三明治結(jié)構(gòu)ZnO基紫外光電探測器的制備及性能優(yōu)化
發(fā)布時間:2021-03-26 08:43
ZnO是一種直接帶隙半導(dǎo)體材料,通過摻雜Mg元素可以獲得MgZn O三元合金,實(shí)現(xiàn)帶隙在3.3-7.8 eV之間可調(diào)。針對Zn O基MSM結(jié)構(gòu)紫外光電探測器光吸收率較低等問題,本文首先對ZnO薄膜參數(shù)進(jìn)行調(diào)控,設(shè)計出ZnO/Au/ZnO三明治結(jié)構(gòu)紫外光電探測器,在此基礎(chǔ)上引入MgZnO材料設(shè)計出Mg0.2Zn0.8O/Au/ZnO和Mg0.5Zn0.5O/Au/ZnO三明治結(jié)構(gòu)紫外光電探測器,實(shí)現(xiàn)對紫外可見波段以及日盲波段的探測,并對三明治結(jié)構(gòu)器件性能進(jìn)行系統(tǒng)表征。主要研究成果如下:(1)從增加器件對光的吸收入手,創(chuàng)新性的設(shè)計了三明治結(jié)構(gòu)ZnO/Au/ZnO(300nm)紫外光電探測器。調(diào)控Au電極厚度,發(fā)現(xiàn)Au電極厚度為20 nm時,5 V偏壓下ZnO/Au/ZnO(300 nm)器件的響應(yīng)度為9.76 A/W。在此基礎(chǔ)上,對ZnO(S1)薄膜進(jìn)行熱退火處理,達(dá)到優(yōu)化三明治結(jié)構(gòu)器件性能的目的。當(dāng)退火溫度為700℃時,5 V偏壓下ZnO(S1)/Au/Zn...
【文章來源】:長春理工大學(xué)吉林省
【文章頁數(shù)】:67 頁
【學(xué)位級別】:碩士
【部分圖文】:
傳統(tǒng)MSM結(jié)構(gòu)和三明治結(jié)構(gòu)對比圖
第一章緒論31.3ZnO基紫外光電探測器的研究現(xiàn)狀目前關(guān)于ZnO基紫外光電探測器的主要研究方向包括p型ZnO的制備[21,22],為增加ZnO基紫外光電探測器的實(shí)用性使用導(dǎo)電襯底、柔性襯底[23],提高探測器靈敏度引入ZnO納米材料等等[24,25],但最為突出的是和MgZnO材料相結(jié)合。由于MgZnO材料可對可見盲波段和整個日盲波段(200-280nm)的紫外光進(jìn)行探測,MgZnO材料逐漸成為研究熱點(diǎn)。2011年WuCZ等人通過磁控濺射裝置在玻璃襯底上生長了Mg0.24Zn0.76O薄膜,蒸鍍Ti/Au電極,制備成MSM結(jié)構(gòu)器件,Mg0.24Zn0.76O薄膜和Ti/Au電極形成歐姆接觸,器件具有較低的暗電流,如圖1.2所示[26]。圖1.2Mg0.24Zn0.76O器件的I-V曲線(a)暗電流(b)光電流2012年XieXH等人研究了一種基于MgZnO/i-MgO/p-Si雙異質(zhì)結(jié)的雙色紫外光電探測器。該裝置在在太陽盲區(qū)(250nm)和可見光盲區(qū)(約330nm)表現(xiàn)出明顯的優(yōu)勢響應(yīng)。利用該結(jié)構(gòu)的能帶圖如圖1.3所示,解釋能夠進(jìn)行雙色檢測是由立方MgO和六方MgZnO的價帶偏移引起的[27]。
第一章緒論4圖1.3MgZnO/i-MgO/p-Si能譜圖2013年,LuCY等人在襯底上利用PAMBE法生長一層MgO薄膜,隨后外延出立方相的MgZnO薄膜[28]。2014年SchoenfeldWV等人利用分子束外延方法在在藍(lán)寶石襯底上生長出了高質(zhì)量的Mg0.46Zn0.54O薄膜,并制備出MSM結(jié)構(gòu)的太陽盲波段紫外光電探測器,如圖1.4所示,在5V偏壓下,探測器在225nm處的響應(yīng)達(dá)到201A/W[29]。圖1.4Mg0.46Zn0.54OMSM結(jié)構(gòu)響應(yīng)度圖譜2015年HwangJD等人研究了700-900℃退火溫度對MgZnO薄膜的影響,結(jié)果表明,隨著退火溫度的升高,Mg原子的含量增加,從圖可以看出衍射峰逐漸紅移,如圖1.5所示。900℃退火時,Mg含量測定為49.2at%。然而,在這樣的高溫退火處理下,MgZnO薄膜中并沒有發(fā)生立方相的MgZnO偏析,說明射頻濺射生長的MgZnO薄膜是相當(dāng)穩(wěn)定的。高溫(900℃)退火使MgZnO膜致密,晶粒間隙更小,相比于低溫
