隨著電子信息產(chǎn)業(yè)的迅速發(fā)展,作為電子信息產(chǎn)品基材的印制電路板在電子產(chǎn)品中的使用日趨廣泛,但也面臨著許多新挑戰(zhàn),其中,輕、薄、小和高密度化成為發(fā)展趨勢(shì),同時(shí)也對(duì)散熱提出一定的要求,因此其專用基礎(chǔ)材料覆銅板的性能要求也越來(lái)越高。普通的覆銅板由于導(dǎo)熱系數(shù)低、介電常數(shù)高、介質(zhì)損耗大等不足,已經(jīng)不能滿足一些高端電子產(chǎn)品的要求,因此導(dǎo)熱覆銅板的開(kāi)發(fā)迫在眉睫。而近年來(lái),導(dǎo)熱二維納米材料因其諸多的結(jié)構(gòu)與性能優(yōu)勢(shì)成為當(dāng)前的研究熱點(diǎn)。本文主要圍繞六方氮化硼納米片的制備、改性及其應(yīng)用,開(kāi)展了以下研究:1、一步法剝離制備六方氮化硼納米片及其功能化改性。即利用超聲波輔助有機(jī)溶劑異丙醇對(duì)塊體六方氮化硼進(jìn)行剝離,然后靜置離心轉(zhuǎn)移獲得少層（<10）的六方氮化硼納米片;在此基礎(chǔ)上,根據(jù)需要將硅烷偶聯(lián)劑加入到六方氮化硼納米片懸浮液中,控制超聲波的間歇模式進(jìn)行改性,獲得改性六方氮化硼納米片（kh570-BNNSs）。與其他制備方法相比,該工藝具有明顯的優(yōu)勢(shì),不但制備工藝簡(jiǎn)單,生產(chǎn)周期短,對(duì)未來(lái)大規(guī)模制備單層六方納米片及擴(kuò)大其應(yīng)用具有參考價(jià)值。2、柔性導(dǎo)熱低介電氮化硼納米片-芳綸納米纖維復(fù)合紙（ANFs/BNNSs）的... 

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【文章頁(yè)數(shù)】：69 頁(yè)

【學(xué)位級(jí)別】：碩士

【部分圖文】：

少層氮化硼納米片的結(jié)構(gòu)示意圖

圖 1-2 渦旋射流法示意圖Fig.1-2 Vortex fluid exfoliation（4）液相超聲剝離法相較于上述剝離法而言，液相超聲剝離法相對(duì)操作簡(jiǎn)單，能大規(guī)模生產(chǎn)，近年來(lái)被多次報(bào)道。液相超聲剝離法與渦旋射流法在原理上是相似的，主要是依靠產(chǎn)生的剪切力來(lái)剝離塊體氮化硼，不同的是，液相超聲剝離法是在過(guò)程中產(chǎn)生的剪切力。

在這個(gè)過(guò)程中，極性有機(jī)溶劑異丙醇在特定范圍內(nèi)，有一定的氫鍵內(nèi)聚能密度，也具有一定的表面張力和極性，能夠?qū)⒘降鸺{米片進(jìn)行功能化，降低六方氮化硼的剝離能，從而達(dá)到良好的剝離效果。如圖2-1(a)所示的剝離過(guò)程的機(jī)理圖，異丙醇作為溶劑在超聲作用下，可以將塊體六方氮化硼進(jìn)行有效的剝離。但是，由于超聲過(guò)程中的剪切力作用，也存在部分氮化硼納米片尺寸減小，這個(gè)結(jié)果可以在圖 2-2 的粒徑分析及圖 2-3 的形貌分析中得到證明。Lin 等[41]報(bào)道指出，

【參考文獻(xiàn)】：
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碩士論文
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[2]高性能環(huán)氧樹(shù)脂基覆銅板的研制[D]. 任科秘.蘇州大學(xué) 2013
[3]含缺陷二維h-BN的第一性原理研究[D]. 李順輝.湘潭大學(xué) 2013
[4]高導(dǎo)熱絕緣環(huán)氧樹(shù)脂基復(fù)合材料的制備及其性能研究[D]. 劉科科.南京航空航天大學(xué) 2013
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