利用選擇性外延法生長單芯片雙波長白光InGaN/GaN多量子阱結(jié)構(gòu)
發(fā)布時間:2021-04-04 03:53
為了制備單芯片無熒光粉白光InGaN/GaN多量子阱發(fā)光結(jié)構(gòu),利用選擇性外延生長法在SiO2條紋掩膜板上生長出具有梯形形貌的GaN微面結(jié)構(gòu),并在該GaN微面結(jié)構(gòu)上生長InGaN/GaN多量子阱結(jié)構(gòu),最終在單芯片上獲得了雙波長發(fā)光.結(jié)果表明:梯形GaN微面由(0001)和(11-22)面組成,兩者的表面能和極性不同,并且在InGaN/GaN多量子阱生長過程中,In原子和Ga原子遷移速率不同,從而使得(0001)和(11-22)面上的多量子阱具有不同的發(fā)光波長;該性質(zhì)可以使(11-22)面的微面量子阱發(fā)出藍(lán)光(峰值波長為420nm),而(0001)面的量子阱發(fā)出黃光(峰值波長為525nm),最終形成雙波長的復(fù)合白光外延結(jié)構(gòu).
【文章來源】:光子學(xué)報. 2017,46(03)北大核心EICSCD
【文章頁數(shù)】:5 頁
【部分圖文】:
圖1沿[1-100]方向生長的InGaN/GaN條紋多量子阱SEM剖面圖
長窗口區(qū)的遷移過程就不能忽略,而且占據(jù)主導(dǎo)作用[22-24].本文實驗中設(shè)計的圖形生長窗口尺寸小于5μm,在選擇性橫向外延生長過程中源材料從掩膜區(qū)向生長窗口區(qū)的原子遷移起著決定性作用.由于在氣相生長過程中,III族原子遷移長度順序依次是In>Ga>Al,因此在選擇性外延生長中In組分的原子遷移長度要高于Ga原子,從而形成梯形頂面量子阱中的In組分高于側(cè)壁量子阱中In組分,最終觀察到梯形頂面量子阱的發(fā)光峰波長遠(yuǎn)大于側(cè)面量子阱的發(fā)光峰.圖3(0001)頂面和(11-22)側(cè)面上量子阱發(fā)光的CL譜Fig.3CLspectrumofMQWsobtainedatthelocalspotsofthetopflat(0001)planeandinclined(11-22)sideplane圖4條紋量子阱在波長為420nm和525nm激發(fā)下的單色CL圖Fig.4MonochromaticCLimagesofMQWstripeforλ=420nmandλ=525nm3結(jié)論本文利用選擇性外延技術(shù)生長由(0001)面和(11-22)半極性面組成的剖面呈梯形結(jié)構(gòu)的GaN微面模板,并利用此微面模板生長出具有雙波長發(fā)光特性的InGaN/GaN多量子阱.通過PL和局域CL測試驗證了雙波長發(fā)光來源于(11-22)半極性面和(0001)c面量子阱的發(fā)光.c面量子阱發(fā)光峰相比于側(cè)壁(11-22)面的量子阱發(fā)光峰發(fā)生顯著紅移,原因是由于在選擇性橫向外延生長過程中,In原子相比Ga原子較易從掩模區(qū)域向窗口中心區(qū)域遷
Al,因此在選擇性外延生長中In組分的原子遷移長度要高于Ga原子,從而形成梯形頂面量子阱中的In組分高于側(cè)壁量子阱中In組分,最終觀察到梯形頂面量子阱的發(fā)光峰波長遠(yuǎn)大于側(cè)面量子阱的發(fā)光峰.圖3(0001)頂面和(11-22)側(cè)面上量子阱發(fā)光的CL譜Fig.3CLspectrumofMQWsobtainedatthelocalspotsofthetopflat(0001)planeandinclined(11-22)sideplane圖4條紋量子阱在波長為420nm和525nm激發(fā)下的單色CL圖Fig.4MonochromaticCLimagesofMQWstripeforλ=420nmandλ=525nm3結(jié)論本文利用選擇性外延技術(shù)生長由(0001)面和(11-22)半極性面組成的剖面呈梯形結(jié)構(gòu)的GaN微面模板,并利用此微面模板生長出具有雙波長發(fā)光特性的InGaN/GaN多量子阱.通過PL和局域CL測試驗證了雙波長發(fā)光來源于(11-22)半極性面和(0001)c面量子阱的發(fā)光.c面量子阱發(fā)光峰相比于側(cè)壁(11-22)面的量子阱發(fā)光峰發(fā)生顯著紅移,原因是由于在選擇性橫向外延生長過程中,In原子相比Ga原子較易從掩模區(qū)域向窗口中心區(qū)域遷移.這種雙波長發(fā)光結(jié)構(gòu)對于單芯片白光LED的制備具有一定的價值.參考文獻(xiàn)[1]OULIANOVDA,CROWELLRA,GOSZTOLADJ,etal.Ultrafastpulseradiolysisusingaterawattlaserwakefie
