采用數(shù)字微鏡器件（DMD）無掩模光刻技術(shù),以飛秒激光為光源,結(jié)合大面積拼接的方法快速制備了具有較高分辨率和毫米尺寸的大面積微納結(jié)構(gòu)。提出以單子場投影線掃描的方式進一步改善由于光場能量分布不均勻引起的結(jié)構(gòu)邊緣粗糙的問題,極大地降低了線條的邊緣粗糙度,有效地控制了結(jié)構(gòu)的精度。本研究以半導(dǎo)體領(lǐng)域常用的正性光刻膠為主要研究對象,實現(xiàn)了面積為7.4mm2的1μm等間距線陣列和面積為38.7mm2的10μm等間距線陣列結(jié)構(gòu)的快速制備。本研究為大面積微納結(jié)構(gòu)制備提供了一種新方法,所制備結(jié)構(gòu)可應(yīng)用于氣液流動、藥物輸運及晶體生長等領(lǐng)域。 

【文章來源】：激光與光電子學(xué)進展. 2020,57(11)北大核心CSCD

【文章頁數(shù)】：8 頁

【文章目錄】：
1 引言
2 實驗方案與裝置
    2.1 實驗試劑與儀器
    2.2 正膠微結(jié)構(gòu)制備流程
3 結(jié)果與討論
    3.1 分辨率
    3.2 邊緣粗糙度
    3.3 大面積結(jié)構(gòu)制備
    3.4 浸潤性能表征
4 結(jié)論


【參考文獻】：
期刊論文
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本文編號：3204496