新型石墨烯基LED器件:從生長機理到器件特性
發(fā)布時間:2021-01-21 05:19
III族氮化物因具有禁帶寬度大、擊穿電壓高、電子飽和漂移速度大、穩(wěn)定性高等優(yōu)異特性而廣泛應(yīng)用在發(fā)光二極管(LED)、激光器以及高頻器件中。目前III族氮化物薄膜通常是異質(zhì)外延生長在藍寶石襯底表面,但是由于藍寶石與III族氮化物之間存在較大的晶格失配與熱失配,使得外延生長的III族氮化物內(nèi)部存在較大的應(yīng)力與較高的位錯密度,嚴重影響了器件性能;與此同時,藍寶石襯底熱導(dǎo)率差,限制了其在大功率器件方面的應(yīng)用。近年來研究發(fā)現(xiàn),石墨烯作為外延生長緩沖層,能夠有效解決藍寶石襯底與外延III族氮化物薄膜之間由于晶格失配和熱失配導(dǎo)致的高應(yīng)力與高位錯密度等問題,進而獲得了高品質(zhì)薄膜,并提升了器件的性能。本文綜述了石墨烯/藍寶石襯底上III族氮化物生長與LED器件構(gòu)筑的研究現(xiàn)狀,著重介紹了本課題組提出的一種新型外延襯底—石墨烯/藍寶石襯底的特點,闡明了III族氮化物在該新型襯底上的生長機理,總結(jié)了其對III族氮化物質(zhì)量提升的作用,并對其發(fā)展前景進行了展望。
【文章來源】:物理化學學報. 2020,36(01)北大核心
【文章頁數(shù)】:14 頁
【部分圖文】:
AlN在石墨烯/藍寶石新型襯底上的位錯密度降低34
AlN在石墨烯/藍寶石新型襯底上的生長模型
藍寶石制備工藝技術(shù)成熟,可以批量化生產(chǎn),機械強度高,并且其穩(wěn)定性較高,熔點在1700°C左右,可以承受較高的生長溫度,滿足石墨烯和氮化物的生長要求。如圖1所示,在藍寶石襯底上直接生長石墨烯可獲得石墨烯/藍寶石新型襯底。在保持藍寶石原有特性的基礎(chǔ)上,可以將石墨烯優(yōu)異的特性賦予藍寶石襯底。石墨烯和藍寶石都具有優(yōu)異的穩(wěn)定性和透明性,滿足氮化物薄膜外延生長要求。同時石墨烯和藍寶石在導(dǎo)電性、導(dǎo)熱性和柔性等方面形成互補,可改善藍寶石熱導(dǎo)率差、絕緣不導(dǎo)電等問題。更為重要的是,在石墨烯上生長III-N薄膜屬于準范德華外延,氮化物薄膜與藍寶石襯底之間不再形成強化學鍵,界面相互作用變?nèi),因此藍寶石襯底與氮化物外延層之間的晶格失配和熱失配的影響極大地被削弱,從而能獲得高品質(zhì)半導(dǎo)體薄膜。相比于金屬襯底而言,藍寶石作為絕緣襯底,在石墨烯的生長過程中對碳源的催化效果十分有限,因此熱裂解是碳源裂解的主要方式,生長溫度通常在1000°C以上47。為保證充足的活性碳物種濃度,通常采用常壓化學氣相沉積(CVD)體系48。裂解后的活性碳物種會吸附至藍寶石襯底表面,當濃度超過臨界成核濃度時,就會在能量較高的活性位點處成核、生長。由于碳物種在氧化物表面上的遷移勢壘很高(≈1 eV)49,橫向遷移受到限制,使得石墨烯在藍寶石上生長速度緩慢。進一步延長生長時間,石墨烯小晶疇互相拼接,最終形成完整的薄膜。圖2a是在2 inch藍寶石晶圓上生長完石墨烯的實物照片,相比于生長之前襯度加深,證明有石墨烯包覆。通過掃描電子顯微鏡(scanning electron microscope,SEM),可以看出石墨烯完整的覆蓋平面藍寶石襯底(圖2b)和納米圖形化藍寶石襯底(圖2c)表面。采用拉曼光譜進一步表征石墨烯的質(zhì)量與均勻性,在石墨烯/藍寶石晶圓的不同位置處收集的拉曼光譜均表現(xiàn)出石墨烯的特征峰(圖2d):1348 cm-1(D峰)、1586 cm-1(G峰)和2680cm-1(2D峰)。而且從不同點采集的數(shù)據(jù)具有相似的峰強和半高寬,證明石墨烯在整個藍寶石晶圓上分布均勻。拉曼光譜面掃描結(jié)果顯示,石墨烯的G峰強度在微米尺度內(nèi)幾乎一致,結(jié)果如圖2e所示。X射線光電子能譜(X-ray photoelectron spectroscopy,XPS)分析表明,C 1s XPS譜具有典型的石墨烯特征峰,C sp2峰(~284.8 eV),C―H峰(285.0 eV)和較寬的C―O峰(圖2g),證明石墨烯具有相當高的結(jié)晶質(zhì)量。此外,全譜中僅有C,Al,O元素(圖2f),證明該石墨烯生長過程不會引入其他金屬殘留,獲得的石墨烯/藍寶石襯底可直接適用于金屬有機化學氣相沉積(metal-organic chemical vapor deposition,MOCVD)體系,不會污染腔室。借助透射電子顯微鏡(transmission electron microscope,TEM)通過石墨烯的邊緣判斷直接生長的石墨烯薄膜層數(shù)大部分為單層(圖2h)。在球差校正掃描透射電子顯微鏡(spherical aberration corrected transmission electron microscope,STEM)下,可以看到完美的石墨烯原子相,再次表明在藍寶石襯底上直接生長的石墨烯具有較高的結(jié)晶性(圖2i)。另外電鏡數(shù)據(jù)也表明石墨烯的疇區(qū)尺寸較小,晶界密度較高。綜上,在藍寶石襯底上直接生長的石墨烯,非常均勻,結(jié)晶性良好,層數(shù)以單層為主,無金屬殘留,可作為新型外延襯底,滿足氮化物外延生長需求。
