GaN/Si基綠光LED外延設計與效率提升研究
發(fā)布時間:2020-12-21 06:25
多基色無熒光粉高品質(zhì)白光照明被認為是半導體固態(tài)照明的終極方案,也是InGaN基LED的研究重點和發(fā)展方向。然而,在長波段區(qū)域(>500 nm),由于InGaN/GaN有源區(qū)晶體質(zhì)量退化和內(nèi)部存在的強極化電場等原因,導致GaN基LED的發(fā)光效率急劇下降,即眾所周知的“黃綠光鴻溝”。提升GaN基黃綠光波段的發(fā)光效率是實現(xiàn)多基色LED白光照明的關(guān)鍵性問題,目前仍存在著諸多技術(shù)挑戰(zhàn)。在此背景下,本文在國家硅基LED工程技術(shù)研究中心的平臺上,主要圍繞Si襯底GaN(GaN/Si)基綠光LED外延設計和效率提升展開了較系統(tǒng)的研究工作,研究了有源區(qū)生長、準備層結(jié)構(gòu)設計對GaN/Si基綠光LED性能的顯微結(jié)構(gòu)及發(fā)光性能的影響。取得的研究成果如下:1.研究了GaN/Si基綠光量子阱(QW)的熱穩(wěn)定性。研究發(fā)現(xiàn),高溫p型層的生長會引起低溫生長的InGaN QW發(fā)生嚴重的In擴散,導致大量的FL暗點形成。進一步研究發(fā)現(xiàn),In擴散起始于富In團簇,在富In團簇中觀察到大量的失配位錯/堆垛層錯,在In擴散嚴重的區(qū)域,In原子幾乎被耗盡,導致InGaN QW缺失。通過在生長完QW保護層后使用大流量的H
【文章來源】:南昌大學江西省 211工程院校
【文章頁數(shù)】:121 頁
【學位級別】:博士
【部分圖文】:
III-V族氮化物材料存在的三種晶體結(jié)構(gòu):(a)纖鋅礦、(b)巖鹽礦和(c)閃鋅礦
其帶隙可通過改變 Al 和 In 從 0.7 eV(InN)調(diào)至 6.2 eV(AlN),發(fā)射光譜范圍從紫外到紅外,如圖 1-1 所示,是一種理想的 LED 發(fā)光材料[7]。隨著 III-V 氮化物半導體材料和器件的發(fā)展,超高 InGaN 基藍綠光 LED 已經(jīng)商業(yè)化。表 1-2 列出了室溫下 GaN、AlN 和 InN 材料的基本物理參數(shù)。圖 1-2 III-V 族氮化物材料存在的三種晶體結(jié)構(gòu):(a)纖鋅礦、(b)巖鹽礦和(c)閃鋅礦
LED A和LED B在室溫下的PL光譜,LEDA的量子阱通過周期性中斷In源和法生長;LED B的InGaN量子阱通過傳統(tǒng)法生長長速率和V/Ⅲ比對InGaN/GaN的晶體質(zhì)量也有著重要影響。在MOaN量子阱時,高的生長速率可以提高InGaN量子阱中的In含量,但InGaN量子阱的晶體質(zhì)量變差,C雜質(zhì)濃度增大等問題。NH3是N源于InGaN黃綠光量子阱的生長溫度很低,NH3的裂解效率很低,容重不足,在InGaN量子阱中留下大量的N空位,還降低了量子阱中的的In容易在表面偏析形成In團簇、甚至In滴,嚴重惡化InGaN量子。因此,生長InGaN黃綠光量子阱一般需要很高的V/Ⅲ比。增大VN源,但過大也會加劇TMGa與NH3之間的加合預反應,導致量子阱、In并入效率降低、晶體質(zhì)量嚴重惡化。同時過量的NH3在裂解提,還會分解產(chǎn)生H2會進一步降低In的并入、破壞量子阱壘界面。比如9]研究發(fā)現(xiàn)一定量的V/Ⅲ可以提高InGaN量子阱的In并入以及發(fā)光強但V/Ⅲ高到一定程度后將會明顯減少InGaN量子阱中的In含量,以性能。為了避免加和預反應,Du等人[60]通過采用周期性中斷In源
【參考文獻】:
期刊論文
[1]Electroluminescence from the InGaN/GaN Superlattices Interlayer of Yellow LEDs with Large V-Pits Grown on Si(111)[J]. 陶喜霞,莫春蘭,劉軍林,張建立,王小蘭,吳小明,徐龍權(quán),丁杰,王光緒,江風益. Chinese Physics Letters. 2018(05)