【參考文獻(xiàn)】:
期刊論文
[1]ZnO納米棒/CdS量子點(diǎn)的制備及紫外-可見探測性能研究[J]. 胡軼,胡更新,張潔靜,桑丹丹,李易昆,高世勇. 中國光學(xué). 2019(06)
[2]基于紫外-可見光吸收光譜和三維熒光光譜的腐殖酸光降解組分特征分析[J]. 趙紫凡,孫歡,蘇雅玲. 湖泊科學(xué). 2019(04)
[3]High-performance waveguide-integrated Ge/Si avalanche photodetector with small contact angle between selectively epitaxial growth Ge and Si layers[J]. 杜小倩,李沖,黎奔,王楠,趙越,楊帆,余凱,周琳,李秀麗,成步文,薛春來. Chinese Physics B. 2019(06)
[4]X射線衍射法測定納米晶純鋁的平均晶粒尺寸[J]. 李萍,周昊. 理化檢驗(yàn)(物理分冊). 2019(06)
[5]基于硫化鉛量子點(diǎn)和氧化鋅納米顆粒異質(zhì)結(jié)的高性能柔性和寬波段光電探測器(英文)[J]. 彭明發(fā),汪永杰,沈青青,謝欣凱,鄭和闖,馬萬里,文震,孫旭輝. Science China Materials. 2019(02)
[6]原子層沉積生長電學(xué)性質(zhì)可調(diào)ZnO薄膜工藝[J]. 張思敏,程嵩,盧維爾,夏洋. 微納電子技術(shù). 2016(09)
[7]基于原子力顯微鏡的薄膜原位壓痕力學(xué)性能研究[J]. 杜圓明,張躍飛,張長輝,劉燕萍. 稀有金屬材料與工程. 2015(08)
[8]Au電極厚度對MgZnO紫外探測器性能的影響[J]. 孫華山,劉可為,陳洪宇,范明明,陳星,李炳輝,申德振. 發(fā)光學(xué)報. 2015(02)
[9]半導(dǎo)體器件掃描電鏡低電壓成像技術(shù)應(yīng)用[J]. 梁棟程,周慶波,王淑杰,王曉敏. 太赫茲科學(xué)與電子信息學(xué)報. 2013(03)
[10]氧氣流量對Mgx Zn1-xO薄膜擇優(yōu)取向的影響[J]. 邵玉坤,韓舜,呂有明,曹培江,柳文軍,曾玉祥,賈芳,朱德亮,馬曉翠. 人工晶體學(xué)報. 2013(03)
本文編號:3101315
【文章來源】:長春理工大學(xué)吉林省
【文章頁數(shù)】:67 頁
【學(xué)位級別】:碩士
【部分圖文】:
傳統(tǒng)MSM結(jié)構(gòu)和三明治結(jié)構(gòu)對比圖
第一章緒論31.3ZnO基紫外光電探測器的研究現(xiàn)狀目前關(guān)于ZnO基紫外光電探測器的主要研究方向包括p型ZnO的制備[21,22],為增加ZnO基紫外光電探測器的實(shí)用性使用導(dǎo)電襯底、柔性襯底[23],提高探測器靈敏度引入ZnO納米材料等等[24,25],但最為突出的是和MgZnO材料相結(jié)合。由于MgZnO材料可對可見盲波段和整個日盲波段(200-280nm)的紫外光進(jìn)行探測,MgZnO材料逐漸成為研究熱點(diǎn)。2011年WuCZ等人通過磁控濺射裝置在玻璃襯底上生長了Mg0.24Zn0.76O薄膜,蒸鍍Ti/Au電極,制備成MSM結(jié)構(gòu)器件,Mg0.24Zn0.76O薄膜和Ti/Au電極形成歐姆接觸,器件具有較低的暗電流,如圖1.2所示[26]。圖1.2Mg0.24Zn0.76O器件的I-V曲線(a)暗電流(b)光電流2012年XieXH等人研究了一種基于MgZnO/i-MgO/p-Si雙異質(zhì)結(jié)的雙色紫外光電探測器。該裝置在在太陽盲區(qū)(250nm)和可見光盲區(qū)(約330nm)表現(xiàn)出明顯的優(yōu)勢響應(yīng)。利用該結(jié)構(gòu)的能帶圖如圖1.3所示,解釋能夠進(jìn)行雙色檢測是由立方MgO和六方MgZnO的價帶偏移引起的[27]。
