等離子體光學(xué)的研究現(xiàn)狀與發(fā)展前景
發(fā)布時(shí)間:2021-01-25 13:47
等離子體介質(zhì)由于具有極高的儲(chǔ)能密度、無光致?lián)p傷閾值和豐富的光學(xué)特性,利用它改善光束輸出性能是發(fā)展高功率激光技術(shù)的一條重要技術(shù)路線。系統(tǒng)介紹了近年來等離子體光學(xué)的研究現(xiàn)狀,并論述了今后等離子體光學(xué)的發(fā)展趨勢(shì)。
【文章來源】:強(qiáng)激光與粒子束. 2020,32(01)北大核心
【文章頁數(shù)】:11 頁
本文編號(hào):2999332
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