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14nm物理設(shè)計(jì)中交叉結(jié)構(gòu)布線擁塞及多點(diǎn)時(shí)鐘樹(shù)門控時(shí)鐘時(shí)序問(wèn)題的研究

發(fā)布時(shí)間:2021-01-12 05:31
  隨著半導(dǎo)體工藝的特征尺寸不斷減小,器件開(kāi)始出現(xiàn)了短溝道效應(yīng)。該效應(yīng)使得器件在亞閾值時(shí)漏電流增大,并且使器件的閾值電壓也隨之降低,最終導(dǎo)致器件組成的芯片功耗增大和性能下降。為了達(dá)到提高芯片性能和降低功耗的目的,臺(tái)積電、三星、格羅方德等代工廠紛紛研發(fā)出了16/14nm、7nm工藝。先進(jìn)工藝給設(shè)計(jì)人員帶來(lái)了更大的設(shè)計(jì)靈活度,使得他們可以設(shè)計(jì)更復(fù)雜和性能更好的芯片。但先進(jìn)工藝也給物理設(shè)計(jì)的時(shí)序收斂和布局布線帶來(lái)了巨大的挑戰(zhàn)。本論文主要研究的是基于14nm FinFET工藝的后端物理設(shè)計(jì)中交叉結(jié)構(gòu)的布線擁塞及多點(diǎn)時(shí)鐘樹(shù)結(jié)構(gòu)下門控時(shí)鐘時(shí)序問(wèn)題。本文針對(duì)14nm工藝對(duì)物理設(shè)計(jì)的時(shí)序收斂和布局布線帶來(lái)的挑戰(zhàn),特別是交叉結(jié)構(gòu)(crossbar)的布線擁塞和多點(diǎn)時(shí)鐘樹(shù)結(jié)構(gòu)下的門控時(shí)鐘時(shí)序問(wèn)題,提出了一種有效的解決方法。并以一個(gè)位于大型SOC芯片中的百萬(wàn)門子模塊的物理實(shí)現(xiàn)為例,驗(yàn)證所提方案的有效性。對(duì)于交叉結(jié)構(gòu)的布線擁塞問(wèn)題,是通過(guò)結(jié)構(gòu)式布局的方法,對(duì)交叉結(jié)構(gòu)進(jìn)行了重新排列,解決了交叉結(jié)構(gòu)因布線擁塞問(wèn)題而引起的時(shí)序和設(shè)計(jì)規(guī)則違例問(wèn)題。仿真結(jié)果表明在進(jìn)行結(jié)構(gòu)式布局后,交叉結(jié)構(gòu)模塊的時(shí)序違例的負(fù)總量(TNS:T... 

【文章來(lái)源】:華南理工大學(xué)廣東省 211工程院校 985工程院校 教育部直屬院校

【文章頁(yè)數(shù)】:68 頁(yè)

【學(xué)位級(jí)別】:碩士

【部分圖文】:

14nm物理設(shè)計(jì)中交叉結(jié)構(gòu)布線擁塞及多點(diǎn)時(shí)鐘樹(shù)門控時(shí)鐘時(shí)序問(wèn)題的研究


FinFET的三維立體結(jié)構(gòu)圖

剖面圖,立體結(jié)構(gòu),剖面圖


圖 1-1 FinFET 的三維立體結(jié)構(gòu)圖圖 1-2 FinFET 立體結(jié)構(gòu)剖面圖圖 1-1 和圖 1-2 分別展示了 FinFET 的三維立體結(jié)構(gòu)圖以及剖面圖。如圖 1-1 所示,Tsi 為鰭的厚度,Lphys 為溝道長(zhǎng)度,p 為鰭的間距,h 為 fin 的高度,則 fin 的總寬度 W滿足 W=n*(2h+Tsi)。柵極包裹的結(jié)構(gòu)增強(qiáng)了柵的控制能力,對(duì)溝道提供了更好的電學(xué)

電容圖,電容,標(biāo)準(zhǔn)單元


第一章 緒論控制,從而降低了漏電流,抑制短溝道效應(yīng)[5]。FinFET 對(duì)物理設(shè)計(jì)的影響,主要體現(xiàn)在標(biāo)準(zhǔn)單元的設(shè)計(jì)、寄生參數(shù)提取、布局可制造性設(shè)計(jì)等方面。對(duì)于全定制電路設(shè)計(jì)來(lái)說(shuō),標(biāo)準(zhǔn)單元的制作要考慮更多的比如說(shuō)布線軌道的高度以及引腳的排布等。而對(duì)于半定制電路設(shè)計(jì),標(biāo)準(zhǔn)單元的會(huì)影響到布局布線的難易程度。三維 FinFET 結(jié)構(gòu)的柵控能力更強(qiáng),漏電流更小,同時(shí)器件本身的電學(xué)特性雜。三維 FinFET 結(jié)構(gòu)周圍的電場(chǎng)分布復(fù)雜,使其寄生電容的分析更加困難,F(xiàn)inF生電容的影響已經(jīng)逐漸超過(guò)器件本征電容,成為影響器件速度的主要因素之一。展示了 FinFET 器件的切面電容模型。

【參考文獻(xiàn)】:
期刊論文
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碩士論文
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[6]SOI器件的輻照效應(yīng)及電路加固技術(shù)的研究[D]. 潘琦.西安電子科技大學(xué) 2014
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[8]納米級(jí)MOSFETs的3D TCAD建模與結(jié)構(gòu)研究[D]. 甘程.電子科技大學(xué) 2014
[9]基帶芯片的低功耗時(shí)鐘系統(tǒng)設(shè)計(jì)[D]. 李宏孝.西安電子科技大學(xué) 2014
[10]互連線RC端角的研究與定制[D]. 夏婷婷.國(guó)防科學(xué)技術(shù)大學(xué) 2013



本文編號(hào):2972251

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