【參考文獻】:
期刊論文
[1]基于二維材料的Ⅲ族氮化物外延[J]. 譚曉宇,楊少延,李輝杰. 化學學報. 2017(03)
本文編號:2990537
【文章來源】:物理化學學報. 2020,36(01)北大核心
【文章頁數(shù)】:14 頁
【部分圖文】:
AlN在石墨烯/藍寶石新型襯底上的位錯密度降低34
AlN在石墨烯/藍寶石新型襯底上的生長模型
藍寶石制備工藝技術(shù)成熟,可以批量化生產(chǎn),機械強度高,并且其穩(wěn)定性較高,熔點在1700°C左右,可以承受較高的生長溫度,滿足石墨烯和氮化物的生長要求。如圖1所示,在藍寶石襯底上直接生長石墨烯可獲得石墨烯/藍寶石新型襯底。在保持藍寶石原有特性的基礎(chǔ)上,可以將石墨烯優(yōu)異的特性賦予藍寶石襯底。石墨烯和藍寶石都具有優(yōu)異的穩(wěn)定性和透明性,滿足氮化物薄膜外延生長要求。同時石墨烯和藍寶石在導(dǎo)電性、導(dǎo)熱性和柔性等方面形成互補,可改善藍寶石熱導(dǎo)率差、絕緣不導(dǎo)電等問題。更為重要的是,在石墨烯上生長III-N薄膜屬于準范德華外延,氮化物薄膜與藍寶石襯底之間不再形成強化學鍵,界面相互作用變?nèi),因此藍寶石襯底與氮化物外延層之間的晶格失配和熱失配的影響極大地被削弱,從而能獲得高品質(zhì)半導(dǎo)體薄膜。相比于金屬襯底而言,藍寶石作為絕緣襯底,在石墨烯的生長過程中對碳源的催化效果十分有限,因此熱裂解是碳源裂解的主要方式,生長溫度通常在1000°C以上47。為保證充足的活性碳物種濃度,通常采用常壓化學氣相沉積(CVD)體系48。裂解后的活性碳物種會吸附至藍寶石襯底表面,當濃度超過臨界成核濃度時,就會在能量較高的活性位點處成核、生長。由于碳物種在氧化物表面上的遷移勢壘很高(≈1 eV)49,橫向遷移受到限制,使得石墨烯在藍寶石上生長速度緩慢。進一步延長生長時間,石墨烯小晶疇互相拼接,最終形成完整的薄膜。圖2a是在2 inch藍寶石晶圓上生長完石墨烯的實物照片,相比于生長之前襯度加深,證明有石墨烯包覆。通過掃描電子顯微鏡(scanning electron microscope,SEM),可以看出石墨烯完整的覆蓋平面藍寶石襯底(圖2b)和納米圖形化藍寶石襯底(圖2c)表面。采用拉曼光譜進一步表征石墨烯的質(zhì)量與均勻性,在石墨烯/藍寶石晶圓的不同位置處收集的拉曼光譜均表現(xiàn)出石墨烯的特征峰(圖2d):1348 cm-1(D峰)、1586 cm-1(G峰)和2680cm-1(2D峰)。而且從不同點采集的數(shù)據(jù)具有相似的峰強和半高寬,證明石墨烯在整個藍寶石晶圓上分布均勻。拉曼光譜面掃描結(jié)果顯示,石墨烯的G峰強度在微米尺度內(nèi)幾乎一致,結(jié)果如圖2e所示。X射線光電子能譜(X-ray photoelectron spectroscopy,XPS)分析表明,C 1s XPS譜具有典型的石墨烯特征峰,C sp2峰(~284.8 eV),C―H峰(285.0 eV)和較寬的C―O峰(圖2g),證明石墨烯具有相當高的結(jié)晶質(zhì)量。此外,全譜中僅有C,Al,O元素(圖2f),證明該石墨烯生長過程不會引入其他金屬殘留,獲得的石墨烯/藍寶石襯底可直接適用于金屬有機化學氣相沉積(metal-organic chemical vapor deposition,MOCVD)體系,不會污染腔室。借助透射電子顯微鏡(transmission electron microscope,TEM)通過石墨烯的邊緣判斷直接生長的石墨烯薄膜層數(shù)大部分為單層(圖2h)。在球差校正掃描透射電子顯微鏡(spherical aberration corrected transmission electron microscope,STEM)下,可以看到完美的石墨烯原子相,再次表明在藍寶石襯底上直接生長的石墨烯具有較高的結(jié)晶性(圖2i)。另外電鏡數(shù)據(jù)也表明石墨烯的疇區(qū)尺寸較小,晶界密度較高。綜上,在藍寶石襯底上直接生長的石墨烯,非常均勻,結(jié)晶性良好,層數(shù)以單層為主,無金屬殘留,可作為新型外延襯底,滿足氮化物外延生長需求。
【參考文獻】:
期刊論文
[1]基于二維材料的Ⅲ族氮化物外延[J]. 譚曉宇,楊少延,李輝杰. 化學學報. 2017(03)
本文編號:2990537
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