電極接觸質(zhì)量對(duì)紅熒烯單晶場(chǎng)效應(yīng)晶體管性能影響的研究
【學(xué)位單位】:東北師范大學(xué)
【學(xué)位級(jí)別】:碩士
【學(xué)位年份】:2019
【中圖分類】:TN386
【文章目錄】:
摘要
Abstract
第一章 緒論
1.1 引言
1.2 有機(jī)場(chǎng)效應(yīng)晶體管簡(jiǎn)介
1.2.1 有機(jī)場(chǎng)效應(yīng)晶體管基本結(jié)構(gòu)
1.2.2 有機(jī)場(chǎng)效應(yīng)晶體管的基本工作原理
1.2.3 有機(jī)場(chǎng)效應(yīng)晶體管的特性曲線和基本參數(shù)
1.3 電極/半導(dǎo)體界面性質(zhì)對(duì)器件性能的影響
1.3.1 常見(jiàn)電極制備方法
1.3.2 改善電荷注入的常見(jiàn)方法
1.4 開(kāi)爾文探針力顯微鏡(KPFM)相關(guān)理論與應(yīng)用
1.4.1 KPFM相關(guān)理論
1.4.2 KPFM測(cè)定有機(jī)場(chǎng)效應(yīng)晶體管中的接觸電阻
1.5 電極制備過(guò)程中的熱輻射損傷問(wèn)題研究現(xiàn)狀
1.6 本文選題依據(jù)
第二章 探究真空蒸鍍過(guò)程中熱損傷對(duì)紅熒烯場(chǎng)效應(yīng)晶體管性能的影響
2.1 引言
2.2 紅熒烯單晶場(chǎng)效應(yīng)晶體管的制備
2.2.1 紅熒烯單晶的提純和生長(zhǎng)
2.2.2 紅熒烯單晶場(chǎng)效應(yīng)晶體管的制備
2.3 探究熱損傷對(duì)OFETs性能的影響
2.3.1 器件場(chǎng)效應(yīng)性能
2.3.2 接觸電阻
2.4 本章小結(jié)
第三章 熱輻射損傷本質(zhì)的研究
3.1 引言
3.2 熱輻射對(duì)紅熒烯場(chǎng)效應(yīng)器件性能的影響
3.2.1 器件制備
3.2.2 電學(xué)性能
3.3 探究熱輻射的本質(zhì)
3.3.1 紅熒烯晶體功函數(shù)的變化
3.3.2 晶格缺陷
3.4 熱輻射對(duì)n型場(chǎng)效應(yīng)晶體管性能影響的研究
3.4.1 TIPS-TAP晶體陣列的生長(zhǎng)
3.4.2 TIPS-TAP場(chǎng)效應(yīng)晶體管的制備及性能測(cè)試
3.5 本章小結(jié)
第四章 探究電極臺(tái)階對(duì)紅熒烯器件性能的影響
4.1 引言
4.2 柔性內(nèi)嵌電極器件的制備及性能
4.2.1 柔性內(nèi)嵌電極的制備
4.2.2 基于內(nèi)嵌電極的紅熒烯單晶器件的性能表征
4.3 本章小結(jié)
第五章 結(jié)論
參考文獻(xiàn)
致謝
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本文編號(hào):2870549
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