為保證半導(dǎo)體激光打標(biāo)機(jī)F-θ鏡頭的掃描質(zhì)量,實(shí)現(xiàn)系統(tǒng)像高與掃描角的線性變化,需對(duì)F-θ鏡頭給予一定的畸變量,并使其滿足等暈條件。分析F-θ鏡頭工作原理及像差要求,根據(jù)1 064 nm半導(dǎo)體激光打標(biāo)機(jī)的光源成像要求選擇合適的玻璃材料,合理分配每片透鏡的光焦度,以保證等暈成像;根據(jù)F-θ鏡頭線性成像要求,計(jì)算系統(tǒng)總畸變量為1.6%,系統(tǒng)總畸變量為系統(tǒng)的實(shí)際桶形畸變與相對(duì)畸變量之和;在光學(xué)系統(tǒng)優(yōu)化設(shè)計(jì)時(shí),引入這兩項(xiàng)優(yōu)化參數(shù),優(yōu)化過(guò)程中觀察系統(tǒng)成像變化情況。設(shè)計(jì)結(jié)果表明:系統(tǒng)MTF曲線接近衍射極限,F-θ鏡頭相對(duì)畸變小于0.36%,各視場(chǎng)均方根半徑均小于艾里斑直徑,并且整個(gè)系統(tǒng)70%的能量集中在直徑為16μm的圓內(nèi),系統(tǒng)總畸變量為1.58%,滿足設(shè)計(jì)指標(biāo)要求。 

【文章來(lái)源】：應(yīng)用光學(xué). 2020年01期 北大核心

【文章頁(yè)數(shù)】：7 頁(yè)

【參考文獻(xiàn)】：
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本文編號(hào)：2924204