[2]Structural characterization of indium-rich nanoprecipitate in InGaN V-pits formed by annealing[J]. 薛俊俊,蔡青,張保花,葛梅,陳敦軍,智婷,陳將偉,汪聯(lián)輝,張榮,鄭有炓. Chinese Physics B. 2017(11)
[3]第三代半導體Ⅲ族氮化物的物理與工程——從基礎物理到產(chǎn)業(yè)發(fā)展的典范[J]. 榮新,李順峰,葛惟昆. 物理與工程. 2017(06)
[4]五基色LED照明光源技術(shù)進展[J]. 劉軍林,莫春蘭,張建立,王光緒,徐龍權(quán),丁杰,李樹強,王小蘭,吳小明,潘拴,方芳,全知覺,鄭暢達,郭醒,陳芳,江風益. 照明工程學報. 2017(01)
[5]壘溫對硅襯底GaN基藍光LED發(fā)光效率的影響[J]. 高江東,劉軍林,徐龍權(quán),王光緒,丁杰,陶喜霞,張建立,潘拴,吳小明,莫春蘭,王小蘭,全知覺,鄭暢達,方芳,江風益. 發(fā)光學報. 2016(02)
[6]硅襯底高光效GaN基藍色發(fā)光二極管[J]. 江風益,劉軍林,王立,熊傳兵,方文卿,莫春蘭,湯英文,王光緒,徐龍權(quán),丁杰,王小蘭,全知覺,張建立,張萌,潘拴,鄭暢達. 中國科學:物理學 力學 天文學. 2015(06)
[7]GaN基發(fā)光二極管襯底材料的研究進展[J]. 陳偉超,唐慧麗,羅平,麻尉蔚,徐曉東,錢小波,姜大朋,吳鋒,王靜雅,徐軍. 物理學報. 2014(06)
[8]MOCVD GaN/InN/GaN量子阱的應變表征[J]. 王元樟,林偉,李書平,陳航洋,康俊勇,張小英. 廈門理工學院學報. 2011(03)
博士論文
[1]高光效硅襯底GaN基黃光發(fā)光二極管發(fā)光性能研究[D]. 陶喜霞.南昌大學 2018
[2]氮化物多量子阱結(jié)構(gòu)光電器件性能研究[D]. 吳海燕.中國科學院大學(中國科學院物理研究所) 2018
[3]準備層及量子阱區(qū)生長條件對Si襯底GaN基LED性能影響的研究[D]. 齊維靖.南昌大學 2018
[4]含V形坑的Si襯底GaN基藍光LED發(fā)光性能研究[D]. 吳小明.南昌大學 2014
[5]硅基GaN外延膜生長與LED性能提升研究[D]. 鄭暢達.南昌大學 2014
[6]InGaN/GaN低維量子阱結(jié)構(gòu)的制備及其發(fā)光性質(zhì)研究[D]. 楊國鋒.南京大學 2013
[7]AlInGaN半導體薄膜的MOVPE生長和光電特性研究[D]. 王東博.哈爾濱工業(yè)大學 2013
[8]硅基LED量子阱相關(guān)特性及芯片p面技術(shù)研究[D]. 王光緒.南昌大學 2012
[9]GaN材料的缺陷分布及工藝設計對器件性能的影響研究[D]. 王福學.南京大學 2011
本文編號:2929359
【文章來源】:南昌大學江西省 211工程院校
【文章頁數(shù)】:121 頁
【學位級別】:博士
【部分圖文】:
III-V族氮化物材料存在的三種晶體結(jié)構(gòu):(a)纖鋅礦、(b)巖鹽礦和(c)閃鋅礦
其帶隙可通過改變 Al 和 In 從 0.7 eV(InN)調(diào)至 6.2 eV(AlN),發(fā)射光譜范圍從紫外到紅外,如圖 1-1 所示,是一種理想的 LED 發(fā)光材料[7]。隨著 III-V 氮化物半導體材料和器件的發(fā)展,超高 InGaN 基藍綠光 LED 已經(jīng)商業(yè)化。表 1-2 列出了室溫下 GaN、AlN 和 InN 材料的基本物理參數(shù)。圖 1-2 III-V 族氮化物材料存在的三種晶體結(jié)構(gòu):(a)纖鋅礦、(b)巖鹽礦和(c)閃鋅礦