第一章緒論4圖1.3MgZnO/i-MgO/p-Si能譜圖2013年,LuCY等人在襯底上利用PAMBE法生長一層MgO薄膜,隨后外延出立方相的MgZnO薄膜[28]。2014年SchoenfeldWV等人利用分子束外延方法在在藍(lán)寶石襯底上生長出了高質(zhì)量的Mg0.46Zn0.54O薄膜,并制備出MSM結(jié)構(gòu)的太陽盲波段紫外光電探測器,如圖1.4所示,在5V偏壓下,探測器在225nm處的響應(yīng)達(dá)到201A/W[29]。圖1.4Mg0.46Zn0.54OMSM結(jié)構(gòu)響應(yīng)度圖譜2015年HwangJD等人研究了700-900℃退火溫度對MgZnO薄膜的影響,結(jié)果表明,隨著退火溫度的升高,Mg原子的含量增加,從圖可以看出衍射峰逐漸紅移,如圖1.5所示。900℃退火時,Mg含量測定為49.2at%。然而,在這樣的高溫退火處理下,MgZnO薄膜中并沒有發(fā)生立方相的MgZnO偏析,說明射頻濺射生長的MgZnO薄膜是相當(dāng)穩(wěn)定的。高溫(900℃)退火使MgZnO膜致密,晶粒間隙更小,相比于低溫
【參考文獻(xiàn)】:
期刊論文
[1]ZnO納米棒/CdS量子點(diǎn)的制備及紫外-可見探測性能研究[J]. 胡軼,胡更新,張潔靜,桑丹丹,李易昆,高世勇. 中國光學(xué). 2019(06)
[2]基于紫外-可見光吸收光譜和三維熒光光譜的腐殖酸光降解組分特征分析[J]. 趙紫凡,孫歡,蘇雅玲. 湖泊科學(xué). 2019(04)
[3]High-performance waveguide-integrated Ge/Si avalanche photodetector with small contact angle between selectively epitaxial growth Ge and Si layers[J]. 杜小倩,李沖,黎奔,王楠,趙越,楊帆,余凱,周琳,李秀麗,成步文,薛春來. Chinese Physics B. 2019(06)
[4]X射線衍射法測定納米晶純鋁的平均晶粒尺寸[J]. 李萍,周昊. 理化檢驗(yàn)(物理分冊). 2019(06)
[5]基于硫化鉛量子點(diǎn)和氧化鋅納米顆粒異質(zhì)結(jié)的高性能柔性和寬波段光電探測器(英文)[J]. 彭明發(fā),汪永杰,沈青青,謝欣凱,鄭和闖,馬萬里,文震,孫旭輝. Science China Materials. 2019(02)
[6]原子層沉積生長電學(xué)性質(zhì)可調(diào)ZnO薄膜工藝[J]. 張思敏,程嵩,盧維爾,夏洋. 微納電子技術(shù). 2016(09)
[7]基于原子力顯微鏡的薄膜原位壓痕力學(xué)性能研究[J]. 杜圓明,張躍飛,張長輝,劉燕萍. 稀有金屬材料與工程. 2015(08)
[8]Au電極厚度對MgZnO紫外探測器性能的影響[J]. 孫華山,劉可為,陳洪宇,范明明,陳星,李炳輝,申德振. 發(fā)光學(xué)報. 2015(02)
[9]半導(dǎo)體器件掃描電鏡低電壓成像技術(shù)應(yīng)用[J]. 梁棟程,周慶波,王淑杰,王曉敏. 太赫茲科學(xué)與電子信息學(xué)報. 2013(03)
[10]氧氣流量對Mgx Zn1-xO薄膜擇優(yōu)取向的影響[J]. 邵玉坤,韓舜,呂有明,曹培江,柳文軍,曾玉祥,賈芳,朱德亮,馬曉翠. 人工晶體學(xué)報. 2013(03)
本文編號:3101315
本文鏈接:http://sikaile.net/kejilunwen/dianzigongchenglunwen/3101315.html
最近更新
教材專著