【參考文獻(xiàn)】:
期刊論文
[1]GaN基藍(lán)光VCSEL的制備及光學(xué)特性[J]. 蔡麗娥,張保平,張江勇,沈漢鑫,朱文章. 發(fā)光學(xué)報. 2016(04)
本文編號:3117675
【文章來源】:光子學(xué)報. 2017,46(03)北大核心EICSCD
【文章頁數(shù)】:5 頁
【部分圖文】:
圖1沿[1-100]方向生長的InGaN/GaN條紋多量子阱SEM剖面圖
長窗口區(qū)的遷移過程就不能忽略,而且占據(jù)主導(dǎo)作用[22-24].本文實驗中設(shè)計的圖形生長窗口尺寸小于5μm,在選擇性橫向外延生長過程中源材料從掩膜區(qū)向生長窗口區(qū)的原子遷移起著決定性作用.由于在氣相生長過程中,III族原子遷移長度順序依次是In>Ga>Al,因此在選擇性外延生長中In組分的原子遷移長度要高于Ga原子,從而形成梯形頂面量子阱中的In組分高于側(cè)壁量子阱中In組分,最終觀察到梯形頂面量子阱的發(fā)光峰波長遠(yuǎn)大于側(cè)面量子阱的發(fā)光峰.圖3(0001)頂面和(11-22)側(cè)面上量子阱發(fā)光的CL譜Fig.3CLspectrumofMQWsobtainedatthelocalspotsofthetopflat(0001)planeandinclined(11-22)sideplane圖4條紋量子阱在波長為420nm和525nm激發(fā)下的單色CL圖Fig.4MonochromaticCLimagesofMQWstripeforλ=420nmandλ=525nm3結(jié)論本文利用選擇性外延技術(shù)生長由(0001)面和(11-22)半極性面組成的剖面呈梯形結(jié)構(gòu)的GaN微面模板,并利用此微面模板生長出具有雙波長發(fā)光特性的InGaN/GaN多量子阱.通過PL和局域CL測試驗證了雙波長發(fā)光來源于(11-22)半極性面和(0001)c面量子阱的發(fā)光.c面量子阱發(fā)光峰相比于側(cè)壁(11-22)面的量子阱發(fā)光峰發(fā)生顯著紅移,原因是由于在選擇性橫向外延生長過程中,In原子相比Ga原子較易從掩模區(qū)域向窗口中心區(qū)域遷
Al,因此在選擇性外延生長中In組分的原子遷移長度要高于Ga原子,從而形成梯形頂面量子阱中的In組分高于側(cè)壁量子阱中In組分,最終觀察到梯形頂面量子阱的發(fā)光峰波長遠(yuǎn)大于側(cè)面量子阱的發(fā)光峰.圖3(0001)頂面和(11-22)側(cè)面上量子阱發(fā)光的CL譜Fig.3CLspectrumofMQWsobtainedatthelocalspotsofthetopflat(0001)planeandinclined(11-22)sideplane圖4條紋量子阱在波長為420nm和525nm激發(fā)下的單色CL圖Fig.4MonochromaticCLimagesofMQWstripeforλ=420nmandλ=525nm3結(jié)論本文利用選擇性外延技術(shù)生長由(0001)面和(11-22)半極性面組成的剖面呈梯形結(jié)構(gòu)的GaN微面模板,并利用此微面模板生長出具有雙波長發(fā)光特性的InGaN/GaN多量子阱.通過PL和局域CL測試驗證了雙波長發(fā)光來源于(11-22)半極性面和(0001)c面量子阱的發(fā)光.c面量子阱發(fā)光峰相比于側(cè)壁(11-22)面的量子阱發(fā)光峰發(fā)生顯著紅移,原因是由于在選擇性橫向外延生長過程中,In原子相比Ga原子較易從掩模區(qū)域向窗口中心區(qū)域遷移.這種雙波長發(fā)光結(jié)構(gòu)對于單芯片白光LED的制備具有一定的價值.參考文獻(xiàn)[1]OULIANOVDA,CROWELLRA,GOSZTOLADJ,etal.Ultrafastpulseradiolysisusingaterawattlaserwakefie
【參考文獻(xiàn)】:
期刊論文
[1]GaN基藍(lán)光VCSEL的制備及光學(xué)特性[J]. 蔡麗娥,張保平,張江勇,沈漢鑫,朱文章. 發(fā)光學(xué)報. 2016(04)
本文編號:3117675
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