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利用選擇性外延法生長(zhǎng)單芯片雙波長(zhǎng)白光InGaN/GaN多量子阱結(jié)構(gòu)

發(fā)布時(shí)間:2021-04-04 03:53
  為了制備單芯片無熒光粉白光InGaN/GaN多量子阱發(fā)光結(jié)構(gòu),利用選擇性外延生長(zhǎng)法在SiO2條紋掩膜板上生長(zhǎng)出具有梯形形貌的GaN微面結(jié)構(gòu),并在該GaN微面結(jié)構(gòu)上生長(zhǎng)InGaN/GaN多量子阱結(jié)構(gòu),最終在單芯片上獲得了雙波長(zhǎng)發(fā)光.結(jié)果表明:梯形GaN微面由(0001)和(11-22)面組成,兩者的表面能和極性不同,并且在InGaN/GaN多量子阱生長(zhǎng)過程中,In原子和Ga原子遷移速率不同,從而使得(0001)和(11-22)面上的多量子阱具有不同的發(fā)光波長(zhǎng);該性質(zhì)可以使(11-22)面的微面量子阱發(fā)出藍(lán)光(峰值波長(zhǎng)為420nm),而(0001)面的量子阱發(fā)出黃光(峰值波長(zhǎng)為525nm),最終形成雙波長(zhǎng)的復(fù)合白光外延結(jié)構(gòu). 

【文章來源】:光子學(xué)報(bào). 2017,46(03)北大核心EICSCD

【文章頁(yè)數(shù)】:5 頁(yè)

【部分圖文】:

利用選擇性外延法生長(zhǎng)單芯片雙波長(zhǎng)白光InGaN/GaN多量子阱結(jié)構(gòu)


圖1沿[1-100]方向生長(zhǎng)的InGaN/GaN條紋多量子阱SEM剖面圖

條紋,量子阱,頂面


長(zhǎng)窗口區(qū)的遷移過程就不能忽略,而且占據(jù)主導(dǎo)作用[22-24].本文實(shí)驗(yàn)中設(shè)計(jì)的圖形生長(zhǎng)窗口尺寸小于5μm,在選擇性橫向外延生長(zhǎng)過程中源材料從掩膜區(qū)向生長(zhǎng)窗口區(qū)的原子遷移起著決定性作用.由于在氣相生長(zhǎng)過程中,III族原子遷移長(zhǎng)度順序依次是In>Ga>Al,因此在選擇性外延生長(zhǎng)中In組分的原子遷移長(zhǎng)度要高于Ga原子,從而形成梯形頂面量子阱中的In組分高于側(cè)壁量子阱中In組分,最終觀察到梯形頂面量子阱的發(fā)光峰波長(zhǎng)遠(yuǎn)大于側(cè)面量子阱的發(fā)光峰.圖3(0001)頂面和(11-22)側(cè)面上量子阱發(fā)光的CL譜Fig.3CLspectrumofMQWsobtainedatthelocalspotsofthetopflat(0001)planeandinclined(11-22)sideplane圖4條紋量子阱在波長(zhǎng)為420nm和525nm激發(fā)下的單色CL圖Fig.4MonochromaticCLimagesofMQWstripeforλ=420nmandλ=525nm3結(jié)論本文利用選擇性外延技術(shù)生長(zhǎng)由(0001)面和(11-22)半極性面組成的剖面呈梯形結(jié)構(gòu)的GaN微面模板,并利用此微面模板生長(zhǎng)出具有雙波長(zhǎng)發(fā)光特性的InGaN/GaN多量子阱.通過PL和局域CL測(cè)試驗(yàn)證了雙波長(zhǎng)發(fā)光來源于(11-22)半極性面和(0001)c面量子阱的發(fā)光.c面量子阱發(fā)光峰相比于側(cè)壁(11-22)面的量子阱發(fā)光峰發(fā)生顯著紅移,原因是由于在選擇性橫向外延生長(zhǎng)過程中,In原子相比Ga原子較易從掩模區(qū)域向窗口中心區(qū)域遷

條紋,量子阱,條紋,波長(zhǎng)


Al,因此在選擇性外延生長(zhǎng)中In組分的原子遷移長(zhǎng)度要高于Ga原子,從而形成梯形頂面量子阱中的In組分高于側(cè)壁量子阱中In組分,最終觀察到梯形頂面量子阱的發(fā)光峰波長(zhǎng)遠(yuǎn)大于側(cè)面量子阱的發(fā)光峰.圖3(0001)頂面和(11-22)側(cè)面上量子阱發(fā)光的CL譜Fig.3CLspectrumofMQWsobtainedatthelocalspotsofthetopflat(0001)planeandinclined(11-22)sideplane圖4條紋量子阱在波長(zhǎng)為420nm和525nm激發(fā)下的單色CL圖Fig.4MonochromaticCLimagesofMQWstripeforλ=420nmandλ=525nm3結(jié)論本文利用選擇性外延技術(shù)生長(zhǎng)由(0001)面和(11-22)半極性面組成的剖面呈梯形結(jié)構(gòu)的GaN微面模板,并利用此微面模板生長(zhǎng)出具有雙波長(zhǎng)發(fā)光特性的InGaN/GaN多量子阱.通過PL和局域CL測(cè)試驗(yàn)證了雙波長(zhǎng)發(fā)光來源于(11-22)半極性面和(0001)c面量子阱的發(fā)光.c面量子阱發(fā)光峰相比于側(cè)壁(11-22)面的量子阱發(fā)光峰發(fā)生顯著紅移,原因是由于在選擇性橫向外延生長(zhǎng)過程中,In原子相比Ga原子較易從掩模區(qū)域向窗口中心區(qū)域遷移.這種雙波長(zhǎng)發(fā)光結(jié)構(gòu)對(duì)于單芯片白光LED的制備具有一定的價(jià)值.參考文獻(xiàn)[1]OULIANOVDA,CROWELLRA,GOSZTOLADJ,etal.Ultrafastpulseradiolysisusingaterawattlaserwakefie

【參考文獻(xiàn)】:
期刊論文
[1]GaN基藍(lán)光VCSEL的制備及光學(xué)特性[J]. 蔡麗娥,張保平,張江勇,沈漢鑫,朱文章.  發(fā)光學(xué)報(bào). 2016(04)



本文編號(hào):3117675

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