LED A和LED B在室溫下的PL光譜,LEDA的量子阱通過周期性中斷In源和法生長;LED B的InGaN量子阱通過傳統(tǒng)法生長長速率和V/Ⅲ比對InGaN/GaN的晶體質(zhì)量也有著重要影響。在MOaN量子阱時,高的生長速率可以提高InGaN量子阱中的In含量,但InGaN量子阱的晶體質(zhì)量變差,C雜質(zhì)濃度增大等問題。NH3是N源于InGaN黃綠光量子阱的生長溫度很低,NH3的裂解效率很低,容重不足,在InGaN量子阱中留下大量的N空位,還降低了量子阱中的的In容易在表面偏析形成In團簇、甚至In滴,嚴重惡化InGaN量子。因此,生長InGaN黃綠光量子阱一般需要很高的V/Ⅲ比。增大VN源,但過大也會加劇TMGa與NH3之間的加合預反應,導致量子阱、In并入效率降低、晶體質(zhì)量嚴重惡化。同時過量的NH3在裂解提,還會分解產(chǎn)生H2會進一步降低In的并入、破壞量子阱壘界面。比如9]研究發(fā)現(xiàn)一定量的V/Ⅲ可以提高InGaN量子阱的In并入以及發(fā)光強但V/Ⅲ高到一定程度后將會明顯減少InGaN量子阱中的In含量,以性能。為了避免加和預反應,Du等人[60]通過采用周期性中斷In源
【參考文獻】:
期刊論文
[1]Electroluminescence from the InGaN/GaN Superlattices Interlayer of Yellow LEDs with Large V-Pits Grown on Si(111)[J]. 陶喜霞,莫春蘭,劉軍林,張建立,王小蘭,吳小明,徐龍權(quán),丁杰,王光緒,江風益. Chinese Physics Letters. 2018(05)
[2]Structural characterization of indium-rich nanoprecipitate in InGaN V-pits formed by annealing[J]. 薛俊俊,蔡青,張保花,葛梅,陳敦軍,智婷,陳將偉,汪聯(lián)輝,張榮,鄭有炓. Chinese Physics B. 2017(11)
[3]第三代半導體Ⅲ族氮化物的物理與工程——從基礎物理到產(chǎn)業(yè)發(fā)展的典范[J]. 榮新,李順峰,葛惟昆. 物理與工程. 2017(06)
[4]五基色LED照明光源技術(shù)進展[J]. 劉軍林,莫春蘭,張建立,王光緒,徐龍權(quán),丁杰,李樹強,王小蘭,吳小明,潘拴,方芳,全知覺,鄭暢達,郭醒,陳芳,江風益. 照明工程學報. 2017(01)
[5]壘溫對硅襯底GaN基藍光LED發(fā)光效率的影響[J]. 高江東,劉軍林,徐龍權(quán),王光緒,丁杰,陶喜霞,張建立,潘拴,吳小明,莫春蘭,王小蘭,全知覺,鄭暢達,方芳,江風益. 發(fā)光學報. 2016(02)
[6]硅襯底高光效GaN基藍色發(fā)光二極管[J]. 江風益,劉軍林,王立,熊傳兵,方文卿,莫春蘭,湯英文,王光緒,徐龍權(quán),丁杰,王小蘭,全知覺,張建立,張萌,潘拴,鄭暢達. 中國科學:物理學 力學 天文學. 2015(06)
[7]GaN基發(fā)光二極管襯底材料的研究進展[J]. 陳偉超,唐慧麗,羅平,麻尉蔚,徐曉東,錢小波,姜大朋,吳鋒,王靜雅,徐軍. 物理學報. 2014(06)
[8]MOCVD GaN/InN/GaN量子阱的應變表征[J]. 王元樟,林偉,李書平,陳航洋,康俊勇,張小英. 廈門理工學院學報. 2011(03)
博士論文
[1]高光效硅襯底GaN基黃光發(fā)光二極管發(fā)光性能研究[D]. 陶喜霞.南昌大學 2018
[2]氮化物多量子阱結(jié)構(gòu)光電器件性能研究[D]. 吳海燕.中國科學院大學(中國科學院物理研究所) 2018
[3]準備層及量子阱區(qū)生長條件對Si襯底GaN基LED性能影響的研究[D]. 齊維靖.南昌大學 2018
[4]含V形坑的Si襯底GaN基藍光LED發(fā)光性能研究[D]. 吳小明.南昌大學 2014
[5]硅基GaN外延膜生長與LED性能提升研究[D]. 鄭暢達.南昌大學 2014
[6]InGaN/GaN低維量子阱結(jié)構(gòu)的制備及其發(fā)光性質(zhì)研究[D]. 楊國鋒.南京大學 2013
[7]AlInGaN半導體薄膜的MOVPE生長和光電特性研究[D]. 王東博.哈爾濱工業(yè)大學 2013
[8]硅基LED量子阱相關(guān)特性及芯片p面技術(shù)研究[D]. 王光緒.南昌大學 2012
[9]GaN材料的缺陷分布及工藝設計對器件性能的影響研究[D]. 王福學.南京大學 2011
本文編號:2929359
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