterface[28]容易形成較強(qiáng)的內(nèi)建電場(chǎng).當(dāng)內(nèi)建電場(chǎng)達(dá)到一定強(qiáng)度時(shí),會(huì)改變耗盡區(qū)部分半導(dǎo)體的光學(xué)性質(zhì).如果將界面附近內(nèi)建電場(chǎng)近似為恒定電場(chǎng),則區(qū)域內(nèi)載流子的波函數(shù)滿足薛定諤方程[30]:-h22μ#2-e()Fz?(r)=??(r),(31)其中,μ為電子有效質(zhì)量,F為z方向內(nèi)建電場(chǎng)強(qiáng)度,r?yàn)殡娮涌昭ㄏ鄬?duì)距離,z為r在平行于電場(chǎng)方向的分量,e為基本電荷,?為能量,?為波函數(shù).因此等式左側(cè)哈密頓算符第一項(xiàng)為電子動(dòng)能,第二項(xiàng)為電子勢(shì)能.因?yàn)椋较虿皇茈妶?chǎng)影響,分離變量后,?(x,y)為平面自由電子波函數(shù),?(z)滿足下面薛定諤方程[30]:-h22μd2dz2-e()Fz?(z)=?z?(z).(32)該薛定諤方程與三角勢(shì)場(chǎng)中的薛定諤方程相同,其解為艾里(Airy)函數(shù):?(z)=icA2μh2e2E()213(eFz-?z[]).(33)根據(jù)布洛赫定理,固體中的電子波函數(shù)可以寫成由包絡(luò)函數(shù)和周期函數(shù)的乘積?
本文編號(hào):3237109
本文鏈接:http://sikaile.net/kejilunwen/dianzigongchenglunwen/3237109.html
最近更新
教材專著