面向科學(xué)級(jí)CCD控制器的通用測(cè)試系統(tǒng)的設(shè)計(jì)與實(shí)現(xiàn)
【學(xué)位單位】:中國(guó)科學(xué)技術(shù)大學(xué)
【學(xué)位級(jí)別】:碩士
【學(xué)位年份】:2019
【中圖分類】:TN386.5
【部分圖文】:
MOS電容器是CCD內(nèi)部最基本的單元,它是金屬一氧化物一半導(dǎo)體(MOS)??器件結(jié)構(gòu)。首先在P型或N型硅襯底上生長(zhǎng)一層約120nm厚的二氧化硅,然后??在二氧化硅薄層上依次沉積金屬電極(柵極),就形成了如圖1.2所示規(guī)律的MOS??電容器陣列。通過在MOS電容器兩端加上輸入、輸出二極管就形成了?CCD芯??片。由于半導(dǎo)體內(nèi)的光生伏特效應(yīng)[2],當(dāng)光子入射時(shí),MOS電容器中的半導(dǎo)體材??料會(huì)激發(fā)出電子。當(dāng)向二氧化硅表面的金屬電極上施加正向偏壓UG時(shí),如果UG??大于閾值電壓Uth,將會(huì)在硅襯底中形成耗盡區(qū),即所謂的勢(shì)阱。通過對(duì)UG進(jìn)行??一定順序的控制,可以將電荷從一個(gè)像元轉(zhuǎn)移到另一個(gè)像元,直到全部電荷包轉(zhuǎn)??9??
圖1.2?CCD的MOS電容器??下面以典型的三相CCD電荷轉(zhuǎn)移過程為例進(jìn)行介紹。當(dāng)柵極①施加10V的??電壓時(shí),電荷積累在其襯底下形成勢(shì)阱如圖1.3?(a)所示。隨后,當(dāng)柵極①和②??同時(shí)施加10V的電壓時(shí),會(huì)在其共同的襯底中產(chǎn)生一個(gè)新勢(shì)阱,存放著原來積??聚在柵極①勢(shì)阱中的電荷,如圖1.3?(be)所示。當(dāng)柵極①施加的電壓從10V變??為2V時(shí),勢(shì)阱再次發(fā)生變化同時(shí)伴隨著電荷從柵極①勢(shì)阱轉(zhuǎn)移到柵極②勢(shì)阱,??如圖1.3?(de)所示。對(duì)于三相CCD,每一個(gè)像元都由共同的三個(gè)時(shí)鐘控制,即??01、<&2、03,如圖1.3?(f)所示。當(dāng)OK?(D2、03進(jìn)行規(guī)律的時(shí)序變換時(shí),所??有像元內(nèi)積聚的電荷都將同時(shí)轉(zhuǎn)移到下一像元,最后轉(zhuǎn)移到輸出級(jí)依次輸出。??③?①??????③??2V10V?2V?2V?2V10V?2-10V2V?2V10V10V2V??—?義)講??①②③?①@③??2V10V-^2V10V2V?2V?2V10V?2V?,??9?9?9?9?叫-roj^??電荷移動(dòng)??(d)?(e)?(fl??圖1.3三相CCD中電荷的轉(zhuǎn)移過程??圖1.4左是CCD片內(nèi)的輸出結(jié)構(gòu)
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本文編號(hào):2871797
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